DE3208638A1 - Lumineszenzdiode aus siliziumkarbid - Google Patents
Lumineszenzdiode aus siliziumkarbidInfo
- Publication number
- DE3208638A1 DE3208638A1 DE19823208638 DE3208638A DE3208638A1 DE 3208638 A1 DE3208638 A1 DE 3208638A1 DE 19823208638 DE19823208638 DE 19823208638 DE 3208638 A DE3208638 A DE 3208638A DE 3208638 A1 DE3208638 A1 DE 3208638A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- layer
- substrate body
- silicon carbide
- emitting diode
- light emitting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/02—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
- H01L33/26—Materials of the light emitting region
- H01L33/34—Materials of the light emitting region containing only elements of group IV of the periodic system
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/0004—Devices characterised by their operation
- H01L33/0008—Devices characterised by their operation having p-n or hi-lo junctions
Description
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT Unser Zeichen Berlin und München VPA δ? Ρ 1 1 6 8 DE
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Lumineszenzdiode, wie sie im Oberbegriff des Patentanspruchs
5- 1 angegeben ist.
Aus dem Stand der Technik ist ein Mesa-Aufbau einer Lumineszenzdiode aus Siliziumkarbid bekannt. Dieser
Aufbau besteht aus einem zur Erzielung eines geringen Bahnwiderstands hochdotierten p-leitenden Substratkör- '
per aus Siliziumkarbid, auf dessen Oberfläche sich eine erste epitaktisch abgeschiedene Schicht aus Siliziumkarbid
mit Aluminium-Dotierung und auf dieser Schicht eine zweite Schicht befindet, die mit Aluminium und Stickstoff
dotiert ist und die dementsprechend η-leitend ist. ■Der eigentliche Mesa-Aufbau ist derart, daß der Mesa
nicht nur durch die beiden Schichten, sondern auch noch durch einen wesentlichen Anteil des Substratkörpers gebildet
ist, d.h. es sind Randbereiche des Substratkörpers entfernt, die die beiden genannten ebenfalls mesaförmigen
Schichten umgeben. Auf der zweitobersten Schicht dieses Mesa-Aufbaues ist die eine Elektrode als
■ Stromzuführungskontakt angebracht. Die Gegenelektrode besteht in einer entsprechenden- Metallisierung derjenigen
Rückseite des Substratkörpers, die - bezogen auf den Substratkörper - dem Mesa-Aufbau gegenüberliegend
.ist..
Eine solche bekannte Siliziumkarbid-Lumineszenzdiode sendet blaues Licht aus, und zwar - gesehen aus der
Richtung des Substratkörpers - in Richtung weg vom Substratkörper und seinem Kesa-Aufbau. Lumineszenzstrah-
Bts 1 BIa / 9.3.1982
_ä- 82 P 1 1 6 8 DE
lung, die zwar in der Übergangsschicht erzeugt wird, jedoch in Richtung in das Substrat ausgesandt wird - und
dies ist ein wesentlicher Anteil der insgesamt erzeugten Lumineszenzstrahlung - wird in dem hochdotierten SiIi- .
ziumkarbid-Substratkörper weitgehend absorbiert.
Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, einen Aufbau für eine Siliziumkarbid-Lumineszenzdiode anzugeben,
die eine höhere Lichtausbeute als vergleichbare Dioden des Standes der Technik hat.
Diese Aufgabe wird für eine Lumineszenzdiode nach dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1. erfindungsgemäß mit
Hilfe der Merkmale des Kennzeichens des Anspruchs 1 gelöst. ·'
Bei der Erfindung ist die Verwendung eines elektrisch isolierenden bzw. niedrigdotierten Substratkörpers vorgesehen.
Diese gemäß einem erfindungsgemäßen Merkmal vorgesehene Eigenschaft des Substratkörpers gewährleistet,
daß aus dem Strahlungsemittierenden Übergang in den Substratkörper ausgesandte Lumineszenzstrahlung diesen ohne
sehr wesentliche Absorption durchdringen kann. Es kann dabei als Weiterbildung durchaus eine Verspiegelung der
Rückseite des Substratkörpers vorgesehen sein, die das durch den Substratkörper hindurch auf diese Fläche auftreffende
Licht zurückreflektiert und damit das übrige in Richtung weg vom Substrat ausgestrahlte Lumineszenzlicht verstärkt.
Gemäß einer Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, daß sich die Ausbildung des Mesa-Aufbaues - abgesehen
von der zweiten Schicht - nur auf einen Anteil der ersten (auf dem Substratkörper befindlichen) Schicht erstrecl-rt.
Damit wird erreicht, daß diese erste Schicht auf dem
82 P 1 1 6 8 DE
Substratkörper einen flächenmäßigen Ausläufer besitzt, auf dem sich die zugehörige zweite Gegenelektrode befindet.
Wenigstens im Bereich der zweiten Elektrode und in vom Stromfluß durchsetzten Bereichen der ersten Schicht
.muß diese erste Schicht über dem Substratkörper noch eine solche Dicke haben, daß der Reihenwiderstand für den
Stromfluß durch die Diode hindurch keinen zu großen Wert annimmt.
Anstatt einen wie an sich bekannten Mese-Aufbau auch für
die Erfindung vorzusehen, kann eine erfindungsgemäße Diode auch so aufgebaut sein, daß die zweite Schicht völlig
oder nahezu völlig abgedeckt wird. Bei völliger Abdeckung ist ein seitlicher elektrischer Kontakt als Gegenelektrode
an der ersten Schicht vorzusehen. Bei nur nahezu völliger Abdeckung weist die zweite Schicht eine lochartige
oder eine am Rand dieser zweiten Schicht befindliche, bis auf die erste Schicht reichende Aussparung
auf, die ausreichend groß ist, Platz für die dort auf der ersten Schicht anzubringende Gegenelektrode zu bieten.
Weitere Erläuterungen der Erfindung gehen aus der nachfolgenden, anhand der Figuren gegebenen Beschreibung von
Ausführungsbeispielen hervor.
Fig.1 zeigt eine erste Ausführungsform der Erfindung mit
bevorzugtem Mesa-Aufbau;
Fig.2 zeigt lediglich schematisch einen alternativen Aufbau
mit seitlich an der ersten Schicht angebrachter Gegenelektrode;
Fig.3 zeigt eine weitere -Alternative, nämlich mit einer
Aussparung für die Gegenelektrode, d.h. bei nahezu völliger Bedeckung der ersten Schicht,'
Fig.4 zeigt eine Aufsicht einer Ausführungsform nach
Fig.1, und
Fig.5 zeigt eine Aufsicht auf eine weitgehend der Fig.3
entsprechende Ausführungsform, bei der die Aussparung bis an den Rand der zweiten Schicht reicht.
Bei allen dargestellten Ausfuhrungsformen der Erfindung ist der erfindungsgemäß ausgewählte Substratkörper mit
bezeichnet, Mit 2 ist die erste Schicht und mit 3 ist die zweite Schicht bezeichnet, zwischen denen sich der
mit 4 bezeichnete Übergang befindet, in dem bzw. in dessen Nähe die Lumineszenzstrahlung dieser Diode erzeugt
wird. Mit 5 ist die eine der beiden Elektroden zur Stromzuführung bezeichnet. Die zweite Elektrode, die
hier auch als Gegenelektrode bezeichnet ist, ist bei den Ausführungsbeispielen der Fig.1 und 3 (und damit auch
der Fig.4 und 5) mit 6 bezeichnet. Die beim Ausführungsbeispiel der Fig.2 am Rand der Schicht angebrachte Gegen-
elektrode ist mit 61 bezeichnet.
Mit den wenigen mit 7 bezeichneten Pfeilen ist auf die von der erfindungsgemäßen Lumineszenzdiode weg vom Substratkörper
der Diode ausgesandte Lumineszenzstrahlung hingewiesen, wie sie auch bei der für den Oberbegriff
zugrunde gelegten bekannten Lumineszenzdiode auftritt und austritt. Kit den ebenfalls nur wenigen Pfeilen 8
ist auf die zwar ebenfalls im Bereich des Übergangs 4 erzeugte, jedoch in Richtung in den Substratlcörper aus-.gesandte
Lumineszenzstrahlung hingewiesen, die beim Stand der Technik jedoch durch Absorption verlorengeht. Bei
der Erfindung dagegen gelangt diese Strahlung 8 in für diese Strahlung transparentes Siliziumkarbid und kann
als Strahlung 8' - wie dargestellt - aus dem Substratkörper
1 wieder austreten oder - bei Vorhandensein einer
4 <: ι
1< g, H
-^- δ2 P ί ί 6 8 OE
wie beim Ausführungsbeispiel der Fig.1 dargestellten
reflektierenden rückseitigen Belegung 9 des Substratkörpers 1 - als Strahlung 8" wieder zurückreflektiert werden.
Wie ersichtlich, verstärkt die zurückreflektierte Strahlung 8" die ausgesandte Strahlung 7.
Mit dem Bezugszeichen 10 ist auf den Mesa-Aufbau der spe- ~
ziellen Ausführungsform nach Fig.1 hingewiesen. Wie in der Fig.1 dargestellt, verläuft die Kontur bzw. die Oberfläche
dieses Mesa-Aufbaues 10 zumindest dort, wo sich die Gegenelektrode 6 befindet, bis zum äußeren Rand der
ganzen Anordnung. Für den Stromfluß zwischen den beiden Elektroden 5 und 6 ergibt sich ein Strompfad, der nicht
auf Anteile des - im Falle der Erfindung elektrisch isolierenden - Substratkörpers 1 angewiesen ist. Insbesondere
unterhalb der Elektrode 6 ist die Schicht 2 noch so dick, daß ihr Querschnitt keinen nennenswerten (zusätzlichen
bzw. störenden) Serienwiderstand verursacht. Lediglich der Vollständigkeit halber sei darauf hingewiesen, daiB
an Stellen neben bzw. abseits der Gegenelektrode 6 diese Kontur 10 des Mesa-Aufbaues auch bis auf bzw. bis in den
Substratkörper reichen kann.
Die voranstehenden Ausführungen gelten sinngemäß auch
für die Ausführungsbeispiele, der Fig.2 und 3. 3eim Ausführungsbeispiel
nach Fig.2 ist seitliche Anbringung der Gegenelektrode 6' an der ersten Schicht vorgesehen. Technologisch
einfacher ist es jedoch,· die Gegenelektrode 6 in einer Aussparung 31 der zweiten Schicht 3' anzubringen,
wobei diese Aussparung 31 mindestens bis auf die Oberfläche der ersten Schicht 2' herabreicht.
Die Fig. A- zeigt eine Gegenelektrode 6, die einen technologischen
Aufbau gleich der Elektrode 5 haben kann. Bei der Darstellung der Fig.5 ist eine Aussparung 51 gezeigt,
• ·
die bis zum Rand der Anordnung reicht und die Platz für eine Gegenelektrode 6 bietet, wie sie zu der Ausführungsforra
nach den Fig.1 und 4 gezeigt und beschrieben ist.
3 Patentansprüche
5 Figuren
5 Figuren
Claims (3)
1. Lumineszenzdiode mit einer auf einem Substratkörper
befindlichen ersten, epitaktisch abgeschiedenen Schicht aus Siliziumkarbid-Halbleitermaterial des einen Leitungstyps, mit einer auf dieser ersten Schicht befindlichen
zweiten, epitaktisch abgeschiedenen Schicht aus Siliziumkarbid-Halbleitermaterial
des anderen Leitungstyps; und ' mit zwei Elektroden, von denen sich die eine Elektrode
auf der zweiten Schicht befindet, wobei der Substratkörper aus Siliziumkarbid besteht,
•gekennzeichnet dadurch, daß das Siliziumkarbid des Substratkörpers (1) derart niedrig dotiert ist, daß dieser Substratkörper (1) für die am Übergang (4) zwischen der ersten Schicht (2) und der zweiten Schicht (3) bei Flußpolung erzeugte Lumineszenzstrahlung (8) weitgehend transparent ist; und dadurch,
daß die andere Elektrode (6) auf einem an sich freiliegenden Anteil der ersten Schicht (2) angebracht ist.
•gekennzeichnet dadurch, daß das Siliziumkarbid des Substratkörpers (1) derart niedrig dotiert ist, daß dieser Substratkörper (1) für die am Übergang (4) zwischen der ersten Schicht (2) und der zweiten Schicht (3) bei Flußpolung erzeugte Lumineszenzstrahlung (8) weitgehend transparent ist; und dadurch,
daß die andere Elektrode (6) auf einem an sich freiliegenden Anteil der ersten Schicht (2) angebracht ist.
2. Lumineszenzdiode nach Anspruch 1, gekennzeichnet dadurch, daß die erste Schicht (2) zur
Erzeugung ihres Leitungstyps mit Aluminium dotiert ist und daß die zweite Schicht (3) zur Erzeugung des anderen
Leitungstyps mit Aluminium und mit Stickstoff dotiert ist, wobei das Maß der Stickstoff-Dotierung derart überwiegend
ist, daß dieser andere entgegengesetzte Leitungstyp vorliegt.
3. Lumineszenzdiode gekennze ichnet durch eine Mesa-Struktur (Fig.1).
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19823208638 DE3208638A1 (de) | 1982-03-10 | 1982-03-10 | Lumineszenzdiode aus siliziumkarbid |
US06/466,921 US4531142A (en) | 1982-03-10 | 1983-02-16 | Light emitting diode having silicon carbide layers |
JP58037215A JPS58166779A (ja) | 1982-03-10 | 1983-03-07 | 発光ダイオ−ド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19823208638 DE3208638A1 (de) | 1982-03-10 | 1982-03-10 | Lumineszenzdiode aus siliziumkarbid |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3208638A1 true DE3208638A1 (de) | 1983-09-22 |
DE3208638C2 DE3208638C2 (de) | 1992-06-17 |
Family
ID=6157840
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19823208638 Granted DE3208638A1 (de) | 1982-03-10 | 1982-03-10 | Lumineszenzdiode aus siliziumkarbid |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4531142A (de) |
JP (1) | JPS58166779A (de) |
DE (1) | DE3208638A1 (de) |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4762806A (en) * | 1983-12-23 | 1988-08-09 | Sharp Kabushiki Kaisha | Process for producing a SiC semiconductor device |
US4600935A (en) * | 1984-11-14 | 1986-07-15 | Rca Corporation | Back-to-back diodes |
JPS6347983A (ja) * | 1986-08-18 | 1988-02-29 | Sharp Corp | 炭化珪素電界効果トランジスタ |
CA1313571C (en) * | 1987-10-26 | 1993-02-09 | John W. Palmour | Metal oxide semiconductor field-effect transistor formed in silicon carbide |
US5319220A (en) * | 1988-01-20 | 1994-06-07 | Sharp Kabushiki Kaisha | Silicon carbide semiconductor device |
US5187547A (en) * | 1988-05-18 | 1993-02-16 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Light emitting diode device and method for producing same |
US4918497A (en) * | 1988-12-14 | 1990-04-17 | Cree Research, Inc. | Blue light emitting diode formed in silicon carbide |
US5061972A (en) * | 1988-12-14 | 1991-10-29 | Cree Research, Inc. | Fast recovery high temperature rectifying diode formed in silicon carbide |
US5027168A (en) * | 1988-12-14 | 1991-06-25 | Cree Research, Inc. | Blue light emitting diode formed in silicon carbide |
JPH06103757B2 (ja) * | 1989-06-22 | 1994-12-14 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | ダイヤモンド電子装置 |
US4966862A (en) * | 1989-08-28 | 1990-10-30 | Cree Research, Inc. | Method of production of light emitting diodes |
US5093576A (en) * | 1991-03-15 | 1992-03-03 | Cree Research | High sensitivity ultraviolet radiation detector |
US5378921A (en) * | 1991-10-21 | 1995-01-03 | Rohm Co., Ltd. | Heterojunction multicollector transistor |
US5394005A (en) * | 1992-05-05 | 1995-02-28 | General Electric Company | Silicon carbide photodiode with improved short wavelength response and very low leakage current |
US5298767A (en) * | 1992-10-06 | 1994-03-29 | Kulite Semiconductor Products, Inc. | Porous silicon carbide (SiC) semiconductor device |
US5406237A (en) * | 1994-01-24 | 1995-04-11 | Westinghouse Electric Corporation | Wideband frequency multiplier having a silicon carbide varactor for use in high power microwave applications |
JPH08250770A (ja) * | 1995-12-28 | 1996-09-27 | Nichia Chem Ind Ltd | 発光デバイスの製造方法 |
WO1999005728A1 (en) | 1997-07-25 | 1999-02-04 | Nichia Chemical Industries, Ltd. | Nitride semiconductor device |
JP3770014B2 (ja) | 1999-02-09 | 2006-04-26 | 日亜化学工業株式会社 | 窒化物半導体素子 |
DE60043536D1 (de) | 1999-03-04 | 2010-01-28 | Nichia Corp | Nitridhalbleiterlaserelement |
CN1729582A (zh) * | 2002-12-20 | 2006-02-01 | 克里公司 | 包含半导体平台结构和导电结的电子器件和所述器件的制作方法 |
TWI362769B (en) | 2008-05-09 | 2012-04-21 | Univ Nat Chiao Tung | Light emitting device and fabrication method therefor |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3986193A (en) * | 1973-02-08 | 1976-10-12 | Jury Alexandrovich Vodakov | Semiconductor SiCl light source and a method of manufacturing same |
US3999206A (en) * | 1974-11-04 | 1976-12-21 | Vladimir Alexandrovich Babenko | Semiconductor indicating device and method for production of same |
US4153905A (en) * | 1977-04-01 | 1979-05-08 | Charmakadze Revaz A | Semiconductor light-emitting device |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS546787A (en) * | 1977-06-17 | 1979-01-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Luminous element |
-
1982
- 1982-03-10 DE DE19823208638 patent/DE3208638A1/de active Granted
-
1983
- 1983-02-16 US US06/466,921 patent/US4531142A/en not_active Expired - Fee Related
- 1983-03-07 JP JP58037215A patent/JPS58166779A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3986193A (en) * | 1973-02-08 | 1976-10-12 | Jury Alexandrovich Vodakov | Semiconductor SiCl light source and a method of manufacturing same |
US3999206A (en) * | 1974-11-04 | 1976-12-21 | Vladimir Alexandrovich Babenko | Semiconductor indicating device and method for production of same |
US4153905A (en) * | 1977-04-01 | 1979-05-08 | Charmakadze Revaz A | Semiconductor light-emitting device |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
GB-Z: Solid State Electronics, 21, 1978, 1129-1132 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS58166779A (ja) | 1983-10-01 |
DE3208638C2 (de) | 1992-06-17 |
US4531142A (en) | 1985-07-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3208638A1 (de) | Lumineszenzdiode aus siliziumkarbid | |
DE3011484C2 (de) | Optisch steuerbare Halbleitervorrichtung | |
DE891580C (de) | Lichtelektrische Halbleitereinrichtungen | |
DE19901916A1 (de) | Halbleitende lichtemittierende Vorrichtung | |
DE202009018090U1 (de) | Halbleiter-Lichtemittervorrichtung | |
DE2608562C2 (de) | ||
DE2511281C2 (de) | Fotothyristor | |
DE1639019A1 (de) | Halbleiter-Gleichrichter | |
DE102008051048A1 (de) | Optoelektronischer Halbleiterkörper | |
DE1614300C3 (de) | Feldeffekttransistor mit isolierter Gateelektrode | |
DE102004021175B4 (de) | Halbleiterchips für die Optoelektronik und Verfahren zu deren Herstellung | |
DE2065245A1 (de) | Elektrolumineszenz-vorrichtung mit einem pn-uebergang | |
DE1639173A1 (de) | Temperaturkompensierte Z-Diode | |
DE2937260A1 (de) | Optischer transistor | |
DE102014114674A1 (de) | Strahlungsemittierender Halbleiterchip | |
DE7103228U (de) | Halbleiter-lichtquelle | |
EP0315145A1 (de) | Leistungs-Halbleiterbauelement mit vier Schichten | |
DE3531814C2 (de) | ||
DE2809564B2 (de) | Steuerbarer Halbleitergleichrichter | |
DE19537543A1 (de) | Lichtemittierende Diode | |
DE2042313C3 (de) | Halbleiterbauelement | |
DE2028657A1 (de) | Halbleiteranordnung | |
EP0235550A1 (de) | Halbleiterbauelement und Verfahren zu dessen Herstellung | |
DE4338187A1 (de) | Lichtemittierendes Halbleiterbauelement | |
DE3708666C2 (de) | Laseranordnung mit getrennt ansteuerbaren gekoppelten Halbleiterlasern |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OM8 | Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law | ||
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |