Die Erfindung bezieht sich auf ein Gerät zur Erzeugung
eines Musters auf einem eine strahlungsempfindliche Schicht
aufweisenden Werkstück nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1.
Bei der photolithographischen Herstellung von integrierten
Schaltungen werden Strahlungs- oder Teilchenenergie-sensitive
Schichten in vorgegebenen Mustern bestrahlt, um die Schaltungs
merkmale zu definieren. In einigen Fällen wird die Energie
durch die Muster definierende Masken geschickt, wodurch eine
Photolacksicht auf einem Halbleiterkörper selektiv bestrahlt
wird. In anderen Fällen ist die Schicht auf einem Masken
substrat und wird in einem Schritt bei der Herstellung der
Maske bestrahlt. In anderen Fällen wird die Richtung der Strah
lungsenergie selbst gesteuert, um Muster in der Schicht zu
definieren. Dies kann im Zuge der Herstellung einer Maske
geschehen oder direkt durch "Schreiben" auf die ein Halbleiter
scheibchen überziehende Photolackschicht.
Einige Strahlungsenergiequellen wurden verwendet, ein
schließlich ultraviolettes Licht, sichtbares Licht, kohärentes
Licht, Röntgenstrahlen und Elektronenstrahlen (E-Strahlen).
In den frühen Zeiten der photolithographischen Technik wur
den Muster von Hand in vergleichsweise stark vergrößertem Maß
stab graviert und danach photographisch verkleinert, um die
endgültigen Masken herzustellen. In der heutigen Technik werden
E-Strahlen elektrisch geeignet gerichtet, um die Muster teil
weise in dem endgültigen Maßstab zu definieren.
Es gab einige Versuche zur Herstellung von Masken durch
Bestrahlung mit Laserstrahlen und/oder durch Bewegung eines
Werkstücks relativ zu den Laserstrahlen bzw. -strahlenbündeln.
Keiner dieser Versuche war kommerziell nutzbar. Wie zu sehen
sein wird, ist die Erfindung auf dieses Gebiet gerichtet.
Die generelle Mustererzeugung ist in den US-PS'n 2 465 091,
4 060 816 und 4 464 030 beschrieben. Einige Aspekte der UV-
Masken-Herstellungstechnologie sind in den US-PS'n 4 293 624
und 4 329 410 beschrieben. Die E-Strahlen-Technologie ist in
den US-PS'n 3 679 497, 3 857 041 und 4 445 039 erörtert. Die
Lasermustererzeugung ist beschrieben in den US-PS'n 3 537 854,
3 622 742, 3 797 935, 3 925 785, 4 110 594 und 4 422 033.
Bei der Erfindung werden akusto-optische Modulatoren (AOM)
zum Modulieren eines Laserstrahlbündels verwendet. In diesen
Modulatoren bewirkt eine sich im Kristall ausbreitende Schall
welle eine Lichtbeugung, wodurch eine Modulation des Lichts
ermöglicht wird. Dieses Phänomen ist seit vielen Jahren bekannt
und beispielsweise in einem Artikel mit der Bezeichnung
"Acousto-optic Bragg Diffraction Devices and their Applica
tions" von Walter Baronian, IEEE 74 Region 6 Conference, begin
nend auf Seite 70, beschrieben. Die Verwendung von akusto-opti
schen Modulatoren zum elektronischen Drucken ist in "Laser
Scanning for Electronic Printing", Proceeding of the IEEE, Band
70, Nr. 6, Juni 1982, beginnend auf Seite 597, beschrieben.
In der US-PS 4 110 796 wird eine Abtasteinrichtung be
schrieben, bei der der den photoempfindlichen Film tragende
Werkstückhalter zur Abtastung in Umlauf versetzt wird.
Aus der US-PS 4 393 387 ist eine Abtasteinrichtung bekannt,
bei der die Abtastung mit einem rotierenden Polygonspiegel
bewirkt wird. Ein als Bildrotierer arbeitendes Prisma ist im
Strahlengang vor dem Polygonspiegel angeordnet und ermöglicht
eine Variation der Abtastdichte.
In der US-PS 4 000 493 wird eine gattungsgemäße Einrichtung
beschrieben, bei der eine photoempfindliche Schicht eines Werk
stücks unter Verwendung eines Lasers, einer akusto-optischen
Modulationseinrichtung und eines rotierenden Prismas abgetastet
wird. Das von dem Laser erzeugte Strahlbündel wird durch die
Modulationseinrichtung geführt, an die elektrische Signale
unterschiedlicher Frequenz angelegt werden. Auf diese Weise
werden mehrere modulierte Strahlbündel erzeugt. Diese modulier
ten Strahlbündel werden auf das rotierende Prisma gerichtet,
welches eine Abtastung des Werkstücks bewirkt. Bei dieser Ein
richtung ist eine Justierung des Prismas im Strahlengang zwi
schen Laser und Werkstück sehr aufwendig, da die ganze Abbil
dungsoptik bei der Justierung mitbewegt werden muß.
Aufgabe der Erfindung ist es, bei einer gattungsgemäßen
Einrichtung eine Einstellmöglichkeit für die Strahlwinkel auf
dem rotierenden Spiegel zu schaffen.
Diese Aufgabe wird gelöst durch die Merkmale des Anspruchs
1.
Bei einem bevorzugten Ausführungsbeispiel des erfindungs
gemäßen Gerätes zur Erzeugung eines Musters auf einem eine
strahlungsempfindliche Schicht tragenden Werkstück ist ein
Laser als Strahlungsenergiequelle vorgesehen, dessen Strahl
bündel in mehrere Teilstrahlbündel aufgeteilt wird. Diese
Teilstrahlbündel werden durch akusto-optische Modulatoren
geschickt, die mit die Muster definierenden elektrischen
Signalen beaufschlagt werden. Ein rotierender Spiegel mit
mehreren Facetten lenkt die Strahlbündel vom Modulator in
Abtastmuster ab, während das Werkstück bewegt wird. Daher wird
das Werkstück in einer rasterartigen Abtastung geschrieben.
Eine vergrößerte Zwischenebene wird hinter dem rotierenden
Spiegel mit einer F-Theta-Linse errichtet; aus dieser Ebene
wird Licht zur Systemkontrolle entnommen. Ein Strahlenteiler in
dieser Ebene bewirkt eine Ablenkung eines Strahlbündels aus
dieser Ebene. Diese Strahlbündel wird zur Schaffung eines mit
der Spiegelrotation synchronisierten Zeitgabesignals verwendet.
Der gleiche Strahlenteiler dient zum Ablenken eines von dem
Werkstück in eine Photovielfacherröhre reflektierten Strahlbün
dels. Dieses Strahlbündel dient zur Bestimmung der Lage des
Werkstücks (z. B. zum Kalibrieren).
Weitere Merkmale der Erfindung sind in den Ansprüchen
gekennzeichnet. Im folgenden wird die Erfindung anhand eines in
der Zeichnung schematisch dargestellten Ausführungsbeispiels
näher erläutert. In der Zeichnung zeigen:
Fig. 1 ein optisches Blockschaltbild unter Darstellung des
gesamten optischen Strahlengangs des beschriebenen
Ausführungsbeispiels;
Fig. 2 eine Seitenansicht des Geräts in schematischer Form
zur Prinzipdarstellung der Lage der Linsen im opti
schen Strahlengang und deren Beziehung zum Werk
stückhalter;
Fig. 3 eine schematische Darstellung eines Ausführungs
beispiels einer bei dem beschriebenen Gerät ver
wendeten Strahlenteileranordnung;
Fig. 4 eine Seitenansicht eines der bei der Strahlentei
leranordnung gemäß Fig. 3 verwendeten Teilers;
Fig. 5 ein Schaltbild der in der Nachabtast
bildebene verwendeten Linsen;
Fig. 6 eine Draufsicht auf den Werkstückhalter und dessen
Beziehung zu Interferometern, die zur Lagebestim
mung des Werkstückhalters oder des Werkstücks
verwendet werden;
Fig. 7 eine Seitenansicht der Struktur gemäß Fig. 6 mit
einer Darstellung der Lage der Struktur relativ
zur Reduktion des optischen Strahlengangs;
Fig. 8 ein Diagramm zur Darstellung der Abtastmuster
(Plattenschreibstrategie) bei dem beschriebenen
Ausführungsbeispiel;
Fig. 9 die zur Bildung einer "Bürste" verwendeten Laser
strahlbündel; und
Fig. 10 ein Zeitdiagramm zur Beschreibung gewisser Aspek
te der Erfindung.
Beschrieben wird ein Gerät zur Erzeugung eines Laserstrahlmu
sters, das zur Belichtung lichtempfindlicher Schichten, z. B.
Photolackschichten bei der Herstellung von integrierten Schal
tungen besonders geeignet ist. In der folgenden Beschreibung
werden zahlreiche spezielle Einzelheiten angegeben, z. B. be
sondere Wellenlängen, Linsen usw., um das Verständnis für die
Erfindung zu erleichtern. Es ist jedoch für den Fachmann klar,
daß die Erfindung ohne diese besonderen Einzelheiten reali
siert werden kann. In anderen Fällen werden bekannte Struktu
ren, Trägerbauteile usw., die für die vorliegende Erfindung
nicht notwendig sind, nicht im einzelnen erläutert, um die
Erfindung bzw. deren Beschreibung nicht mit unnötigen Einzel
heiten zu belasten.
Das erfindungsgemäße Mustererzeugungsgerät weist ein Laser
strahlbündel zur Belichtung einer strahlungsempfindlichen
Schicht auf. Das Laserstrahlbündel wird in acht Strahlbündel
aufgeteilt, um eine Bürste zu erzeugen. Mit der Bürste wird
das Werkstück unter Verwendung eines rotierenden Spiegels
abgetastet. Jedes (Teil-)Strahlbündel der Bürste wird mit
Hilfe von akusto-optischen Modulatoren moduliert. Die in diese
Modulatoren gekoppelten elektrischen Signale bestimmen das
speziell erzeugte Muster.
Das die lichtempfindliche Schicht tragende Werkstück ist auf
einem beweglichen Tisch montiert, der sich während der Abta
stung entlang einer Achse bewegt (Streifenachse). Der Tisch
bewegt sich auch in der Abtastachse, wenn kein Schreibvorgang
stattfindet. Interferometer bestimmen die Bewegung des Werk
stücks entlang diesen Achsen bzw. Richtungen. Eine Bestimmung
der Werkstücklage relativ zur Strahlposition wird aus reflek
tiertem Licht in einer telezentrischen vergrößerten Bildebene
vorgenommen. Dieselbe Bildebene wird zur Spiegel-Facettenbe
stimmung verwendet, wodurch eine Datensynchronisation mit den
akusto-optischen Modulatoren ermöglicht wird.
OPTISCHER STRAHLENGANG DES GERÄTS
In dem in Fig. 1 dargestellten Ausführungsbeispiel ist ein
kontinuierlicher Laser 10 vorgesehen, der 100 bis 200 mw
Strahlungsleistung bei einer Frequenz von 363,8 nm liefert. Das
Strahlenbündel vom Laser 10 wird mittels eines gewöhnlichen
Strahlenkompressors 12 zur Vorbereitung des Strahlenbündels
für die Strahlaufteilung komprimiert.
Ein Mehrfachstrahlenteiler 13 teilt das Strahlenbündel des
Lasers 10 in acht Teilstrahlbündel. Die spezielle optische
Anordnung für diese Strahlaufteilung wird in Verbindung mit
den Fig. 3 und 4 beschrieben. Die acht Strahlenbündel vom
Strahlenteiler 13 (die teilweise gemeinsam als die "Bürste"
bezeichnet werden) durchlaufen Relaislinsen 14. Die 3-Elemen
ten-Linse (gezeigt in Fig. 2) fokussiert bzw. schnürt die vom
Strahlenteiler 13 kommenden Strahlbündel um angenähert einen
Faktor von 2 ein.
Im Handel erhältliche akusto-optische Modulatoren (AOMs) 16
dienen zur Modulation der Lichtstrahlbündel. Bei dem beschrie
benen Ausführungsbeispiel sind acht Wandler auf der Oberfläche
eines einzigen Kristalls bzw. Quarzes gebildet. Verwendet wird
ein Träger von 160 MHz, d. h. das Vorhandensein des Trägers
bestimmt, ob das Strahlbündel durch den Kristall auf das Werk
stück gebeugt wird; die Amplitude des Trägers bestimmt die
Intensität des Strahlbündels. (Der Strahl der nullten Beu
gungsordnung wird nicht verwendet.)
Acht modulierte Strahlbündel (im folgenden z. T. Strahlen ge
nannt) können aus einem einzigen Strahlbündel unter Verwendung
eines einzigen AOM gewonnen werden, wobei acht Trägerfrequen
zen verwendet werden. Die Beugung von dem AOM ist eine Funk
tion der Frequenz, und jede Trägerfrequenz erzeugt einen sepa
raten Strahl. Alternativ können elektro-optische Modulatoren
anstelle AOM's verwendet werden.
Die acht Strahlen von dem AOM werden durch ein
Dove-Prisma 17 gerichtet. Dieses Prisma wird zum Drehen der
Strahlbürste verwendet, und, obwohl dies nicht ohne weiteres
in der Ansicht gemäß Fig. 1 darstellbar ist, werden die
Strahlen tatsächlich aus der Bildebene in der Figur ausge
schwenkt. Die letzte von den Strahlen gebildete Bürste enthält
überlappende Projektionen jedes der Strahlen bzw. Strahlenbün
del ohne Interferenz zwischen den Strahlen, da zusätzlich zur
Drehung vom Prisma 17 eine Zeitverzögerung zwischen der Akti
vierung jedes der Strahlen verwendet wird. Ohne diese Maßnahme
könnte sich eine ungleichförmige Belichtung der Photolack
schicht ergeben.
Die Strahlen vom Prisma 17 durchlaufen die einzelne Relaislin
se 18 und konvergieren auf einen Punkt auf einem Steuerspiegel
20. Bei dem beschriebenen Ausführungsbeispiel hat dieser Punkt
einen Durchmesser von etwa 1,5 mm. Der Steuerspiegel 20 ist ein
elektrisch steuerbarer Spiegel, der eine (Einstell-)Bewegung
der Strahlwinkel auf den Facetten enthaltenden Spiegel 24
ermöglicht. Die vom Spiegel 20 reflektierten Strahlen durch
laufen eine Variooptik 22, welche die in Fig. 2 gezeigten
vier Elemente enthält. Diese Variooptik ermöglicht eine Ver
größerung und stärkere Spreizung der Strahlen oder eine Ver
kleinerung und engere Zusammenführung der Strahlen auf dem
Werkstück. Diese Variooptik wird elektrisch gesteuert und für
jedes Werkstück eingestellt. Der rotierende Polygonspiegel 24
weist bei dem beschriebenen Ausführungsbeispiel vierundzwanzig
Facetten auf, von denen jede die Strahlen von der Variooptik
22 in eine F-Theta-Linse 26 ablenkt. Es ist dieser Spiegel,
der die Abtastwirkung der Strahlen bzw. Strahlbündel hervor
ruft. Bei dem beschriebenen Ausführungsbeispiel dreht sich
dieser Spiegel mit einer Geschwindigkeit von 12000 bis 20000
Upms; daher treten die Abtastungen mit einer Frequenz zwischen
48 kHZ und 80 kHz pro Sekunde auf. Der Spiegel dreht sich
jedoch mit einer konstanten Geschwindigkeit bei einem vorge
gebenen Muster.
Die Strahlen aus dem Spiegel 24 werden in einer Nachabtast
-Zwischenbildebene vergrößert (10 × Bildebene), wie in Fig. 1
gezeigt ist. An einem Ende dieser Ebene ist eine F-Theta-Linse
26 vorgesehen, die zur Bildung der Ebene verwendet wird, und
am anderen Ende wird eine Reduktionslinse zur Entwicklung der
endgültigen Strahlen bzw. Strahlbündel verwendet. Der endgül
tige reduzierte Strahl tastet die Platte oder das Werkstück 34
ab. Die Linsen der F-Theta-Linsenanordnung und der Reduktions
linse 32 sind in Fig. 5 gezeigt.
Ein Strahlenteiler 28 ist in der 10 × Bildebene angeordnet. Wie
weiter unten beschrieben werden wird, wird einer der Strahlen
vor jeder Abtastung aktiviert und zur Bestimmung der Spiegel
facetten verwendet. Der Strahl wird am Strahlenteiler 28 auf
eine Facetten-Detektorschaltung reflektiert, die einen die
Facetten-Position angebenden Impuls erzeugt. Dieser ermöglicht
die Synchronisation der dem AOM 16 zugeführten Musterdaten mit
der Spiegelrotation. Reflexionen vom Werkstück 34 (oder dem
Werkstückhalter) werden ebenfalls vom Strahlenteiler 28 re
flektiert und in eine Photovervielfacherröhre fokussiert.
Diese Reflexionen werden zur Kalibrierung und zu anderen
Zwecken verwendet, wie weiter unten beschrieben werden wird.
Ein Verschluß 30 arbeitet in der 10 × Bildebene. Dieser Ver
schluß sorgt dafür, daß Licht nur während des Abtastens oder
anderer vorgegebenen Zeitphasen, z. B. beim Kalibrieren, das
Werkstück erreicht.
In Fig. 2 ist der tatsächliche optische Strahlengang in dem
beschriebenen und realisierten Ausführungsbeispiel gezeigt.
Der Laser, Linsen, der rotierende Spiegel usw. sind an einem
starren Metallrahmen 45 angebracht. Der Rahmen wird von Me
tallstützen 46 und 47 getragen, welche an einem einzigen Gra
nitbauteil zur Minimierung von Bewegungen montiert sind. Das
Werkstück oder die Platte ist auf einem Werkstück- bzw. Teile
halter befestigt, und diese Anordnung wird unter der Reduk
tionslinse 32 vorbeibewegt, wie nachfolgend beschrieben werden
wird.
Im optischen Strahlengang gemäß Fig. 2 bezeichnet "L" Linsen,
"F" Brennpunkte und "AF" afokale Punkte.
Das Laserstrahlbündel durchläuft Linsen L1 und L2, die den
Strahlbündelkompressor 12 in Fig. 1 bilden. Das Strahlbündel
wird sodann in den Strahlenteiler 13 fokussiert, der weiter
unten unter Bezugnahme auf die Fig. 3 und 4 erläutert wer
den wird.
Die Relaislinsen 14 der Fig. 1 sind durch Linsen L3, L4 und
L5 gebildet, wobei ein afokaler Punkt AF1 zwischen den Linsen
L4 und L5 vorgesehen ist. Der AOM 16 ist auch in Fig. 2 ge
zeigt; er nimmt acht Strahlen (Strahlbündel) von den Linsen 14
auf. Das modulierte Licht von dem AOM durchläuft das Schwal
benprisma 17 und danach ein Strahlumlenkprisma 37, eine Re
laislinse 18 (L6), das Strahlumlenkprisma 38 und fällt auf den
Steuerspiegel 20. Von dort wird der Strahl auf den Spiegel 39
geworfen und an diesem reflektiert, durchläuft das Strahlum
lenkprisma 40 und wird auf die Variooptik der Anordnung ge
richtet, die Linsen L7, L8, L9 und L10 und ein Strahlumlenk
prisma 41 enthält. Ein Brennpunkt F3 ist im Prisma 41 angeord
net. Die Strahlen aus der Variooptikanordnung werden vom Spie
gel 48 auf den rotierenden Spiegel (Polygon) 24 reflektiert.
Die optischen Komponenten hinter der Abtastung (post scan
optics) sind ebenfalls in Fig. 2 gezeigt und umfassen die
F-Theta-Linse 26, den Strahlenteiler 28, den Verschluß 30 und
die Reduktionslinse 32.
Alle oben erwähnten Linsen sind kommerziell erhältlich.
STRAHLENTEILER 13 AUS Fig. 1 UND 2
Fig. 4 zeigt eine von drei ähnlichen Platten 50, die im
Strahlenteiler verwendet werden. Ein Körper 55 ist ein Körper
beispielsweise aus Glas, der für den Strahl durchlässig ist.
Die obere Fläche des Körpers trägt einen Antireflexionsüberzug
52. Dieser Überzug ist teilweise mit einer 50% reflektieren
den Schicht 53 überzogen. Auf der Unterseite des Körpers 55
ist ein 100% reflektierender Überzug oder eine Schicht 51
gebildet.
Wie zu sehen ist, wird ein auf die Schicht 53 fallender Strahl
58 entsprechend der Strahldarstellung 59 reflektiert. Ein Teil
des Strahls 58 tritt als Strahl 60 in den Körper 55 ein und
wird von dem Überzug 51 reflektiert (Strahl 61). Zu beachten
ist, daß der Strahl 61 nach dem Austritt aus der Platte 50 die
Schicht 53 nicht trifft.
Drei Platten in der Ausführung wie die Platte 50 in Fig. 4
sind in Fig. 3 gezeigt (Platten 50a, 50b und 50c); sie werden
bei dem beschriebenen Ausführungsbeispiel zur Erzeugung von
acht Strahlbündeln verwendet. Die Platte 50b ist zweimal so
dick wie die Platte 50a; die Platte 50c ist zweimal so dick
wie die Platte 50b. Die Platten sind bei dem beschriebenen
Ausführungsbeispiel parallel zueinander angeordnet.
Wie in Fig. 3 zu sehen ist, wird ein zunächst die Platte 50a
treffendes Strahlbündel 63 in zwei Teilstrahlen aufgeteilt.
(Dies ist auch in Fig. 4 gezeigt). Die beiden Teilstrahlbün
del fallen danach auf die Schicht 53 der Platte 50b. Die Hälf
te jedes dieser Strahlbündel wird an der Schicht 53 refelek
tiert. Die durch die Schicht 53 durchtretenden Teile der
Strahlbündel werden von der Schicht 51 reflektiert, wodurch
zwei zusätzliche Strahlbündel erzeugt werden, so daß eine
Gesamtanzahl von vier Strahlbündeln die Platte 50b verläßt. In
ähnlicher Weise werden alle vier Teilstrahlbündel, die von der
Platte 50b reflektiert werden, teilweise von der Schicht 53
der Platte 50c und teilweise an der Schicht 51 der Platte 50c
reflektiert, so daß sich acht Teilstrahlbündel ergeben, die
bei dem beschriebenen Ausführungsbeispiel verwendet werden.
10 × BILDEBENEN-OPTIK
Ein Aspekt des beschriebenen Geräts ist die Verwendung einer
vergrößerten Bildebene, die der Abtastoptik folgt. Bei dem
beschriebenen Ausführungsbeispiel wird eine 10 × Bildebene
zwischen dem rotierenden Spiegel und dem Werkstück eingesetzt.
Diese telezentrische Zwischenbildebene trägt bei zur Facetten
bestimmung, Kalibrierung und zur Bestimmung der Werkstückposi
tion, und zwar insbesondere für die Anwendungen beim direkten
Schreiben.
Im folgenden wird auf Fig. 5 Bezug genommen. Die Zwischenebe
ne wird durch die F-Theta-Linsen 26 erzeugt. Die bekannte
F-Theta-Linsen-Technologie wird zur Erzeugung der dem rotie
renden Spiegel folgenden Zwischenebene verwendet.
Ein Strahlenteiler 28 ist im Lichtstrahlengang hinter den
F-Theta-Linsen angeordnet. Dieser Strahlenteiler dient zum
Abtrennen eines kleinen Teils des auf das Werkstück gerichte
ten Lichts auf einen Facettendetektor 67. Die Strahlen 66 der
Fig. 5 werden an der Oberfläche 28a des Strahlenteilers re
flektiert und fallen auf den Detektor 67. Wie im einzelnen
noch erläutert werden wird, wird einer der Strahlenkanäle vor
jeder Abtastung des Werkstücks zu dem AOM durchgeschaltet. Der
Facettendetektor stellt diesen Strahl fest, und die daraus
abgeleitete Information wird zur Zeitgebung der zum AOM gekop
pelten Daten verwendet. Dies ist in Fig. 10 gezeigt. Die
andere Oberfläche 28b des Strahlenteilers 28 wird zum Abteilen
eines Teils des vom Werkstück reflektierten Strahlenbündels
verwendet. Dieser Lichtanteil, der zu einer Photoverviel
facherröhre 71 gekoppelt wird, dient der Kalibrierung und
Lagebestimmung.
Ein Verschluß 30 ist in der in Fig. 5 dargestellten Weise in
der Zwischenbildebene angeordnet. Der AOM ermöglicht auch im
abgeschalteten Zustand die Beugung eines kleinen Anteils des
Lichts (z. B. 1%) auf das Werkstück.
Wenn die das Werkstück tragende Bühne angehalten wird, kann
dieses Licht zu einer unerwünschten Belichtung des Photolacks
führen. Der elektrisch betätigte Verschluß wird geschlossen,
wenn keine Abtastung des Werkstücks stattfindet. (Der Strahl
aus Kanal 1, der vor dem tatsächlichen Abtasten für die Facet
tenbestimmung eingeschaltet wird, fällt nicht auf das Werk
stück.)
Der Verschluß 30 liegt hinter dem Strahlenteiler 28, da Facet
tenbestimmungssignale zur Bewegung des Tischs verwendet wer
den. Zu beachten ist, daß keine Facettenbestimmungssignale bei
geschlossenem Verschluß aufgenommen werden könnten, wenn der
Verschluß im Strahlengang weiter vorne angeordnet wäre, so daß
dann die Erzeugung von Zeitgabesignalen für die Bewegung des
Tisch ausgeschlossen wäre.
Die Reduktionslinsenanordnung 22 ist im Handel erhältlich und
fokussiert die Strahlen aus der 10 × Ebene auf das Werkstück.
WERKSTÜCK-SCHREIBFORMAT
Das Abtastmuster und die Werkstückbewegung ermöglichen den
acht Strahlen bzw. Strahlbündeln, ein Muster virtuell zu
schreiben. Obwohl das speziell verwendete Schreibformat für
den optischen Strahlengang unkritisch ist, trägt eine Erläute
rung des Formats zum Verständnis der Gesamtfunktion des be
schriebenen Geräts bei.
Die Muster werden auf dem Werkstück in Blöcken, z. B. Block 68
in Fig. 8, erzeugt. Jeder Block verwendet 256 K Adressenein
heiten von Daten in der Abtastachse bzw. -richtung und 256 K
Adresseneinheiten in der Streifenachse bzw. -richtung. Eine
einzige Adresse in beiden Achsen bzw. Richtungen definiert ein
0,5 µm Quadrat.
Die Abtastbewegung der Strahlen wird von dem rotierenden Spie
gel in der Richtung der Abtastachse erzeugt. Die acht Strahlen
bzw. Strahlbündel sind innerhalb des Kreises 69 gezeigt. Die
von diesen Strahlbündeln erzeugte Bürste zeichnet eine Abtast
zeile 70, die in dem Kreis 73 dargestellt ist. Beim Abtasten
wird das Werkstück in der Streifen- oder Streichrichtung be
wegt. Daher erfolgt das Abtasten in einer rasterartigen Weise.
Jede Abtastzeile ist in der beschriebenen Implementierung 4096
Adresseneinheiten breit, wobei ein Bit in jeder Adressenein
heit zur Steuerung jedes der Strahlbündel dient. Daher ist die
Abtastzeile selbst acht "Bits" breit. Der Binärcode wird ent
weder zum Einschalten oder zum Ausschalten des entsprechenden
Strahlbündels verwendet. Eine Grauskala kann auch verwendet
werden, wenn eine Vielzahl von Bits jedem Strahlbündel zuge
ordnet ist, um eine Gradation bzw. Abstufung zwischen den Ein-
und Auszuständen zu schaffen.
In der bei dem Mustergenerator verwendeten Rastereinrichtung
werden Rahmen erzeugt, die eine Länge von 1024 Adreßeinheiten
in der Streifenachsenrichtung haben. Diese Zeichnung ist je
doch innerhalb der Strahlbündel- oder Tischbewegung selbst
nicht feststellbar, sondern ist auf die Rastereinrichtung
beschränkt. Eine Vielzahl von Rahmen dienen zur Bildung eines
Durchlaufs, wie er von dem Rechteck 72 definiert ist. Die
Anzahl von Rahmen in einem Durchlauf ist willkürlich.
Es sei für die Zwecke der vorliegenden Erörterung angenommen,
daß vier identische Muster (Muster 2) innerhalb des Blocks 68
geschrieben werden sollen. Bei dem beschriebenen Ausführungs
beispiel wird der Durchlauf 72 zunächst in den Block 74 ge
schrieben, und danach wird der Tisch derart bewegt, daß die in
diesem Durchlauf enthaltene gleiche Information in die Blöcke
73, 76 und danach 75 neu eingeschrieben werden kann. Ein wei
terer Durchlauf wird sodann in jedem der Blöcke vorgenommen,
bis das gesamte Muster viermal innerhalb des Blocks 68 ge
schrieben worden ist. Andere Muster können auf dem Werkstück
in den Blöcken 68 benachbarten Blöcken geschrieben werden, wie
dies durch das Muster 1 links vom Block 68 in der Zeichnung
angegeben ist. Die Muster 1 oder 2 gemäß Fig. 8 können bei
spielsweise 5 × oder 10 × Masken darstellen, oder sie können,
wie erwähnt, direkt auf einem Halbleiterscheibchen erzeugte
Schaltungselemente darstellen.
Nach der beschriebenen Implementierung schreiben die Strahl
bündel nur in Verbindung mit einer Streifenachsenbewegung,
während kein Schreiben stattfindet, wenn der Tisch in der
Abtastachsenrichtung bewegt wird. Eine Werkstückbewegung in
der Abtastachse findet beispielsweise statt, um das Werkstück
für jeden Durchlauf neu zu positionieren.
ABTASTZEILEN-STRAHLBÜNDEL
In dem Kreis 69 in Fig. 8 sind die acht Strahlbündel, welche
das Muster bei jeder Abtastung zeichnen, einander überlappend
dargestellt. Tatsächlich überlappen die Strahlbündel einander
nicht, obwohl ihre Projektionen auf dem Werkstück überlappend
sind. Das Schwalbenprisma 17 gemäß Fig. 1 orientiert die
Strahlbündel so, daß sie in der erwähnten Weise räumlich ver
schoben werden. Diese Verschiebung ist in Fig. 9 durch die
Strahlbündel 77 dargestellt. (Die Strahlbündel 77 stellen die
Projektion der Strahlbündel dar, wenn sie eingeschaltet wür
den, bevor sie die Line 78 erreicht haben.) Die Linie 78
stellt eine Gerade rechtwinklig zur Abtastachse dar, und diese
Gerade ist in Fig. 8 durch die Abtastzeile 70 gezeigt. Wenn
die Strahlbündel die Linie 78 erreichen, werden sie (jeweils
einzeln) aktiviert, und zwar als Funktion der für die Adres
seneinheit an dieser Stelle entlang der Abtastachse und der
Streifenachse zugegriffenen Information (Binär 1 oder 0). Im
Betrieb werden die Strahlbündel steuernde Datensignale sequen
tiell an den AOM 16 der Fig. 1 angelegt; jedes Signal wird um
einen geeigneten Betrag verzögert, damit das Strahlbündel (bei
Bedarf für das Muster) auf der Linie 78 und den Äquidistanz
linien eingeschaltet wird. Dies ermöglicht die Projektion der
Strahlbündel in überlappender Beziehung, ohne daß die Strahl
bündel selbst einander überlappen. Wenn sich die Strahlbündel
selbst überlappen würden, würde eine unkontrollierte Inter
ferenz auftreten, wodurch das Schreiben einer "sauberen" Ab
tastzeile verhindert würde.
TISCHANORDNUNG
Gemäß Fig. 7 kann die Platte 34, die im Werkstückhalter mon
tiert ist, in drei Achsen bewegt werden. Die Bewegung zu und
von den Reduktionslinsen 34 (Z-Achse) ist in der Zeichnung
nicht dargestellt. Diese Bewegung dient der Fokussierung.
Während der Mustererzeugung werden die Platte 34 und der Werk
stückhalter entlang der Streifenachse (strip axis) von einem
Motor 83 bewegt, da sie auf der Streifenbühne 82 montiert
sind. Diese Achse verläuft in der Darstellung gemäß Fig. 7
senkrecht zur Zeichenebene. Diese Streifenbühne 82 ist auf der
Abtastbühne 80 montiert, so daß sich die Platte 34 bewegen
muß, wenn sich die Bühne 80 bewegt. Die Bühne 80 bewegt sich
entlang der Abtastachse und wird von einem Motor 81 angetrie
ben. Wie oben erwähnt, findet dieses Bewegung nicht während
der Abtastung statt, sondern beispielsweise zwischen Abtastun
gen, um jeden Durchlauf neu zu positionieren. Der Werkstück
halter kann auch eingestellt (geneigt) werden, um das Werk
stück relativ zu den Strahlbündeln auf eine geeignetes Niveau
zu bringen.
Im folgenden wird auf die Fig. 6 und 7 Bezug genommen. Ein
Spiegel 88 ist senkrecht an der Bühne 82 montiert, und in
ähnlicher Weise ist ein Spiegel 92 an der Bühne 82 rechtwink
lig zur Streifenachse montiert. Ein Spiegel 44 ist an der
Reduktionslinse 32 rechtwinklig zur Abtastachse montiert, und
in ähnlicher Weise ist ein Spiegel 43 an der Reduktionslinse
32 rechtwinklig zur Streifenachse angebracht. Eine Relativbe
wegung in der Abtastrichtung zwischen der Bühne 82 und der
Linse 32 wird von einem Differenzinterferometer 89 festge
stellt. Dieses Differenzinterferometer reflektiert zwei
Strahlbündel von jedem der Spiegel 44 und 88. In ähnlicher
Weise wird die Relativbewegung in der Streifenrichtung be
stimmt von einem Differenzinterferometer 94, wenn Licht von
den Spiegeln 43 und 92 reflektiert wird. Das von Spiegeln 82
und 92 auf dem Niveau der Platte 34 reflektierte Licht dient
der Gewinnung einer genauen Relativbewegung der Platte.
Die Differenzinferometer 89 und 94 sind kommerziell erhält
liche Interferometer.
Die Interferometer spielen zusammen mit der Photoverviel
facherröhre gemäß Fig. 5, welche das vom Werkstück reflek
tierte Licht aufnimmt (siehe Oberfläche 28b des Strahlteilers
28 in Fig. 4) eine wesentliche Rolle bei der Kalibrierung des
Geräts und bei der Lagebestimmung des Werkstücks.
Kalibrierungsmarken 97 und 98 sind auf der Oberseite des Werk
stückhalters ausgebildet. Diese Marken können in alternativer
Ausführung auch auf der Platte selbst (z. B. durch Chromnieder
schlags- und Ätzschritte) ausgebildet sein. Diese Marken haben
eine bekannt Lage zum Musterursprung. Die Musterdaten werden
relativ zu diesem Ursprung erzeugt. Wenn eines der acht
Strahlbündel eingeschaltet wird, kann die Reflexion von den
Marken 97 oder 98 von der Photovervielfacherröhre wahrgenommen
werden. Dies schafft genaue Daten über die Relativlage des
Musterursprungs und des Strahlbündels. Wenn das Werkstück
entweder in der Abtast- oder der Streifenrichtung bewegt wird,
stehen genaue Positionsdaten von den Interferometern zur Ver
fügung, wodurch ein kontinuierlicher Strom von Positionsdaten
geschaffen wird.
Es gibt zahlreiche andere Verwendungsmöglichkeiten für die
Kombination der Daten aus dem Interferometer und der Photover
vielfacherröhre. So ist beispielsweise eine Abtastzeile 4096
Adreßeinheiten lang, wie oben erwähnt wurde. Das Strahlbündel
1 für die Adresseneinheit 1 kann zuerst aktiviert werden, und
seine Koordinaten werden von der Photovervielfacherröhre in
Verbindung mit einer Marke bestimmt. Danach kann das Strahl
bündel 1 wieder für die 4096 Adresseneinheit der Abtastung
eingeschaltet und diese Position mit einer Marke bestimmt
werden. Aus diesen Daten kann die Länge einer Abtastzeile
bestimmt werden. In ähnlicher Weise kann die Breite der Bürste
durch Aktivieren der Strahlbündel 1 und 8 bestimmt werden. Die
Verzerrung bzw. der Schräglauf in der Streifenachse, hervorge
rufen durch die Werkstückbewegung während der Abtastung, kann
auch bestimmt und elektrisch eingestellt werden, indem die
Zeit, bei der Daten an den AOM angelegt werden, eingestellt
wird. Andere Anwendungsfälle umfassen die Punktgrößenmessung,
kritische Dimensionsmessungen, Rotationsstabilitätstests am
rotierenden Spiegel, die Steuerspiegelpositionierung, die
Variooptikkalibrierung, die Zeitgabekalibrierung, die F-Theta-
-Übertragungsfunktionsmessung, die Bestimmung der Linsenline
arität durch das gesamte optische System, die Messung der
Brennfeldflachheit, den Spalten-Orthogonalitätstest und die
Autofokuskalibrierung.
Die telezentrische Anordnung der Zwischenfeldebene mit der
Kombination des Strahlenteilers und der Photovervielfacherröh
re ergeben zusammen mit den Interferometern und Marken auf der
sich bewegenden Anordnung eine genaue Koordination zwischen
diesen im übrigen unabhängigen Untersystemen.
DATENZEITGABE
Wichtig ist die Zeitgabe der Daten relativ zur Spiegelposi
tion. Wenn die Strahlbündel zu früh oder zu spät in Bezug auf
die Position jeder der Facetten auf dem rotierenden Spiegel
eingeschaltet werden, kann eine Abtastzeile gegenüber der
nächstfolgenden verschoben werden. Wie oben erwähnt, werden
die Zeitgabesignale für die Daten und die Aktivierung des AOM
mit Hilfe des Facettendetektors entwickelt. Kanal 1 wird ein
geschaltet, bevor sich die Facette in einer Position befindet,
bei der ein oder mehrere Strahlbündel auf das Werkstück ge
richtet werden. Das Strahlbündel wird vom Strahlenteiler 28
auf einen Photodetektor reflektiert, um einen Zeitgabeimpuls
zu erzeugen. Das Einschalten dieses Strahlbündels ist durch
den Impuls 105 in Fig. 10 dargestellt. Die Facettenbestimmung
ist durch den Impuls 106 in Fig. 10 gezeigt. Diese Bestimmung
leitet eine Zeitfolge ein, die aus einer festen Verzögerung,
einer Abtastkorrektion und einer Schräglaufkorrektion besteht.
Die Gesamtverzögerung ist als Verzögerung 108 in Fig. 10
dargestellt.
Nach der Verzögerung aktiviert das Drucktakt-Aktivierungssi
gnal 107 den Pixeltakt 109 zur Erzeugung der Signale zum Tak
ten der Daten (4096 Adresseneinheiten) in den AOM. Wie durch
die Impulsfolge 110 dargestellt ist, aktivieren die Daten
selektiv die Strahlbündel zum Druck des Musters.
Ein Streifen 111, der eine Vielzahl von Abtastungen enthält,
ist in Fig. 10 gezeigt. Die Gerade 112 stellt eine Zeitachse
für den Streifen 111 dar. Die Gerade 113 stellt einen Winkel
in Bezug auf die Gerade 112 dar. Dieser Winkel stellt den in
jede Abtastzeile eingeführten Schräglauf dar, der von der
Bewegung in Streifenrichtung während der Abtastung hervorgeru
fen wird. Hierbei handelt es sich um das "Schräglauffaktor-In
krement" in der Verzögerung 108. Die gestrichelte Linie stellt
die Abtastrichtungsabweichung von der wahren Streifenachsenbe
wegung dar. Diese Abweichung wird vom Interferometer 94 gemes
sen. Die Differenz zwischen der gestrichelten Linie und der
Geraden 112 stellt die "Abtastkorrektur" für die Verzögerung
108 dar. Die feste "Verzögerung" ist die mittlere erwartete
Verzögerung. Die berechnete Verzögerung 108 ermöglicht daher
den Druck an der vorgesehenen Stelle, und zwar trotz Facetten
abweichung, der Rasternatur der Abtastung und der Streifen
tisch-Bewegungsabweichung.
Während des Abtastens kann auch eine Tischbewegung bei nicht
konstanter Geschwindigkeit in der Streifenachse auftreten.
Diese Änderungen werden vom Interferometer 89 bestimmt. Die
Information aus dem Interferometer 89 steuert den Steuerspie
gel und korrigiert eine relative Strahl-Werkstück-Bewegung in
der Streifenrichtung.