DE3232324A1 - Refrigerator-betriebene kryopumpe - Google Patents
Refrigerator-betriebene kryopumpeInfo
- Publication number
- DE3232324A1 DE3232324A1 DE19823232324 DE3232324A DE3232324A1 DE 3232324 A1 DE3232324 A1 DE 3232324A1 DE 19823232324 DE19823232324 DE 19823232324 DE 3232324 A DE3232324 A DE 3232324A DE 3232324 A1 DE3232324 A1 DE 3232324A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- stage
- refrigerator
- shield
- gases
- cryopump
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
- F04B37/00—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00
- F04B37/06—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for evacuating by thermal means
- F04B37/08—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for evacuating by thermal means by condensing or freezing, e.g. cryogenic pumps
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S417/00—Pumps
- Y10S417/901—Cryogenic pumps
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
Description
3 82.022
LEYBOLD-HERAEUS GMBH KÖln-Bayental
Refrigerator-betriebene Kryopumpe
Die Erfindung bezieht sich auf eine refrigeratorbetriebene Kryopumpe mit den zu pumpenden Gasen ausgesetzten,
zur Anlagerung dieser Gase bestimmten und im wesentlichen nicht bestimmten Flächenabschnitten.
Refrigerator-betriebene Kryopumpen sind aus den DE-OSen 26 20 880, 28 21 276 und 30 38 415 bekannt. Sie
weisen jeweils drei Flächenbereiche auf, die zur Anlagerung der verschiedenen Gasarten bestimmt sind. Der
erste Flächenbereich steht mit der ersten Stufe des Refrigerators in gut wärmeleitendem Kontakt und hat je
nach Art und Leistung des Refrigerators eine im wesentlichen konstante Temperatur zwischen 60 und 100 K mit
einem geringen Temperaturgradienten. Als Material ist Metall mit geeigneten Wärmeleitungseigenschaften gewählt.
Diese Flächenbereiche, zu denen auch die Oberfläche eines die Pumpflächen tieferer Temperatur vor einfallender
Wärmestrahlung schützenden Baffles gehören kann, dienen bevorzugt der Anlagerung von Wasserdampf und Kohlendioxid
durch Kryokondensation. Kryokondensation liegt vor, wenn
Gase auf eine vorbelegte, arteigene Unterlage treffen und
dabei in die flüssige bzw. feste Phase kondensieren. Die Bindungskräfte sind physikalischer Natur; die
Bindungsenergie entspricht der Verdampfungswärme.
Der zweite Flächenbereich steht mit der zweiten Stufe des Refrigerators in wärmeleitendem Kontakt, ist ebenfalls
eine Metalloberfläche und zur Entfernung von z. B. Wasserstoff,
Argon, Kohlenmonoxid, Methan und halogenierten Kohlenwasserstoffen durch Kryokondensation und
\
Kryotrapping bestimmet. Mit\Kryotrapping bezeichnet man den Vorgang, bei dem gleichzeitig tiefersiedende und dementsprechend schwerer kondensierbare Gase sowie leichter kondensierbare Gase auf eine vorbelegte Unterlage treffen, wobei das schwerer kondensierbare Gas in die stetig wachsende Kondensatschicht des leichter kondensierbaren Gases eingelagert wird.
Kryotrapping bestimmet. Mit\Kryotrapping bezeichnet man den Vorgang, bei dem gleichzeitig tiefersiedende und dementsprechend schwerer kondensierbare Gase sowie leichter kondensierbare Gase auf eine vorbelegte Unterlage treffen, wobei das schwerer kondensierbare Gas in die stetig wachsende Kondensatschicht des leichter kondensierbaren Gases eingelagert wird.
Der dritte Flächenbereich liegt ebenfalls auf der Temperatur der zweiten Stufe des Refrigerators (bei einem Refrigerator
mit drei Stufen entsprechend tiefer) und ist mit einem Adsorptionsmaterial (Aktivkohle oder dergleichen) belegt.
In diesem Flächenbereich soll im wesentlichen die Kryosorption leichter Gase wie Wasserstoff, Helium und Neon /
stattfinden^. Von Kryosorption spricht man, wenn Gase auf
eine unbelegte artfremde Unterlage treffen und durch nicht abgesättigte Restvalenzen der Grenzflächenatome der Unterlag=
gebunden werden. Diese Flächenbereiche sind so angeordnet, daß sie erst über "Umwege" von den leichten Gasen erreicht
werden können. Die schwereren Gase sind kaum in der Lage, in die nur mittelbar erreichbaren Räume mit Kryosorptionsflächen
hineinzudiffundieren.Sie kondensieren bereits auf den unmittelbar erreichbaren Kryokondensa-tionsflachen.
Dadurch wird eine vorzeitige Verseuchung des Adsorptionsmaterials mit schweren Gasen vermieden. Die Pumpaktivität
für leichte Gase bleibt länger erhalten.
Neben diesen der Anlagerung der zu pumpenden Gase dienenden Flächen weisen die vorbekannten Kryopumpen noch Flächenbereiche
auf, die im wesentlichen nicht für die Anlagerung der Gase bestimmt sind. Das sind bei den vorbekannten Kryopumpen
die Außenseiten der zylindrischen Rohre, in denen sich die Displacer der Refrigeratoren bewegen und die sich
zwischen dem Fuß der Pumpe und ihrer ersten Stufe sowie zwischen ihrer ersten und zweiten Stufe erstrecken.
Bei Versuchen mit Kryopumpen der beschriebenen Art und auch beim Einsatz derartiger Pumpen in Sputteranlagen
tauchte immer wieder das Problem auf, daß die Pumpen unverhältnismäßig lange Pumpzeiten hatten, d. h., relativ lange
Zeit benötigten, um die erwünschten niedrigen Drucke zu erreichen, und zwar insbesondere dann, wenn der Druck in der
Pumpe während eines Sputterprozesses kurzzeitig auf einen relativ hohen Absolutdruck (z. B. 1 χ 10 mbar) gestiegen
war. Darüber hinaus traten während des Betriebs Druckschwankungen auf, die zunächst nicht erklärbar waren.
Der Erfindung lag deshalb die Aufgabe zugrunde, diese geschilderten Probleme zu beseitigen. Die Lösung dieser
Aufgabe war erst möglich, nachdem die Erfinder hinsichtlich der Ursache der geschilderten Probleme zu den folgenden
Erkenntnissen gekommen waren:
Bei Kryopumpen der vorbekannten Art läßt sich nicht vermeiden, daß sich - insbesondere nach längerer Betriebsdauer
- auch an den eigentlich nicht für die Anlagerung von bestimmten Gasen bestimmten Flächen Gase niederschlagen.
Infolge des Temperaturgradienten gibt es dort Flächenbereiche mit Zwischentemperaturen, an denen Gase mit
bestimmten physikalischen Eigenschaften (z. B. Argon) bei höheren Drücken sich zunächst anlagern und anschließend bei
abnehmendem Druck wieder desorbieren. Diese Erscheinung kann so stark auftreten, daß die langsam desorbierenden
Gase für relativ lange Zeiten druckbestimmend sind, d. h., die erwünschte Abnahme des Druckes verhindern.
Darüber hinaus wurde erkannt, daß in diesen Flächenbereichen Temperaturschwankungen mit dem Bewegungszyklus des sich i
darin periodisch bewegenden Displacers auftreten.. Diese Temperaturschwankungen lösen insbesondere bei durch Kryokondensation
oder Kryotrapping angelagerten Gasgemischen ι lokale Desorptionen, Adsorptionen und Umlagerungen von j
Gasen aus, die zu den unerwünschten Druckschwankungen im | Vakuumraum führen. I
*■ 6 —
Ausgehend von diesen Erkenntnissen wird zur Lösung der Aufgabe vorgeschlagen, den zur Anlagerung von Gasen im
wesentlichen nicht bestimmten Flächen eine' Abschirmung mit im wesentlichen konstanter Temperatur zuzuordnen. Da die
geschilderten, das Vakuum im Rezipienten störenden Erscheinungen besonders stark auf der Außenseite des zylindrischen
Rohres zwischen der ersten und der zweiten Stufe des Refrigerators auftreten, ist es zweckmäßig, diesen Bereich mit
einer Hülse abzuschirmen, die als Rohr ausgebildet ist oder aus zwei Halbzylindern bestehen kann. Diese Hülse muß entweder
an der ersten oder an der zweiten Stufe des Refrige-15 rators gut wärmeleitend befestigt sein. Das jeweils andere
ι Ende muß von der dort befindlichen Stufe einen kleinen Abstand haben. Die Größe des Abstandes ist so zu wählen, daß
j zum einen ein thermischer Kontakt vermieden ist, zum
\ anderen der Durchtritt von Gasen weitestgehend behindert ist.
ι 20 Diese Ziele sind erreicht, wenn der Abstand in der Größen-
: Ordnung eines oder mehrerer Millimeter liegt. Bei einer in
dieser Weise ausgebildeten Kryopumpe sind Flächenbereiche mit kritischen Übergangstemperaturen oder mit Temperatur-'
Schwankungen nicht mehr vorhanden. Die dadurch bewirkten 25 negativen Einflüsse auf den Druckverlauf in der Kryopumpe
j sind damit praktisch ausgeschlossen.
Weitere Vorteile und Einzelheiten der Erfindung sollen '. anhand von in den Figuren 1 und 2 dargestellten Ausführungsbeispielen
erläutert werden.
j Die Figuren zeigen jeweils eine Hälfte einer im wesentlichen j rotationssymmetrisch aufgebauten Kryopumpe 1, welche mit
j einem zweistufigen Refrigerator 2 betrieben wird. Im einzelj 35 nen umfaßt dieser Refrigerator 2 den zylindrischen
Abschnitt 3 zwischen dem nicht dargestellten Fuß der Pumpe und der ersten Stufe 4, die während des Betriebs des
Refrigerators eine Temperatur zwischen 60 und 100 K hat. An dem Flansch 5 der ersten Stufe 4 ist ein Abschirmgehäuse
aus Metall in gut wärmeleitendem Kontakt gehaltert, so daß dieses Gehäuse die Temperatur der ersten Stufe 4 annimmt.
Innerhalb des Gehäuses 6 liegt die zweite Stufe 7 des Refrigerators 2. Zwischen der ersten Stufe 4 und der zweiten
Stufe 7 des Refrigerators 2 erstreckt sich das zylindrische Rohr 8. Innerhalb der Rohrabschnitte 3 und 8
befinden sich die im einzelnen nicht dargestellten Displacer der beiden Stufen, die während des Betriebs des
Refrigerators periodische Bewegungen ausführen.
Am Flansch 9 der zweiten Stufe 7, die eine konstante Temperatur zwischen 10 und 20 K annimmt, sind zwei ebene
Pumpflächen 11 und 12 gut wärmeleitend befestigt. Diese
sind jeweils auf ihrer Innenseite mit einem Absorptionsmittel (Aktivkohle, Zeolith oder dergleichen) 13 belegt.
Durch das Gehäuse 6 sind die darin befindlichen Bauteile der zweiten Stufe gegen Wärmestrahlung abgeschirmt. Diesen I
Zweck hat auch das Baffle 14, das in der Eintrittsöffnung 15-des
Gehäuses 6 angeordnet und über wärmeleitende Brücken j derart darin gehaltert ist, daß es im wesentlichen die j
Temperatur des Gehäuses 6 annimmt. |
ι Das Pumpengehäuse und ein Anschlußflansch sind mit 16 und 17,
bezeichnet. Bei anderen Ausführungsformen erstreckt sich j
das Gehäuse 16 bis in die Höhe der Eintrittsöffnung 15 des
Gehäuses 6, so daß der Anschlußflansch 17 ebenfalls in dieser Höhe liegt.
Das Baffle 14 und das Innere des Gehäuses 6 bilden die Pumpflächen, an denen sich bevorzugt Wasserdampf und
Kohlendioxid anlagern. Die äußeren Flächenbereiche der Pumpflächen 11 sind dazu bestimmt, vorzugsweise Gasgemische
durch Kryokondensation und Kryotrapping zu binden. An den inneren, mit Aktivkohle oder dergleichen belegten
Pumpflächen findet im wesentlichen die Kryosorption leichter Gase statt.
Da nach und nach auch schwerere Gase in den Raum zwischen 5 dem Rohrabschnitt 8 und den Pumpflächen 11, 12 gelangen
können, und zwar z. B. insbesondere dann, wenn einzelne Gasarten mit hoher Konzentration auftreten, können dort
j die eingangs geschilderten Erscheinungen - Adsorption bei
höherer Temperatur, Desorption bei niedriger Temperatur i ig oder unerwünschte Umlagerungen - auftreten, da an dem Rohr-J
abschnitt 8 nicht nur die beschriebenen Temperaturj Schwankungen, sondern auch noch jede beliebige Temperatur
zwischen den Temperaturen der ersten Stufe 4 und der zweiten Stufe 7 des Refrigerators 2 auftreten. Durch
I ig Abschirmhülsen 18 und 19 können diese Erscheinungen verj
mieden werden. Die Abschirmhülse 18 nach Fig. 1 ist gut I wärmeleitend mit dem Flansch 9 der zweiten Stufe 7 ver-
I bunden und erstreckt sich bis unmittelbar vor die erste
Stufe 4 des Refrigerators 2. Der Abstand 21 zu dieser
I 20 Stufe muß so gewählt sein, daß einerseits ein Wärmekontakt
' nicht vorhanden ist, andererseits der Eintritt von Gas-
'. teilchen nahezu ausgeschlossen ist. Dadurch nimmt die
Hülse 18 auf ihrer gesamten Länge die Temperatur der
j zweiten Stufe 7 an, so daß unerwünschte Temperatur-
! 25 Zwischenbereiche oder Temperaturschwankungen nicht mehr
j auftreten. Beim Ausführungsbeispiel nach Fig. 2 ist die
ι Hülse 19 gut wärmeleitend mit der ersten Stufe 4 des Refri-
'< gerators 2 verbunden und nimmt, da sie zur zweiten
< Stufe 7 den Abstand 22 hat, deren Temperatur an. Auch bei
j 30 diesem Ausführungsbeispiel "sehen" die zu pumpenden Gase
ι keine Flächen mehr, die unerwünschte Zwischen-Temperatur-
j bereiche haben.
i Die Erfindung wurde anhand einer mit einem zweistufigen i 35 Refrigerator betriebenen Kryopumpe 1 beschrieben. In diesem
Fall kann auch der zylindrische Rohrabschnitt 3 mit einer Abschirmhülse 23 (gestrichelt dargestellt) ausgerüstet
sein. Auch bei einer Kryopumpe, die mit einem einstufigen Refrigerator betrieben wird, kann eine solche Abschirmung
zweckmäßig sein. Schließlich sind Kryopumpen bekannt, die
mit dreistufigen Refrigeratoren betrieben werden. In einem solchen Fall ist es zweckmäßig, zumindest die sich
zwischen der ersten und der·zweiten bzw. zwischen der zweiten und der dritten Stufe erstreckenden Abschnitte
des Refrigerators mit den erfindungsgemäßen Abschirmungen
zu versehen.
i Der Aufbau der Abschirmungen ist in vielen Variationen :
möglich. Die Abschirmungen können Hülsenform haben oder aus zwei Halbzylindern bestehen. Ein runder Querschnitt ist
dabei nicht zwingend. Das Material muß so gewählt sein, daß i
es bei den eintretenden Temperaturen noch gut wärmeleitend ι
ist, damit unerwünschte Temperaturgradienten nicht auf- I
treten. i
Leerseite
Claims (1)
- 82.022 . jLEYBOLD-HERAEUS GMBHKöln-BayentalRefrigerator-betriebene Kryopumpe
ANSPRÜCHERefrigerator-betriebene Kryopumpe mit den zu pumpenden Gasen ausgesetzten, zur Anlagerung dieser Gase bestimmten und nicht bestimmten Flächenabschnxtten, dadurch gekennzeichnet, daß den zur Anlagerung von Gasen nicht bestimmten Flächen (3, 8) eine Abschirmung (18, 19, 23) mit im wesentlichen konstanter Temperatur zugeordnet ist.2, Kryopumpe nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß ein zweistufiger Refrigerator vorgesehen ist und daß der sich zwischen der ersten und zweiten Stufe des Refrigerators erstrekkende Zylinderabschnitt (8) mit der Abschirmung (18, 19) ausgerüstet ist.3. Kryopumpe nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Abschirmung (19) an der ersten Stufe (4) des Refrigerators (2) gut wärmeleitend befestigt ist.4. Kryopumpe nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet , daß die Abschirmung (18) gut wärmeleitend an der zweiten Stufe (7) des Refrige-rators (2) befestigt ist.5. Kryopumpe nach Anspruch 2, 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet , daß die Abschirmung (18, 19) als an einer der beiden Stufen gut wärmeleitendbefestigte Hülse ausgebildet ist, die sich bis unmittelbar vor die jeweils andere Stufe erstreckt.6. Kryopumpe nach einem der vorhergehenden Ansprüche bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß auch der ersten Stufe (4) eine Abschirmung (23) zugeordnet ist.7. Kryopumpe nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß ein dreistufiger Refrigerator vorgesehen ist und daß mindestens die sich zwischen der ersten und der zweiten sowie zwischen der zweiten und der dritten Stufe erstreckenden Abschnitte eine Abschirmung mit im wesentlichen konstanter Temperatur aufweisen.8. Kryopumpe nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Abschirmung (18, 19, 23) aus mehreren Teilen besteht.9. Kryopumpe nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet , daß die Abschirmung (18, 19, 23) aus zwei Halbzylindern besteht.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3232324A DE3232324C2 (de) | 1982-08-31 | 1982-08-31 | Refrigerator-betriebene Kryopumpe |
US06/447,353 US4479360A (en) | 1982-08-31 | 1982-12-06 | Cryopump |
CH4655/83A CH661099A5 (de) | 1982-08-31 | 1983-08-25 | Refrigerator-betriebene kryopumpe. |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3232324A DE3232324C2 (de) | 1982-08-31 | 1982-08-31 | Refrigerator-betriebene Kryopumpe |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3232324A1 true DE3232324A1 (de) | 1984-03-08 |
DE3232324C2 DE3232324C2 (de) | 1986-08-28 |
Family
ID=6172128
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3232324A Expired DE3232324C2 (de) | 1982-08-31 | 1982-08-31 | Refrigerator-betriebene Kryopumpe |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4479360A (de) |
CH (1) | CH661099A5 (de) |
DE (1) | DE3232324C2 (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1992014057A1 (en) * | 1991-01-30 | 1992-08-20 | Helix Technology Corporation | Cryopump with improved second stage passageway |
WO1998034029A1 (en) * | 1997-02-05 | 1998-08-06 | Helix Technology Corporation | Cryopump with improved shielding |
CN110291291A (zh) * | 2017-02-07 | 2019-09-27 | 住友重机械工业株式会社 | 低温泵 |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4896511A (en) * | 1987-01-27 | 1990-01-30 | Lessard Philip A | Optimally staged cryopump |
US4791791A (en) * | 1988-01-20 | 1988-12-20 | Varian Associates, Inc. | Cryosorption surface for a cryopump |
US4815303A (en) * | 1988-03-21 | 1989-03-28 | Duza Peter J | Vacuum cryopump with improved first stage |
DE8804218U1 (de) * | 1988-03-29 | 1988-05-11 | Leybold AG, 6450 Hanau | Einrichtung zur Evakuierung einer Vakuumkammer |
US6122921A (en) * | 1999-01-19 | 2000-09-26 | Applied Materials, Inc. | Shield to prevent cryopump charcoal array from shedding during cryo-regeneration |
JP4521047B2 (ja) * | 2008-05-16 | 2010-08-11 | 住友重機械工業株式会社 | クライオポンプ |
US20110283737A1 (en) * | 2010-05-20 | 2011-11-24 | Siemens Medical Solutions Usa, Inc. | Process for separating gases at cryogenic temperatures |
CN106438276B (zh) * | 2015-08-10 | 2019-05-28 | 住友重机械工业株式会社 | 低温泵 |
CN111989487B (zh) * | 2018-04-25 | 2022-11-18 | 住友重机械工业株式会社 | 低温泵、低温泵系统及低温泵的再生方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2620880A1 (de) * | 1976-05-11 | 1977-11-24 | Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg | Kryopumpe |
DE2821276A1 (de) * | 1977-05-16 | 1978-11-23 | Air Prod & Chem | Kryopumpe |
DE2912856A1 (de) * | 1978-04-18 | 1979-10-31 | Balzers Hochvakuum | Kryopumpe |
DE2936931A1 (de) * | 1978-09-18 | 1980-03-27 | Varian Associates | Verfahren und vorrichtung zum entfernen von zwei gasen aus einer kammer |
DE3038415A1 (de) * | 1979-10-18 | 1981-04-30 | Varian Associates, Inc., Palo Alto, Calif. | Kryogenpumpvorrichtung |
DE3034934A1 (de) * | 1979-09-28 | 1982-04-22 | Varian Associates, Inc., 94303 Palo Alto, Calif. | Kryogenpumpe mit strahlungsschutzschild |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54153315A (en) * | 1978-05-24 | 1979-12-03 | Aisin Seiki Co Ltd | Cryopump |
US4336690A (en) * | 1979-09-28 | 1982-06-29 | Varian Associates, Inc. | Cryogenic pump with radiation shield |
US4311018A (en) * | 1979-12-17 | 1982-01-19 | Varian Associates, Inc. | Cryogenic pump |
-
1982
- 1982-08-31 DE DE3232324A patent/DE3232324C2/de not_active Expired
- 1982-12-06 US US06/447,353 patent/US4479360A/en not_active Expired - Fee Related
-
1983
- 1983-08-25 CH CH4655/83A patent/CH661099A5/de not_active IP Right Cessation
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2620880A1 (de) * | 1976-05-11 | 1977-11-24 | Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg | Kryopumpe |
DE2821276A1 (de) * | 1977-05-16 | 1978-11-23 | Air Prod & Chem | Kryopumpe |
DE2912856A1 (de) * | 1978-04-18 | 1979-10-31 | Balzers Hochvakuum | Kryopumpe |
DE2936931A1 (de) * | 1978-09-18 | 1980-03-27 | Varian Associates | Verfahren und vorrichtung zum entfernen von zwei gasen aus einer kammer |
DE3034934A1 (de) * | 1979-09-28 | 1982-04-22 | Varian Associates, Inc., 94303 Palo Alto, Calif. | Kryogenpumpe mit strahlungsschutzschild |
DE3038415A1 (de) * | 1979-10-18 | 1981-04-30 | Varian Associates, Inc., Palo Alto, Calif. | Kryogenpumpvorrichtung |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
DE-B.: Wutz, Adam, Walcher, Theorie und Praxis der Vakuumtechnik Viehweg-Verlag 1982, S. 348-350 * |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1992014057A1 (en) * | 1991-01-30 | 1992-08-20 | Helix Technology Corporation | Cryopump with improved second stage passageway |
WO1998034029A1 (en) * | 1997-02-05 | 1998-08-06 | Helix Technology Corporation | Cryopump with improved shielding |
FR2759120A1 (fr) * | 1997-02-05 | 1998-08-07 | Helix Tech Corp | Pompe cryogenique, et blindage pour pompe cryogenique |
GB2335469A (en) * | 1997-02-05 | 1999-09-22 | Helix Tech Corp | Cryopump with improved shielding |
GB2335469B (en) * | 1997-02-05 | 2000-11-15 | Helix Tech Corp | Cryopump with improved shielding |
CN110291291A (zh) * | 2017-02-07 | 2019-09-27 | 住友重机械工业株式会社 | 低温泵 |
CN110291291B (zh) * | 2017-02-07 | 2021-07-20 | 住友重机械工业株式会社 | 低温泵 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4479360A (en) | 1984-10-30 |
CH661099A5 (de) | 1987-06-30 |
DE3232324C2 (de) | 1986-08-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3232324A1 (de) | Refrigerator-betriebene kryopumpe | |
WO1992008894A1 (de) | Verfahren zur regeneration einer kryopumpe sowie zur durchführung dieses verfahrens geeignete kryopumpe | |
EP0608232B1 (de) | Kryopumpe mit einem im wesentlichen topfförmigen gehäuse | |
DE1751051C3 (de) | Kryostat mit einer Vakuumkammer | |
DE2252292C3 (de) | Wärmetransportvorrichtung | |
EP0603180A1 (de) | Kryopumpe. | |
DE4006755A1 (de) | Zweistufige kryopumpe | |
EP0384922B1 (de) | Mit einem zweistufigen Refrigerator betriebene Kryopumpe | |
DE2620880A1 (de) | Kryopumpe | |
DE2316831B2 (de) | Verfahren und Anlage zur Behandlung von Abgasen, die radioaktive Verunreinigungen, insbesondere Krypton- und Xenonnuklide, enthalten | |
DE1903643A1 (de) | Verfahren zum Kuehlen eines Verbrauchers,der aus einem teilweise stabilisierten Supraleitungsmagneten besteht | |
DE2949092A1 (de) | Kryopumpe | |
DE3046458A1 (de) | Refrigerator-kryostat | |
EP0144522A2 (de) | Getter-Sorptionspumpe mit Wärmespeicher für Hochvakuum- und Gasentladungsanlagen | |
DE4125423C2 (de) | Kühlkreislauf für den schwerelosen Raum | |
DE4243816A1 (de) | Sorptionsmittel-Patrone | |
DE3330146A1 (de) | Vorrichtung und verfahren zur schnellen regeneration von autonomen kryopumpen | |
DE69214845T2 (de) | Kryopumpe mit differenzleistung | |
DE69213825T2 (de) | Gas-Laser vom Gaszirkulationstyp und Verfahren zu seinem Betrieb | |
EP0394452A1 (de) | Cryoabsorptionspumpe | |
DE3635941C2 (de) | ||
DE10331201A1 (de) | Kryopumpe | |
DE4324311A1 (de) | Kryopumpe | |
DE1080257B (de) | Hochvakuumpumpe | |
DE4302281A1 (de) | Vorrichtung zur Aufnahme und Abgabe von Wärmeenergie |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
8363 | Opposition against the patent | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: LEYBOLD AG, 5000 KOELN, DE |
|
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |