DE3587921D1 - Verfahren für die gegenseitige Ausrichtung zweier Objekte mittels eines Beugungsgitters, sowie die Steuervorrichtung dafür. - Google Patents

Verfahren für die gegenseitige Ausrichtung zweier Objekte mittels eines Beugungsgitters, sowie die Steuervorrichtung dafür.

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Families Citing this family (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62172203A (ja) * 1986-01-27 1987-07-29 Agency Of Ind Science & Technol 相対変位測定方法
FR2598797B1 (fr) * 1986-05-07 1990-05-11 Nippon Telegraph & Telephone Procede de mesure et/ou d'ajustement du deplacement d'un objet et appareil pour la mise en oeuvre de ce procede
DE3621236A1 (de) * 1986-06-25 1988-01-14 Heidenhain Gmbh Dr Johannes Laengen- oder winkelmesseinrichtung
FR2615280B1 (fr) * 1987-05-11 1996-07-19 Canon Kk Dispositif de mesure de la distance en mouvement relatif de deux objets mobiles l'un par rapport a l'autre
EP0313681A1 (de) * 1987-10-30 1989-05-03 Ibm Deutschland Gmbh Phasenempfindliche interferometrische Masken-Halbleiterscheiben-Ausrichtung
EP0336537B1 (de) * 1988-02-16 1995-12-20 Canon Kabushiki Kaisha Vorrichtung zum Nachweis der örtlichen Beziehung zwischen zwei Objekten
US5343291A (en) * 1988-02-16 1994-08-30 Canon Kabushiki Kaisha Method and apparatus for measuring an interval between two objects
JP2546350B2 (ja) * 1988-09-09 1996-10-23 キヤノン株式会社 位置合わせ装置
JP2626076B2 (ja) * 1988-09-09 1997-07-02 キヤノン株式会社 位置検出装置
EP0358511B1 (de) * 1988-09-09 2001-07-18 Canon Kabushiki Kaisha Vorrichtung zur Detektion der Positionsrelation zwischen zwei Objekten
US5021649A (en) * 1989-03-28 1991-06-04 Canon Kabushiki Kaisha Relief diffraction grating encoder
US4931630A (en) * 1989-04-04 1990-06-05 Wyko Corporation Apparatus and method for automatically focusing an interference microscope
JPH032504A (ja) * 1989-05-30 1991-01-08 Nikon Corp 位置合わせ装置
DE4013306A1 (de) * 1990-04-26 1991-10-31 Hoechst Ag Optische formkoerper aus siliziumnitrid, sowie verfahren zu deren herstellung
JPH0447222A (ja) * 1990-06-13 1992-02-17 Olympus Optical Co Ltd 高精度位置比較装置
DE9116546U1 (de) * 1991-02-21 1993-01-21 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh, 8225 Traunreut Positionsmeßeinrichtung mit einer Justiereinrichtung
DE9116609U1 (de) * 1991-05-28 1993-03-25 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh, 8225 Traunreut Positionsmeßeinrichtung
DE4231069A1 (de) * 1992-09-17 1994-03-24 Leica Mikroskopie & Syst Variabler Auflicht-Interferenzansatz nach Mirau
JP3158878B2 (ja) * 1994-07-28 2001-04-23 松下電器産業株式会社 光学式エンコーダ
US5808742A (en) * 1995-05-31 1998-09-15 Massachusetts Institute Of Technology Optical alignment apparatus having multiple parallel alignment marks
US6479811B1 (en) * 2000-03-06 2002-11-12 Eastman Kodak Company Method and system for calibrating a diffractive grating modulator
JP3791673B2 (ja) * 2001-06-21 2006-06-28 富士写真フイルム株式会社 近接場光露光装置
US6510200B1 (en) * 2001-06-29 2003-01-21 Osmic, Inc. Multi-layer structure with variable bandpass for monochromatization and spectroscopy
DE10147987B9 (de) * 2001-09-28 2006-05-24 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelektronisches Bauelement
US7116430B2 (en) * 2002-03-29 2006-10-03 Georgia Technology Research Corporation Highly-sensitive displacement-measuring optical device
US7046361B1 (en) 2002-04-04 2006-05-16 Nanometrics Incorporated Positioning two elements using an alignment target with a designed offset
US6992764B1 (en) * 2002-09-30 2006-01-31 Nanometrics Incorporated Measuring an alignment target with a single polarization state
JP4015079B2 (ja) * 2003-07-18 2007-11-28 株式会社東芝 レチクル、露光装置検査システム、露光装置検査方法及びレチクルの製造方法
US7247843B1 (en) * 2006-05-11 2007-07-24 Massachusetts Institute Of Technology Long-range gap detection with interferometric sensitivity using spatial phase of interference patterns
NL2005975A (en) 2010-03-03 2011-09-06 Asml Netherlands Bv Imprint lithography.
DE102010003157B4 (de) * 2010-03-23 2019-10-24 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Vorrichtung zur interferentiellen Abstandsmessung
WO2015008365A1 (ja) * 2013-07-18 2015-01-22 ギガフォトン株式会社 露光装置
JP2016106721A (ja) * 2014-12-03 2016-06-20 キヤノン株式会社 画像処理装置および画像処理方法
US11982521B2 (en) * 2017-02-23 2024-05-14 Nikon Corporation Measurement of a change in a geometrical characteristic and/or position of a workpiece
CN109916310A (zh) * 2019-04-02 2019-06-21 北方民族大学 新型长度传感器

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2636211C2 (de) * 1976-08-12 1978-01-26 Ibm Deutschland Gmbh, 7000 Stuttgart Interferometrisches Verfahren zur Abstands- oder Ebenheitsmessung
JPS5332759A (en) * 1976-09-08 1978-03-28 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Precision coordinate position detection and position control unit by composite diffration grating method
US4200395A (en) * 1977-05-03 1980-04-29 Massachusetts Institute Of Technology Alignment of diffraction gratings
GB2023281B (en) * 1978-06-17 1983-08-17 Marconi Co Ltd Position encoders
FR2436967A1 (fr) * 1978-09-19 1980-04-18 Thomson Csf Procede d'alignement optique de motifs dans deux plans rapproches et dispositif d'alignement mettant en oeuvre un tel procede
JPS5938521B2 (ja) * 1979-10-26 1984-09-18 日本電信電話株式会社 微小変位測定および位置合わせ装置

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Publication number Publication date
EP0151032A3 (en) 1988-09-14
DE3587921T2 (de) 1995-05-04
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CA1226682A (en) 1987-09-08
EP0151032B1 (de) 1994-09-07
EP0151032A2 (de) 1985-08-07

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