DE3543588C2 - - Google Patents
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Anordnung gemäß
dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
Anordnungen dieser Art sind aus der DE-OS 28 10 554
bekannt. Sie zeichnen sich gegenüber anderen bekannten sogenannten
Bootanordnungen, z. B. gemäß US-PS 42 23 048, US-PS 42 82 077
und FR-PS 25 41 509, dadurch aus, daß mit ihnen bei der
plasmaverstärkten chemischen Dampfbehandlung ein besonders
hoher Prozeß-Gleichförmigkeitsgrad mit Abweichungen von
maximal etwa +/- 5% auf den behandelten oder bearbeiteten
Werkstück von einem Ende der beladenen Bootanordnung
zum anderen erzielbar ist, eine hohe Abscheiderate bei
relativ niedriger Spitzenleistung des HF-Generators erhalten
wird und bei jedem Zyklus des chemischen Dampfabscheidungsprozesses
besonders viele Werkstücke mit der hohen
Abscheiderate behandelt werden können, so daß eine hohe
Werkstückausbeute erreicht wird.
Bei den bekannten Bootanordnungen gemäß dem Oberbegriff
des Patentanspruchs 1 sind die einzelnen Elektrodenplatten
mechanisch gleichzeitig von beiden elektrisch leitenden
Schienen getragen, wobei sie sich auf der Schiene, mit
der sie nicht elektrisch verbunden werden dürfen, über
eine Isolation abstützen, die diese Schiene umgibt und
sich zu beiden Seiten der betreffenden Elektrodenplatte
bis zu den dieser benachbarten erstreckt. Dadurch besteht
insbesondere bei der Dampfabscheidung von elektrisch leitendem
Material die Gefahr, daß benachbarte Elektrodenscheiben,
zwischen denen das Plasma erregt wird, durch
Material, das auf der Isolation mit abgeschieden wird,
mehr oder weniger kurzgeschlossen werden und dadurch die
Plasmabildung zumindest gestört wird. Die Isolation auf
den Schienen muß daher zwischen den Behandlungszyklen
sehr häufig gereinigt werden, wobei trotzdem bereits während
eines laufenden Zyklus eine Plasmastörung eintreten
kann, die zu einer Minderung der Qualität der Abscheidung
auf den Werkstücken führt. Die Auswirkungen einer Materialabscheidung
bestimmter Dicke auf der Schienenisolation
sind zudem um so größer je näher beieinander sich die Elektrodenscheiben
befinden, so daß hiervon auch der zulässige
Mindestabstand der Elektrodenscheiben und damit die Aufnahmekapazität
der Bootanordnung sowie die Abscheiderate
und/oder die nötige Generator-Spitzenleistung betroffen
sind.
Gegenüber dem vorgenannten Stand der Technik besteht die
der Erfindung zugrunde liegende Aufgabe darin, eine
Anordnung gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1
zu schaffen, bei der die Gefahr eines Nebenschlusses zwischen
einander benachbarten Elektrodenscheiben durch auf
deren tragende Struktur aus der Dampfphase abgeschiedenes
Material zuverlässig ausgeschlossen und damit die Ausbildung eines
homogenen, die Werkstücke gleichmäßig
beaufschlagenden Plasmafeldes gewährleistet
ist.
Die vorgenannte Aufgabe wird durch die im Patentanspruch
1 genannten Merkmale gelöst.
Bei der erfindungsgemäßen Bootanordnung haben die Elektrodenscheiben
innerhalb des reaktiven Bereichs in der Reaktionskammer
überhaupt keinen, also auch keinen indirekten,
körperlichen Kontakt mit der elektrisch leitenden Schiene,
gegen die sie zu isolieren sind, so daß auch keine strukturellen
Teile für die Bildung von Nebenschlüssen zwischen
benachbarten Elektrodenscheiben durch abgeschiedenes Material
vorhanden sind.
Aus der US-PS 42 23 109 ist es bereits
bekannt, mit zueinander parallelen
Breitseiten hintereinander in einer von
Ätzgas durchströmten Reaktionskammer
angeordnete, zu behandelnde Werkstücke
tragende Elektrodenplatten, zwischen denen
ein Plasma erzeugt wird, wechselweise
so mit zwei elektrisch leitenden, an
eine Gleichspannungsquelle angeschlossenen
Schienen zu verbinden, daß sie
sowohl elektrisch als auch mechanisch
nun mit einer der Schienen in Kontakt
stehen und zwischen ihnen und der
anderen Schiene im Freiraum vorhanden
ist.
Die Unteransprüche betreffen bevorzugte Ausgestaltungen
der Anordnung gemäß dem Patentanspruch 1, wobei
der Unteranspruch 2 eine bevorzugte Maßnahme
im Hinblick auf die Halterung der Schienen zum Gegenstand hat und
die Merkmale der Patentansprüche 3 und 4 es ermöglichen,
auf besonders einfache Weise Werkstücke von unterschiedlichen
Abmessungen mit der gleichen Bootanordnung in ein
und demselben Behandlungszyklus und ohne die Notwendigkeit
umständlicher und damit zeitraubender Umstellungsarbeiten
für die Werkstückaufnahme so zu bearbeiten, daß sie von
dem Plasmafeld gleichmäßig beaufschlagt werden.
Die Erfindung wird nachstehend an einem Ausführungsbeispiel
anhand der Zeichnung noch näher erläutert.
In der Zeichnung zeigt
Fig. 1 einen Längsschnitt durch eine mit einer
Bootanordnung ausgestattete Vorrichtung
zum Teil in schematischer Darstellung und
zum Teil als Blockdiagramm,
Fig. 2 die Querschnittsansicht der Anordnung nach Fig.
1 entlang der Schnittlinie 2-2 in Fig. 1,
Fig. 3 die Draufsicht - teilweise weggebrochen - auf
die in Fig. 1 dargestellte Bootanordnung,
Fig. 4 die Bootanordnung gemäß Fig. 3 in Seitenansicht,
Fig. 5 die Stirnansicht des einen Endes der Bootanordnung
nach Fig. 3 und
Fig. 6 die Querschnittsansicht von dem entlang der
Schnittlinie 6-6 in Fig. 5 geschnittenen Teil
des Endes der Bootanordnung gemäß Fig. 4.
Die Fig. 1 zeigt eine Vorrichtung 10 zum Herbeiführen
einer extern angeregten, nicht-thermischen chemischen
Reaktion, bei der ein oder mehrere, durch den Pfeil 14
bezeichnete gasförmige Reaktanten über eine nicht dargestellte
Rohrleitung, durch eine Strömungssteuereinrichtung
reguliert, in Kanäle 16 und 18 einer Verschluß-Endkappe
20 einer Ofenanordnung 22 der Vorrichtung 10 gelangen.
Die Ofenanordnung 22 weist O-Ringe 24 bzw. 26 auf, die
eine gasdichte Abdichtung zwischen den Endkappen 20 und
28 und einem aus drei Segmenten bestehenden Heizelement
30, 32 und 34 bewirken, das ein Rohrelement 36 umgibt.
Bei dem in Fig. 1 dargestellten Ausführungsbeispiel gelangt
HF-Energie für die Erregung durch Isolierstücke 38 und
40 in der Endkappe 28 in die vom Rohrelement 36 umschlossene
Reaktionskammer.
Die in Fig. 1 nicht dargestellten zu behandelnden Werkstücke,
z. B. Halbleiterscheiben, sind in einer Bootsanordnung
12 angeordnet, die in die von dem Rohrelement 36 umschlossene
Reaktionskammer einschiebbar ist und über Elektroden
46 und 48 die HF-Energie von einem mittels eines Modulators
44 modulierten HF-Generator 42 empfängt.
Insoweit ist die Vorrichtung z. B. aus der US-PS 42 23 048
bekannt.
Gemäß Fig. 2 bis 5 sind die Elektroden 46 und 48 an einem
Ende der Bootsanordnung 12 an zwei gegeneinander elektrisch
isolierte Schienen 50 und 52 angeschlossen, zwischen denen
die Werkstücke 54 angeordnet sind. Eine endseitige Halterung,
die das Ende 58 der Bootsanordnung 12 bildet und
an die die Elektroden 46 und 48 geführt sind, befindet
sich außerhalb des Plasmafeldes der Vorrichtung 10. Die
Reaktanten-Gasströmung ist so eingerichtet, daß das Gas
in einer bestimmten Reihenfolge über die Werkstücke 54
oder um diese herum strömt und gemäß den Pfeilen 60 durch
den Auslaß 62 austritt. Das beschriebene System arbeitet
durch Evakuieren des Innenraumes des Rohrelementes 36,
d. h. der Reaktionskammer, unterhalb Atmosphärendruck.
Die Bootanordnung 12 weist zwei Endteile 56 und 64 mit
endseitigen Halteeinrichtungen auf, zwischen denen die
elektrisch leitenden Schienen 50 und 52 starr gehalten
sind. Jeder Endteil 56 und 64 ist mit zwei Rädern 66 versehen,
die mittels Lagern 68 und Wellen 70 axial daran montiert
sind. Die Räder 66, die beispielsweise aus einem
Keramikmaterial hergestellt sein könne, laufen auf der
Innenwand des Rohrelements 36, damit die Bootanordnung
12 mit Werkstücken 54 leicht in die Vorrichtung 10 eingesetzt
und aus dieser entfernt werden kann. Die Endteile
56 und 64 können ebenfalls aus Keramik hergestellt sein,
so daß die leitenden Schienen 50 und 52 elektrisch gegeneinander
isoliert sind. Jede der Schienen 50 und 52 ist
gemäß Fig. 5 mittels Befestigungsschrauben 72 am Endteil
befestigt und weist eine Vielzahl von an ihr starr angebrachten
leitenden Vorsprüngen 74 auf, die mit einer Nut
76 versehen sind. In die Nuten 76 und in ineinandergeschachtelter
Anordnung jeweils scheibenförmige, also einen
im wesentlichen runden Außenumriß entsprechend dem Innenumriß
der Reaktionskammer aufweisende Elektrodenplatten
eingesetzt, die nachstehend als Elektrodenscheiben bezeichnet
werden und in der Zeichnung mit der Bezugszahl 78
belegt sind. Jede der Elektrodenscheiben 78 ist an einem
zugehörigen Vorsprung 74 so angebracht, daß sich alternierende
Elektrodenscheiben 78 an der gleichen Schiene 50
bzw. 52 befinden und von den benachbarten Elektrodenscheiben
78 elektrisch isoliert sind. Die einzelnen Elektrodenscheiben
78 können aus irgendeinem passenden leitenden
Material, z. B. Graphit, bestehen, und sind elektrisch
mit ihrer jeweiligen Schiene 50 oder 52 verbunden. Die
Elektroden 46 und 48 sind direkt an die Schienen 50 und
52 angeschlossen.
Jede Elektrodenscheibe 78 hat einen zum Innenumriß des
Rohrelements 36 konformen Außenumriß und weist vom Innenumfang
des Rohrelements 36 einen vorbestimmten Abstand
auf, damit das gasförmige Reaktionsmittel gleichmäßig
durch das Rohrelement 36 und über jedes der an den breitseitigen
Oberflächen der Elektrodenscheiben 78 gehaltenen
Werkstücke strömen kann. Die einzelnen Elektrodenscheiben
78 weisen am Umfang jeweils einen zungenartigen Ansatz
87 auf, der in die Nut 76 eines zugehörigen Vorsprungs
74 paßt, und sie sind mit diesen Ansätzen bezüglich der
Schienen 50 und 52 alternierend angeordnet. Jede Elektrodenscheibe
78 hat zusammengehörende Paare von Bohrungen
88, die in ihrer Breitseite in radialer Richtung angeordnet
sind und jeweils einen Haltestift 90 aufnehmen können.
Während der Behandlung werden die Werkstücke 54 durch
Auflage auf und zwischen zugehörige Paare von Stiften
90 an den Oberflächen der Elektrodenscheiben 78 so gehalten,
daß ihre Oberflächen zu der Strömung des gasförmigen
Reaktionsmittels senkrecht sind. Die Werkstücke 54 können
daher auch an den beiden entgegengesetzten Oberflächen
jeder Elektrodenscheibe 78 angebracht werden. Ein Vorteil
der geschilderten Anordnung besteht darin, daß durch Versetzen
der Stifte 90 in andere Bohrungspaare Werkstück-
Scheiben von verschiedener Größe unter Verwendung einer
einzigen Elektrodenscheiben-Bootanordnung 12 behandelt
werden können. Die Elektrodenscheiben-Bootanordnung 12
kann beispielsweise für die Behandlung von Werkstücken
von 76 mm, 100 mm, 125 mm und 150 mm in einem Rohrelement
36 von 200 mm Durchmesser verwendet werden. Außerdem kann
ein sehr gleichmäßiger Abstand zwischen den einzelnen
Elektrodenscheiben 78 und damit zwischen den Breitseiten
der in der Bootanordnung 12 angeordneten Werkstücke
aufrechterhalten werden. Dadurch kann eine sehr gute
Gleichmäßigkeit oder Gleichförmigkeit des Prozesses im
Bereich von 3-5% erzielt werden. Die Elektrodenscheiben-
Bootanordnung 12 ermöglicht auch hohe Abscheidungsraten
mit einer relativ niedrigeren Spitzenleistung des HF-Generators.
Sie ist zu Abscheideraten von 0,06 µm/min fähig.
Außerdem ergeben die hohen Abscheideraten einen großen
Durchsatz bei dem System sowie eine gute Werkzeugausbeute.
Hinzu kommt, daß mit der Elektrodenscheiben-Bootanordnung
12 in der Vorrichtung 10 mehr Werkstücke 54 gehalten werden
können, als in den meisten, wenn nicht allen, gegenwärtig
benutzten Bootanordnungen.
Gemäß Fig. 5 und 6 weist jeder Endteil, z. B. der Endteil
56, Seitenteile 92 und 94 auf, die in vorragende Endarme
98 und 100 auslaufen, die unter entsprechenden Winkeln
so ausgebildet sind, daß die Schienen 50 und 52 in bezug
aufeinander innerhalb schlitzartiger Nuten im Abstand
gehalten sind, um alternierend die ineinandergeschachtelten
Elektrodenscheiben 78 aufzunehmen.
Die erfindungsgemäße Elektrodenscheiben-Bootanordnung
kann je nach Bedarf zur Abscheidung von elektrisch leitenden
Niederschlägen, z. B. eines Metalls vom Aluminium-Typ
und von hochtemperaturbeständigen, schwer schmelzbaren
Metallen und deren Siliciden wie Wolfram- oder Titan-Silicid,
oder auch zum Abscheiden von isolierenden Filmen
eingesetzt werden.
Claims (4)
1. Anordnung zum Halten von Werkstücken, insbesondere
Halbleiterscheiben, bei der Behandlung in einer der
Länge nach von Reaktandengas durchströmten rohrförmigen
Reaktionskammer einer Vorrichtung zum Herbeiführen
einer extern angeregten, nicht-thermischen chemischen
Reaktion, wobei die in die Reaktionskammer einschiebbare
Anordnung elektrisch leitende, runde Elektrodenscheiben
(78) aufweist, die mit zueinander etwa
parallelen Breitseiten im gegenseitigen Abstand hintereinander
angeordnet sind, an ihren Breitseiten die
zu behandelnden Werkstücke (54) tragen und abwechselnd
elektrisch mit der einen bzw. anderen von zwei die
Elektrodenscheiben (78) tragenden, starren, elektrisch
leitenden Schienen (50, 52) der Anordnung verbunden
sind, die sich, jeweils durch eine Halterung (56, 64)
voneinander isoliert gehalten, parallel zueinander
in der Längsrichtung der Reaktionskammer erstrecken
und mit der einen (48) bzw. anderen (46) Klemme eines
HF-Generators (44) verbunden sind und auf die die
Elektrodenscheiben (78) einzeln jeweils unter Herstellung
eines Halteschlusses quer zu ihnen aufsetzbar
sind, dadurch gekennzeichnet, daß jede Elektrodenscheibe
(78) nur von derjenigen Schiene (50 bzw. 52) getragen
ist, mit der sie elektrisch verbunden ist, und zwischen ihr und der anderen Schiene (52 bzw. 50) ein Freiraum vorhanden ist,
daß die Elektrodenscheiben (78) zum Herstellen des Halteschlusses
und des elektrischen Kontaktes mit der zugehörigen
Schiene (50, 52) jeweils einen vom Umfang nach
außen vorragenden, zungenartigen Ansatz (87) aufweisen,
daß im gegenseitigen Abstand entlang den Schienen
(50, 52) mit diesen elektrisch verbundene Vorsprünge
(74) zum Halten und Kontaktieren der Elektrodenscheiben
(78) angeordnet sind,
daß jeder Vorsprung (74) in der Mitte eine durchgehende
Nut (76) aufweist, in die der Ansatz (87) paßt, und
daß die Halterung für die
Schienen (50, 52) aus diese endseitig haltenden Endteilen
(56, 64) besteht, die in der Betriebsstellung der
Anordnung in der Reaktionskammer außerhalb des
reaktionsaktiven Bereichs in dieser angeordnet sind.
2. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Endteile (56, 64) aus Keramikmaterial bestehen.
3. Anordnung nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet, daß jede Elektrodenscheibe
(78) zur versetzbaren Aufnahme zweier Stifte (90)
zum Halten der Werkstücke (54) an ihren Breitseiten
eine Vielzahl von Bohrungspaaren (88) aufweist, die
radial über ihre Breitseiten verteilt sind und durch
sie hindurchgehen.
4. Anordnung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet,
daß die Stifte (90) auf beiden Breitseiten der Elektrodenscheiben
(78) vorragend in die Bohrungspaare (88)
einsetzbar sind.
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