DE3226440A1 - Giessform und verfahren fuer den guss von siliziumbarren, die als material fuer solarzellen verwendbar sind - Google Patents

Giessform und verfahren fuer den guss von siliziumbarren, die als material fuer solarzellen verwendbar sind

Info

Publication number
DE3226440A1
DE3226440A1 DE19823226440 DE3226440A DE3226440A1 DE 3226440 A1 DE3226440 A1 DE 3226440A1 DE 19823226440 DE19823226440 DE 19823226440 DE 3226440 A DE3226440 A DE 3226440A DE 3226440 A1 DE3226440 A1 DE 3226440A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
container
silicon
silica
casting
casting mold
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE19823226440
Other languages
English (en)
Inventor
Massimo S. Donato Milanese Milano Gasparini
Sergio Sesto Calende Varese Pizzini
Massimo Calusco D'Adda Bergamo Rustioni
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
HELIOSIL SpA
Original Assignee
HELIOSIL SpA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by HELIOSIL SpA filed Critical HELIOSIL SpA
Publication of DE3226440A1 publication Critical patent/DE3226440A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B11/00Single-crystal growth by normal freezing or freezing under temperature gradient, e.g. Bridgman-Stockbarger method
    • C30B11/002Crucibles or containers for supporting the melt
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/02Silicon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B11/00Single-crystal growth by normal freezing or freezing under temperature gradient, e.g. Bridgman-Stockbarger method
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/02Elements
    • C30B29/06Silicon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/60Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape characterised by shape
    • C30B29/605Products containing multiple oriented crystallites, e.g. columnar crystallites

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)

Description

BESCHREIBUNG
Vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Gießform und auf ein Verfahren fur den Guß von Siliziumbarren, die als Material fur Solarzellen verwendbar sind, insbesondere .von großdimensionierten polykristallinen Barren.
Bekanntlich ermöglicht es die Anwendung besonderer Schmelzverfahren, polykristalline Barren zu erhalten, die eine Ze11struktur mit langgestreckten Kristallen oder Dendriten besitzen, wobei die Erstreckung dieser Kristalle im wesentlichen von der Richtung des Wärmeflusses in den Schmelzformen abhängt. Es ist auch bekannt, daß polykristallines Silizium zur Verwendung in der Herstellung von Solarzellen geeignet ist, solange die Abmessungen dieser Kristalle ausreichend groß sind. Auch scheint eine streng orientierte Struktur nicht unbedingt erforderlich zu sein, da nachgewiesen wurde, daß die Umwandlungswirksamkeit nur von den Dimensionen der Kristalle und der
Konzentration der Verunreinigungen abhangt.
Trotz dieser Voraussetzungen und trotz der Tatsache, daß das polykristalline Silizium als solches viel wirtschaftlicher ist als das normalerweise fur Solarzellen verwendete monokristalline Silizium, wurde das polykristalline Silizium bisher nur wenig in Solarzellen verwendet, da seine Herstellung in Form von Barren mit entsprechend großen Kristallen zur Verwendung als Material für Solarzellen besondere Probleme ergibt, welche von den physi- » kaiischen Eigenschaften des Siliziums sowie von erhöhten Kosten abhangen·
Im besonderen hangen diese Probleme vom Verlauf des Aus-
dehnungskoeffizienten des Siliziums mit der Temperatur · und von der hohen Rekristallisationstemperatur des Siliziums ab. Die Ausdehnung des Siliziums fuhrt zu Spannun-
n ·
gen an der Grenzflache Silizium/Form, wenn das geschmolzene Silizium in der Lage ist, die Formwände zu benetzen, wogegen die erhöhte Rekristallisationstemperatur eine Wärmebehandlung über längere Zeitdauer bei in der Nahe der Schmelztemperaturen liegenden Temperaturen erforderlich macht, um das Wachstum von Kristallen mit den notigen großen Abmessungen zu gewahrleisten.
In dieser Situation hat man allgemein erkannt, daß die strukturellen Eigenschaften des Behälters oder der Form, worin die Verfestigung des Siliziums erfolgt, den Abkuhlungsprozeß bis zu einem Ausmaß beeinflussen, daß dadurch die morphologischen Eigenschaften des erhaltenen Siliziumbarrens bestimmt werden. Die Untersuchungen im Zusammenhang mit der Herstellung von polykristallinem Silizium mit genügend großen Kristallen haben sich daher auf die Erstellung geeigneter Formen und dement sprechender geeigneter Gießverfahren konzentriert.
Beispielsweise wird auf die Untersuchungen der Wacker Chemitronic (DE-PS 2.508.803) verwiesen, welche auf der Verwendung einer Graphitform basieren, die auf eine Temperatur oberhalb 8000C und unterhalb der Schmelztemperatur des Siliziums vorerhitzt wird. In diese Form wird sodann das geschmolzene Silizium gegossen, welches lang- * sam in der Weise verfestigen gelassen wird, daß die Warme vorzugsweise vom Boden der Form aus entzogen wird, um ein säulenförmiges Wachstum der Kristalle zu begünstigen.
Mit diesen technischen Losungen ist es tatsächlich möglich, Kristalle von ausreichender Große und mit Säulenstruktur zu erhalten, es bleiben jedoch nach wie vor zahlreiche Nachteile bestehen: beispielsweise ist die Vorerwärmung der Form unbedingt erforderlich, um einen Bruch des.in Abkühlung begriffenen Barrens zu verhindern, und wird die maximale Vorwarmtemperatur in Abhängigkeit von den Benetzbarkeit seigenschaften des verwendeten Graphits ermittelt. Weiters sind die Dimensionen der Korner des erhaltenen polykristallinen Barrens relativ klein, weshalb die Umwandlungswirksamkeit der aus einem solchen Material erzeugten Solarzellen weit davon entfern.t .ist, optimal zu sein· Es darf auch nicht vergessen werden, daß nur gewisse Graphitarten in der Lage sind, den in einer Richtung verlaufenden Verfestigungsprozeß durchzustehen, ohne zu brechen oder ohne den Siliziumbarren zu brechen, und daß der Graphittiegel nicht wiederverwertet werden kann, was sich nachteilig auf die Produktionskosten auswirkt.
Allgemeine Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist die Schaffung einer Form und eines Verfahrens zum Guß großer Siliziumbarren fur Solarzellen unter Verwendung einer Form, welche Spannungen an der Grenzflache Silizium/Form vermeidet . und den Guß des geschmolzenen Siliziums direkt in die kalte Form ermöglicht.
Die durch vorliegende Erfindung geschaffene Form ist * einfach konstruiert und billig und gewährleistet die Gewinnung von Kristallen mit zufriedenstellenden Abmessungen. Die erfindungsgemaße Form besteht aus einem anderen Material als Graphit und kann mehrere Male be-
nützt werden.
Demnach betrifft die vorliegende Erfindung eine Gießform fur den Guß von Siliziumbarren, die als Material fur Solarzellen verwendbar sind, welche durch einen äußeren Stutzmantel, einen im Inneren des Mantels befindlichen Behalter aus im wesentlichen weichem und unter Krafteinwirkung verformbarem Material, welcher direkt das flussige Silizium aufnimmt, eine Auskleidung zwischen dem Behälter und den Seitenwänden des genannten Mantels aus wärmeisolierendem Material mit niedriger Wärmekapazität, eine Bodenschicht aus Zieselsand od.dgl. zwischen dem Behalter und dem Boden des Mantels, und einen Deckel aus warmeisolierendem Material, gekennzeichnet ist.
Eine solche Form bildet einen Behalter oder eine Gießform nach der Art eines weichen Tiegels, der in eine Isoliermasse eingesetzt wird, die eine geringe thermische Masse und ein großes Isoliervermogen besitzt, so daß die Schmelzwarme der ersten verfestigenden Siliziumschicht befähigt ist, die Wände des Behalters bis in die Nahe der Schmelztemperatur des Siliziums zu bringen. Dadurch kann das Silizium unter den fur die Bildung großer Korner und zur Vermeidung von Spannungen in der Masse des Barrens besten Bedingungen erstarren, u.zw. auch in Abwesenheit irgendeines die Ausdehnung des Barrens im Verlauf des Abkuhlprozesses hemmenden Hindernisses, welcher Prozeß 24-42 h, vorzugsweise 30 - 35 h ι dauert. Es wird daher eine Vorrichtung geschaffen, welche die Integrität des Siliziumbarrens gewahrleistet, ohne daß dabei die Form vorgewärmt zu werden braucht.
Weitere Einzelheiten der Erfindung sind der folgenden Beschreibung eines "bevorzugten Ausfuhrungsbeispieles der Erfindung unter Hinweis auf beiliegende Zeichnung, die eine erfindungsgemäß aufgebaute Gießform im Vertikalschnitt zeigt, zu entnehmen· . '.
In der Zeichnung ist die erfindungsgemaße Form allgemein mit der Bezugsziffer 1 bezeichnete Sie weist außen einen
Stutzmantel 2 auf, der vorzugsweise aus Metall, beispiels-
tl.
weise aus Stahl, besteht und einen Behalter 3 mit wesentlich kleineren Abmessungen aufnimmt.
Der Behalter 3 bildet die eigentliche Form und hat im dargestellten Pail quadratischen Querschnitt. Erfindungsgemäß besteht der Behalter 3 aus im wesentlichen weichem und unter Krafteinwirkung verformbarem Material, welches geeignet ist, direkt flussiges Silizium aufzunehmen. Insbesondere kann der Behälter unter Verwendung von Gewebe aus Keramikfaser, Kieselsäurefaser oder Kieselsäure-Aluminiumoxidfaser, oder unter Verwendung von Graphitfasern, vorzugsweise Keramikfasern, oder auch unter Verwendung von Platten aus keramischem Kieselsaure-Aluminiumoxid-Material geschaffen werden.
Auf Grund der Tatsache, daß eine dünne Schicht von erstarrtem Silizium sofort gebildet wird und ein Durchlecken an Stoßstellen verhindert^ ist es nicht notwendig, die Form an den Rändern ohne Stoßstellen aus- » zubilden·
Zwischen dem Behälter 3 und den Seitenwänden 2 ist eine Auskleidung 4- aus wärmeisolierendem Material und mit
ti η
niedriger Wärmekapazität vorgesehen. Beispielsweise kann die Auskleidung 4 aus Keramikfaserflocken od.dgl. bestehen.
Zwischen dem Behälter 3 und dem-Boden des Stützmantels ist schließlich eine Bodenschicht 5 aus Kieselsand von entsprechender Dicke vorgesehen.
Die Dicke sowohl der Auskleidung 4 als auch der Bodenschicht 5 können von Pail zu Pail unter Anwendung der die Wärmediffusion betreffenden Algorithmen errechnet werden, so daß der Verlauf des Wärmestromes vom Boden des Behalters 3 aus in einer Richtung gewährleistet ist.
Weiters ist auch ein Deckel 6 vorgesehen, der aus einer Reihe von Platten aus Keramikfasern besteht, die auch als Strahlenschutz schirm : funktioniert.
Die Punktionsweise der oben beschriebenen erfindungsgemäßen Gießform hinsichtlich ihres Aufbaues ist offensichtlich. Der Behälter 3 ist sowohl wegen des Materials, aus welchem er besteht, als auch deswegen, weil er in einer vorzugsweise aus einfachen PIockenagglomeraten bestehenden Auskleidung 4 enthalten ist, weich und leicht verformbar. Diese Weichheit des Behälters 3 verhindert das Auftreten von Spannungen an der Grenzflache "Silizium/ Porm während des Abkuhlens und Erstarrens des Siliziums. Das die Auskleidung 4 bildende warmeisolierende Material ' mit niedriger Wärmekapazität verhindert ein rasches Abkühlen des Siliziums im Bereich der Seitenwände des Behälters, wogegen die entsprechend bemessene Bodenschicht aus Kieselsand od.dgl. einen in einer Richtung
» V 1
verlaufenden Warmestrom bestimmt»
Mit diesem System worden, ohne Vorwärmung der Form 1, Barren mit Abmessungen zwischen 30 χ 30 χ 12 cm und 16 χ 16 χ 8 cm mit orientierter Struktur und großen Kristallen erhalten.
Das erfindungsgemäße Verfahren wird durch die folgenden
(1 M
Beispiele naher erläutert.
BEISPIEL 1
Silizium von Solarqualitat oder elektronischer "off gradeil Qualität, welches zur Erzielung der gewünschten elektrischen Leitfähigkeit entsprechend gedopt worden war, wird in einem geeigneten Behälter mittels eines Mittelfrequenz-Induktionsofens (3000-1000 Hz) unter Inertgas oder einem mäßigen Argon- und/oder Wasserstoffvakuum (>10 Torr) geschmolzen und sodann mit einem geeigneten System zur Schwenkung des Tiegels in eine Porm bestehend aus einem Behälter aus Keramikfaser mit den folgenden Abmessungen 16,5 x 16,5 x 16,5 cm gegossen, der sich in einem an den Seiten mit Aluminiumoxidfaserflocken isolierten Behälter befand. Der Boden der Form bestand aus einer 5 cm dicken Schicht aus Quarzsand.
Nach dem Füllen der Form bis zur 2/3 . wird die obere
Il Ii
Öffnung rasch verschlossen und das System naturlich
bei Baumtemperatur abkühlen gelassen. ι
Nach dem Abkühlen kann der Barren aus der Form entnommen werden und wenn er zu Scheiben geschnitten ist, so zeigt sich eine typische makrokristalline Struktur
' 3226U0
mit einer durchschnittlichen Korndimension von oberhalb 10 mm.
BEISPIEL 2
Silizium von Solarqualität oder elektronischer "off grades Qualität, welches zur Erzielung der gewünschten elektrischen Leitfähigkeit entsprechend gedopt worden war, wird in einem geeigneten Behälter mittels eines Mittelfrequenz-Induktionsofens (3000 - 1000 Hz) unter einem maßigen Argon- und/oder Wasser st off vakuum oder unter Inertgas "bei atmosphärischem Druck geschmolzen und sodann mittels eines geeigneten Systems zum Schwenken des Tiegels in eine Form bestehend aus einem Behälter aus Keramikfasern mit den Abmessungen 16,5 x 16,5x16,5cm gegossen, der sich in einem an den Seiten mit Graphitfilz isolierten Stahlbehälter "befand.
Der Boden der Form bestand aus einer 5 cm dicken Schicht aus Quarzsand.
Nach dem Füllen der Form bis zur Hälfte wird die obere öffnung rasch verschlossen und das System naturlich bei Raumtemperatur abkühlen gelassen.
Nach dem Abkühlen kann der Barren aus der Form entnommen werden und wenn er zu Scheiben geschnitten ist, zeigt er eine makrokristalline Struktur ähnlich der in Beispiel 1.,Die Erfindung erreicht somit die eingangs ge- s stellten Ziele.
Es ist zu beachten, daß das unter Verwendung der neuen Form durchgeführte Gießverfahren vor dem Eingießen des
flüssigen Siliziums keine Vorwarmphase vorsieht. Weitere ist hervorzuheben, daß auf Grund eines weichen Behalters bzw. einer weichen Gießform und eines Isoliersystems mit niedriger Wärmekapazität zufriedenstellende poly- · kristalline Siliziumbarren von saulenartiger Struktur und in Form von großer Körnung erhalten werden können.
Die oben beschriebene Erfindung kann in vieler Hinsicht abgeändert und variiert werden, ohne dadurch ihren Eahmen zu überschreiten, desgleichen können alle Einzelheiten durch technisch äquivalente Elemente ersetzt und in der Praxis die Formen und angewendeten Materialien und Abmessungen, solange die gestellten Bedingungen eingehalten werden, beliebig gewählt werden·

Claims (10)

  1. PATSNTA NW A LTE DR. RUDOLF BAUER Dipl. Ing. HELMUT HUBBUCH
    ilPhs. ULRICH TWELMBlfcR
    ^ek^eSi/^^LecpoWpL-TeJ.COja 783Ο PFORZHEIM - WEST
    HELIOSIL S.p.A. - Via Franchetti, 1/A - MILANO
    ITALIEN
    GIESSFOEM UND VERFAHREN FTJR DEN GUSS VON SILIZIUMBARREN, DIE ALS MATERIAL FUR SOLARZELLEN VERWENDBAR SIND.
    PATENTANSPRÜCHE
    1· Gießform fur den Guß von Siliziumbarren, die als Ma-Il
    terial fur Solarzellen verwendbar sind, gekennzeichnet durch einen äußeren Stützmantel (2), einen im Inneren des Mantels "befindlichen Behalter (3) aus im wesentlichen weichem und unter Krafteinwirkung verformbarem Material, welcher direkt das flussige Silizium aufnimmt, eine Auskleidung (4) zwischen dem Behalter (3) und den Seitenwanden des genannten Mantels (2) aus warmei solierendem Material mit niedriger Wärmekapazität, eine Bodenschicht (5) aus Kieselsand od.dgl· zwischen dem Behälter (3) und dem Boden des Mantels (2), und einen Deckel (6) aus warmeisolierendem Material.
  2. 2. Gießform nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Auskleidung (4) und die Bodenschicht (5) in ihren Dicken in Abhängigkeit vom Volumen und den thermischen Eigenschaften des im Behalter (3) vorgesehenen Siliziums "bemessen sind, um einen einsinnig gerichteten Wärmefluß vom Formboden aus zu gewährleisten.
  3. 3. Gießform nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Mantel (2) aus Metall "besteht.
  4. 4. Gießform nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Auskleidung (4) aus Keramikfaserflocken od.dgl. Material "besteht.
  5. 5. Gießform nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Behälter (3) aus Keramikfasern, ausgewählt aus Kieselsäure- und Kieselsaure-Aluminiumoxid-Fasern, "besteht.
  6. 6. Gießform nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Behälter (3) aus Graphitfasern besteht.
  7. 7. Gießform nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
    ti M
    der Behalter (3) aus Platten aus keramischen Kieselsaure-Aluminiumoxid-Materiai besteht.
  8. 8. Gießform nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Deckel (6) aus einer Eeihe von Platten aus Keramikfasern besteht.
  9. 9· Verfahren zum Erschmelzen von Siliziumbarren, die
    als Material fur Solarzellen verwendbar sind, dadurch gekennzeichnet, daß es folgende Phasen umfaßt: Schmelzen von Kieselsaure, ausgewählt aus Kieselsaure von Solar-' qualitat und Kieselsaure von elektronischer-.Qualität, Umgießen des geschmolzenen Siliziums in eine kalte Form (1) nach den Ansprüchen 1-8, Schließen der Form und Abkühlen der Kieselsäure auf Eaumtemperatur.
  10. 10. Verfahren nach Anspruch 9f dadurch gekennzeichnet, daß das Schmelzen unter einem mäßigen Argon- und/oder Wasserstoffvakuum durchgeführt wird.
    11· Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet,
    Il
    daß das Schmelzen unter Inertgas bei atmosphärischem
    Druck durchgeführt wird·
DE19823226440 1981-07-20 1982-07-15 Giessform und verfahren fuer den guss von siliziumbarren, die als material fuer solarzellen verwendbar sind Withdrawn DE3226440A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
IT23007/81A IT1137729B (it) 1981-07-20 1981-07-20 Stampo e procedimento per la fusione di lingotti di silicio atti ad essere utilizzati come materiale per celle solari

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE3226440A1 true DE3226440A1 (de) 1983-02-03

Family

ID=11202800

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19823226440 Withdrawn DE3226440A1 (de) 1981-07-20 1982-07-15 Giessform und verfahren fuer den guss von siliziumbarren, die als material fuer solarzellen verwendbar sind

Country Status (4)

Country Link
BE (1) BE893894A (de)
DE (1) DE3226440A1 (de)
FR (1) FR2509638A1 (de)
IT (1) IT1137729B (de)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3520957B2 (ja) * 1997-06-23 2004-04-19 シャープ株式会社 多結晶半導体インゴットの製造方法および装置
FR2853913B1 (fr) * 2003-04-17 2006-09-29 Apollon Solar Creuset pour un dispositif de fabrication d'un bloc de materiau cristallin et procede de fabrication
DE102005024957A1 (de) * 2005-05-31 2006-12-07 Saint-Gobain Industriekeramik Rödental GmbH Mehrteiliger, dünnwandiger Tiegel mit Einlage aus Quarzglasgewebe oder Quarzglasfilz zum Abkühlen von Si-Schmelzen
US8562740B2 (en) * 2010-11-17 2013-10-22 Silicor Materials Inc. Apparatus for directional solidification of silicon including a refractory material
EP2589687A1 (de) * 2011-11-04 2013-05-08 Vesuvius France (S.A.) Tiegel und Verfahren zur Herstellung eines (fast) monokristallinen Halbleiterblocks

Also Published As

Publication number Publication date
FR2509638B3 (de) 1984-08-10
IT1137729B (it) 1986-09-10
BE893894A (fr) 1982-11-16
IT8123007A0 (it) 1981-07-20
FR2509638A1 (fr) 1983-01-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69932760T2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Siliciumstabes mit einer Struktur hergestellt durch gerichtete Erstarrung
DE102008026144B4 (de) Kristallzüchtungsofen mit Konvektionskühlungsstruktur
EP0165449B1 (de) Verfahren zur Herstellung von Halbleiterfolien
DE60015228T2 (de) Verfahren zur Herstellung von kristallinem Silizium
DE2461553A1 (de) Verfahren zum erzeugen von einkristallen
EP1227908B1 (de) Verfahren zur herstellung metallischer gitternetzstrukturen
DE602004004095T2 (de) Tiegel für eine vorrichtung zur herstellung eines kristallinen blockes, und verfahren zu seiner herstellung
DE102014113806B4 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von DS/SC Gusskörpern
DE2059713A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von Halbleiter-Einkristallen nach der Czochralski-Methode
DE2933761C2 (de) Verfahren zur Herstellung gerichtet erstarrter Gußstücke
DE2252548A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum herstellen von legierungen mit einer durch orientiertes erstarren erzeugten struktur
DE3226440A1 (de) Giessform und verfahren fuer den guss von siliziumbarren, die als material fuer solarzellen verwendbar sind
DE3532131A1 (de) Verfahren zur gerichteten erstarrung von metallschmelzen
DE3207777C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Rohrstranggießen von Metallen, inbes. Nickel- und Kobaltlegierungen
DE2845459A1 (de) Verfahren zum schutz von kohlenstoffkoerpern
DE1941968C3 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Einkristallen
DE3220285A1 (de) Verfahren zum herstellen polykristalliner, fuer nachfolgendes zonenschmelzen geeigneter siliciumstaebe
LU84517A1 (de) Verfahren zum herstellen polykristalliner,fuer nachfolgendes zonenschmelzen geeigneter siliciumstaebe
DE3310827A1 (de) Verfahren zur herstellung von grobkristallinem silicium
DE69113676T2 (de) Vorrichtung und Verfahren zum Präzisionsgiessen.
DE2646299C2 (de) Verfahren zur Herstellung rotationssymmetrischer Siliciumformkörper
WO1998005450A1 (de) Verfahren und einrichtung zur gerichteten erstarrung einer schmelze
DE3220338A1 (de) Verfahren zum herstellen polykristalliner, fuer nachfolgendes zonenschmelzen geeigneter siliciumstaebe
LU84518A1 (de) Verfahren zum herstellen polykristalliner,fuer nachfolgendes zonenschmelzen geeigneter siliciumstaebe
DE3220343A1 (de) Verfahren zum herstellen polykristalliner siliciumstaebe

Legal Events

Date Code Title Description
8139 Disposal/non-payment of the annual fee