DE3214256A1 - Vorrichtung zur handhabung eines substrates - Google Patents
Vorrichtung zur handhabung eines substratesInfo
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Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19823214256 DE3214256A1 (de) | 1982-04-17 | 1982-04-17 | Vorrichtung zur handhabung eines substrates |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19823214256 DE3214256A1 (de) | 1982-04-17 | 1982-04-17 | Vorrichtung zur handhabung eines substrates |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE3214256A1 true DE3214256A1 (de) | 1983-10-20 |
| DE3214256C2 DE3214256C2 (OSRAM) | 1993-08-05 |
Family
ID=6161191
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19823214256 Granted DE3214256A1 (de) | 1982-04-17 | 1982-04-17 | Vorrichtung zur handhabung eines substrates |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE3214256A1 (OSRAM) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0202904A3 (en) * | 1985-05-20 | 1988-01-07 | Tegal Corporation | Plasma reactor with removable insert |
| EP0555890A3 (en) * | 1985-10-24 | 1993-09-15 | Texas Instruments Incorporated | Vacuum processing system |
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| US12009186B2 (en) | 2017-06-28 | 2024-06-11 | Meyer Burger (Germany) Gmbh | Device for transporting substrate, treatment device with receiving plate adapted to substrate carrier of a device of this kind, and method for processing a substrate using a device of this kind for the transport of a substrate, and treatment facility |
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-
1982
- 1982-04-17 DE DE19823214256 patent/DE3214256A1/de active Granted
Patent Citations (2)
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| US12009186B2 (en) | 2017-06-28 | 2024-06-11 | Meyer Burger (Germany) Gmbh | Device for transporting substrate, treatment device with receiving plate adapted to substrate carrier of a device of this kind, and method for processing a substrate using a device of this kind for the transport of a substrate, and treatment facility |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3214256C2 (OSRAM) | 1993-08-05 |
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| DE3214256A1 (de) | Vorrichtung zur handhabung eines substrates |
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|
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