DE3109068A1 - Abbildungsfilm und herstellungsverfahren dafuer - Google Patents

Abbildungsfilm und herstellungsverfahren dafuer

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Description

Patentanwälte Dipl.-Ing. Hans-Jürgen Müller DipL-Chom. Dr. Gerhard Schupfner Dipl.-Ing. Hans-Peter Gauger Üjcile-Grahn-Str. 38-0 8000 München 80
Energy Conversion Devices, Inc 1675 West Maple Road Troy, Michigan 48084 V.St.A.
AbMldungsfilm und Herstellungsverfahren dafür
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Abbildungsfilm und Herstellungsverfahren dafür
Die Erfindung bezieht sich auf einen Trockenentwicklungs-Abbildungsfilm mit hoher Empfindlichkeit sowie auf ein Verfahren zur Herstellung dieses Abbildungsfilms. Insbesondere bezieht sich die Erfindung auf Verbesserungen des Dispersions-Abbildungsfilms entsprechend der US-Patentanmeldung Serial-Nr. 827 4-70 und der US-Patentanmeldung Serial-Nr. 072 438.
Der Trockenentwicklungs-Abbildungsfilm mit hoher Empfindlichkeit entsprechend der erstgenannten US-Patentanmeldung weist eine feste Schicht eines Dispersions-Abbildungsmaterials auf einem Träger auf, wobei diese Schicht hohe optische Dichte hat und im wesentlichen lichtundurchlässig ist. Die Schicht des Dispersions-Abbildungsmaterials umfaßt eine Mehrzahl gesonderte Schichten aus verschiedenen ind im wesentlichen gegenseitig unlöslichen Komponenten mit relativ hohen Schmelzpunkten und mit Eutektika mit relativ niedrigen Schmelzpunkten, wobei zwischen den Schichten Grenzflächen mit relativ niedrigen Schmelzpunkten vorgesehen sind. Die Schicht des Dispersions-Abbildungsmaterials wird mit Energie einer Intensität oberhalb eines kritischen Werts beaufschlagt, die ausreicht, um die in dem Dispersions-Abbildungsmaterial absorbierte Energie über einen bestimmten kritischen Temperaturwert in bezug auf die relativ
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niedrigen Schmelzpunkte der Grenzflächen zu erhöhen, um die Grenzflächen mit niedrigem Schmelzpunkt im wesentlichen zu schmelzen und die verschiedenen und im wesentlichen gegenseitig unlöslichen Komponenten der einzelnen Schichten in die im wesentlichen geschmolzenen Grenzflächen einzubringen und damit die Schicht in einen im wesentlichen fluiden Zustand zu überführen, in dem die Oberflächenspannung des Dispersions-Abbildungsmaterials bewirkt, daß die im wesentlichen lichtundurchlässige Schicht an den mit Energie beaufschlagten Stellen dispergiert wird und sich zu einer diskontinuierlichen Schicht ändert, die Öffnungen und verformtes Material aufweist, die nach der Beaufschlagung mit Energie dort erstarren, wobei Licht die Öffnungen durchsetzen kann, um die dort vorhandene optische Dichte zu vermindern. Mit diesem Film sind kontrastreiche oder Halb- oder Grauton-Abbildungen zu erhalten. Auf dem Filmträger kann vor dem Aufbringen des Dispersions-Abbildungsmaterials eine Passivierungsschicht aufgebracht werden, und eine zweite Passivierungsschicht kann auf der Dispersions-Abbildungsschicht vorgesehen sein. Die Passivierungsschichten zu beiden Seiten der Dispersions-Abbildungsschicht haben die Funktion, eine Oxidation des Dispersions-Abbildungsmaterials entweder zu verhindern oder erheblich zu reduzieren, wodurch auch eine eventuelle Verschlechterung der optischen Dichte der Dispersions-Abbildungsschicht im Laufe der Zeit verhindert bzw. reduziert wird. Der Abbildungsfilm nach der genannten US-Patentanmeldung weist bevorzugt auch einen Schutzüberzug auf der dem Träger des Abbildungsfilms abgewandten Seite auf.
Der hochempfindliche Abbildungsfilm nach der US-Patentanmeldung Nr. 072 ^38 weist ebenso wie der vorstehend angegebene Abbildungsfilm auf einem Träger eine sehr dichte und im wesentlichen lichtundurchlässige Dispersions-Abbil-
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dungsschicht auf. Die Dispersions-Abbildungsschicht kann ein einzelner homogener Bereich aus einem bestimmten Element, einer Legierung oder Zusammensetzung auf, oder er weist aneinandergrenzende Schichtbereiche verschiedener Elemente, Legierungen oder Zusammensetzungen auf, die insgesamt eine einzige Bilderzeugungsschicht darstellen. Dieser Abbildungsfilm weist verbesserte Passivierungsschichten auf, die ebenso wie bei dem erstgenannten Abbildungsfilm auf beiden Seiten der Dispersions-Abbildungsschicht vorgesehen sind. Mit dem Abbildungsfilm sind kontrastreiche oder Halb- oder Grauton-Abbildungen erzielbar, und ebenso wie im vorher angegebenen Fall ist bevorzugt ein Schutzüberzug vorgesehen.
Gemäß der vorliegenden Erfindung wird ein Trockenentwicklungs-Abbildungsfilm vorgeschlagen, mit dem die Bilderzeugung durch Energiebeaufschlagung niedrigster Intensität möglich ist, wodurch ein Abbildungsfilm geschaffen wird, der eine so hohe Empfindlichkeit hat, wie sie bisher mit Trockenentwicklungs-Abbildungsfilmen nicht erzielbar ist. Z. B. ist der Abbildungsfilm nach der Erfindung mehr als hundertmal empfindlicher als die ebenfalls hochempfindlichen Trockenentwicklungs-Abbildungsfilme nach den genannten US-Patentanmeldungen. Außerdem werden völlig unerwartet durch die mit dem Abbildungsfilm erzielbare hohe Empfindlichkeit die Halbtoneigenschaften der in den genannten Anmeldungen angegebenen hochempfindlichen Filme in keiner Weise nachteilig beeinträchtigt. Tatsächlich erstrecken sich die Halbtoneigenschaften des Abbildungsfilms nach der vorliegenden Erfindung überraschenderweise über einen größeren Grautonbereich, als dies mit den hochempfindlichen bekannten Filmen möglich ist. Ferner werden durch die stark erhöhte Empfindlichkeit des Abbildungsfilms nach der Erfindung in keiner Weise die sehr guten
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Kontrasteigenschaften der bekannten Filme geändert. Daher kann dieser Abbildungsfiltn effektiv als kontrastreicher Abbildungsfilm mit hoher Kontraststärke oder als Halb- oder Grautonfilm mit geringer Kontraststärke dienen. Der Abbildungsfilm kann ebenso gut durch Strahlungsenergie, z. B. durch einen Laserstrahl mit kohärenter Energie, belichtet werden, die den Film seriell abtastet und intensitätsmoduliert sein kann, um das Ausmaß der Dispersion oder des Übergangs der Dispersions-Abbildungsschicht in einen diskontinuierlichen Zustand zu bestimmen, wie auch durch nichtkohärente Strahlungsenergie, z. B. eine Xenon- oder eine Blitzlampe, wobei diese Strahlungsenergie durch eine Abbildungsmaske mit einem Vollformat-Halbtonabbildungsmuster gerichtet wird. Die letztgenannte Art und Weise der Halb- oder Grauton-Bilderzeugung ist insbesondere und in bedeutsamer Weise anwendbar, wenn in Trockenentwicklungs-Abbildungseinrichtungen Mikroform-Aufzeichnungen von lichtreflektierenden Datenträgern herzustellen sind (vgl. z. B. die US-PS'en 3 966 317 und ή· 123 157), wobei der lichtreflektierende Datenträger als Diapositiv auf einem Zwischen-Maskenfilm mikroabgebildet wird und dann das mikroabgebildete Diapositiv des Maskenfilms durch einen kurzen Impuls von Strahlungs- oder elektromagnetischer Energie auf der Dispersions-Abbildungsschicht reproduziert wird. Die einmalig hohe Empfindlichkeit des Abbildungsfilms ermöglicht größere Toleranzen in bezug auf die Beleuchtung, die Optik, den Zwischen-Maskenfilm und das Blitzlichtsystem der in den genannten US-PS'en angegebenen Einrichtungen und ermöglicht gleichzeitig eine richtige und genaue Wiedergabe von Mikroabbildungen von Datenträgern wie Strichzeichnungen, Druckschriften sowie Fotografien. od. dgl. Der angegebene Abbildungsfilm ist in Form biegsamer Folien oder Streifen
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herstellbar und verwendbar, die zu Rollen aufwickelbar sind, wodurch die Handhabung und Aufbewahrung des Films vor, während und nach der Bilderzeugung vereinfacht wird. Außerdem hat der Abbildungsfilm sehr gute Haltbarkeit und Archivfähigkeit.
Der hochempfindliche Abbildungsfilm nach der Erfindung umfaßt eine Schicht eines Dispersions-Abbildungsmaterials, wobei mit wenigstens einer Oberfläche dieser Schicht, und gemäß einer Ausführungsform der Erfindung mit beiden Oberflächen derselben, eine Schicht eines Oberflächenmodifizierungsstoffs in Kontakt liegt. Vorteilhafterweise ist der Oberflächenmodifizierungsstoff ein organisches Material, z. B. ein organisches Polymeres, das eine sehr geringe Grenzflächenhaftung an dem Dispersions-Abbildungsmaterial hat, wenn letzteres während der Bilderzeugung einen im wesentlichen flüssigen oder geschmolzenen Zustand hat. Bei dem Herstellungsverfahren nach der Erfindung wird die Oberflächen-Modifizierungsschicht durch Aufdampfen, z. B. durch Glimmentladungs-Abscheidung, Verdampfung, Zerstäubung od. dgl., gebildet. Erwünschterweise umfaßt der Abbildungsfilm nach der Erfindung wenigstens eine, vorteilhafterweise zwei, Passivierungsschichten, die das Dispersions-Abbildungsmaterial gegen in der Atmosphäre enthaltene reaktionsfähige Elemente wie Sauerstoff abschirmen. Ferner umfaßt der Abbildungsfilm erwünschterweise einen Träger und auf der dem Träger abgewandten Oberfläche des Films einen Schutzüberzug. Bevorzugt sind der Träger und der Schutzüberzug aus biegsamen Kunststoffen gebildet, die zusammen mit den übrigen Schichten des Abbildungsfilms diesem die erwünschte Biegsamkeit verleihen.
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Anhand der Zeichnung wird die Erfindung beispielsweise näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 eine stark vergrößerte stilisierte
Schnittansicht durch ein Ausführungsbeispiel des hochempfindlichen Abbildungsfilms nach der Erfindung vor dem Abbilden;
Fig. 2 eine der Fig. 1 ähnliche Schnittansicht, die den Abbildungsfilm zeigt, auf dem durch Beaufschlagung mit relativ niedriger Energie oberhalb eines kritischen Werts mit relativ· hoher optischer Dichte eine Abbildung mit gleichbleibender Tönung oder Grautönung erzeugt wird;
Fig. 3 eine der Fig. 2 ähnliche Schnittansicht,
wobei der Film mit einer größeren Energiemenge als in Fig. 2 beaufschlagt wurde zur Erzeugung einer Abbildung mit gleichbleiben der oder Grautönung auf dem Film;
Fig. 4- eine den Fig. 2 und 3 ähnliche Schnittansicht des Abbildungsfilms von Fig. 1 nach Beaufschlagung mit noch höherer Energie und Erzeugung einer kontrastreichen Abbildung auf dem Film;
Fig. 5 eine stark vergrößerte stilisierte Schnittansicht durch ein weiteres Ausführungsbeispiel des hochempfindlichen Abbildungsfilms nach der Erfindung, wobei die Oberflächenmodifizierungsschicht auf der in bezug auf die Ausführungsbeispiele nach den Fig. 1, 2 und 3 anderen Seite der Dispersions-Abbildungsschicht gezeigt ist;
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Fig. 6 eine stark vergrößerte stilisierte Schnittansicht durch ein weiteres Ausführungsbeispiel des hochempfindlichen Abbildungsfilms, wobei eine Oberflächenmodifizierungsschicht auf beiden Seiten der Dispersions-Abbildungsschicht vorgesehen ist;
Fig. 7 eine Ansicht eines Systems zum Erzeugen
des Abbildungsfilms in Form einer fortlaufenden Bahn; und
Fig. 8 eine größere schematische Ansicht der
Glimmentladungs-Abscheidestation des Systems nach Fig. 7.
Nach den Fig. 1 bzw. 5 bzw. 6 umfassen die Ausführungsbeispiele des hochempfindlichen Abbildungsfilms 10 von Fig. 1 bzw. 12 von Fig. 5 bzw. 14· von Fig. 6 jeweils einen Träger bzw. ein Substrat 16, das bevorzugt lichtdurchlässig ist. Der Träger 16 kann zwar aus praktisch jedem Trägermaterial bestehen, vorteilhafterweise besteht er aber aus einer biegsamen lichtdurchlässigen Kunststoffolie. Geeignete Kunststoffolien sind z. B. solche auf der Basis von Polyestern, Polyamiden, Zelluloseazetaten, Polyethylenen und Polypropylenen. Eine besonders geeignete Kunststofffolie ist ein Polyester, und zwar Polyethylenterephthalat, das als Melinex(Wz)-Typ 0, Mikrofilmgüte, von ICI of America vertrieben wird. Die Dicke des Trägers 16 liegt erwünschterweise im Bereich von ca. 50,8-254 um, bevorzugt von ca. 76,2 oder 101,6-177,8 um.
Ferner umfassen die Ausführungsbeispiele der Abbildungsfilme 10, 12 und 14 eine Dispersions-Abbildungsschicht 18, wenigstens eine und in bestimmten Fällen zwei (vgl. Fig. 6) Oberflächen-Modifizierungsschichten 20 und zwei Passivierungsschichten 22. Die Beschaffenheit der Schichten 18, 20 und 22 wird noch im einzelnen erläutert. Ferner weisen
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die Filme 10, 12 und IA- vorteilhafterweise einen im wesentlichen lichtdurchlässigen Schutzüberzug 2A- auf. Dieser kann ein polymeres Harz wie Polyurethan-, Polyvinylidenchlorid- oder ein Silikonharz sein. Das unter dem Handelsnamen "ESTANE No. 5715"(Wz) vertriebene Polyurethanerzeugnis der B.V. Goodrich Company und das unter dem Handelsnamen "SARAN"(Wz) handelsübliche Polyvinylidinchloriderzeugnis der Dow Chemical Company bilden sehr gute Überzüge für den Abbildungsfilm. Die Dicke des Schutzüberzugs 2A- liegt im Bereich von ca. 0,1-3 um, bevorzugt von ca. 0,5-1 um. Der Schutzüberzug kann auf verschiedene Weise auf den Abbildungsfilm aufgebracht werden, z. B. durch Schleuderbeschichten, Walzbeschichten, Aufsprühen, Bedampfen im Vakuum od. dgl.
Die Dispersions-Abbildungsschicht 18 des Abbildungsfilms 10, 12 und IA- kann amorphe Halbleiter mit niedrigem Schmelzpunkt, z. B. die Chalkogenidelemente mit Ausnahme von Sauerstoff, und sie enthaltende Zusammensetzungen aufweisen (vgl. die US-PS A- 000 33A- und die US-Patentanmeldung Ser.-Nr. 577 003 vom 13. Mai 1975). Diese umfassen die als Speichermaterialien bekannten Materialien, die die Fähigkeit haben, sich durch Einwirkung von Energie aus einem Zustand in einen anderen Zustand bringen zu lassen. Diese Materialien können in ihrer amorphen oder ihrer kristallinen Form verwendet werden. Spezielle Beispiele für solche Materialien sind Tellur und verschiedene Zusammensetzungen mit Tellur und anderen Chalkogeniden wie z. B. (wobei Gewichtsteile angegeben sind) eine Zusammensetzung mit 92,5 Atomteilen Tellur, 2,5 Atomteilen Germanium, 2,5 Atomteilen Silizium und 2,5 Atomteilen Arsen; eine Zusammensetzung mit 95 Atomteilen Tellur und 5 Atomteilen Silizium; eine Zusammensetzung mit 90 Atomteilen Tellur, 5 Atomteilen Germanium, 3 Atomteilen Silizium und 2 Atomteilen Antimon, um nur einige zu nennen. Die Schicht
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18 kann auch Metalle oder Metallegierungen mit niedrigem Schmelzpunkt aufweisen, wie sie z. B. in den US-PS'en ή· 082 861 und 4- 137 078 sowie der vorgenannten US-Patentanmeldung 827 4-70 angegeben sind. Solche Materialien sind z. B. Wismut, Legierungen von Wismut mit Zinn und Blei, mehrlagige Schichten mit Wismut und seinem Oxid sowie z. B. mehrlagige Schichten mit Wismut, Zink, Blei, Zinn, Kadmium und Indium , die an ihren Grenzflächen Eutektika mit niedrigem Schmelzpunkt bilden. In diesem Zusammenhang ist darauf hinzuweisen, daß die Bezeichnung "Schicht" in Verbindung mit einer Dispersions-Abbildungsschicht eine Schicht aus Dispersions-Abbildungsmaterial umfassen soll, die entweder aus einem homogenen Bereich eines bestimmten Elements oder einer bestimmten Zusammensetzung oder aus aneinandergrenzenden aufeinandergeschichteten Bereichen verschiedener Elemente oder Zusammensetzungen, die insgesamt eine einzige Dispersions-Abbildungsschicht bilden, besteht. Die Dicke der Schicht 18 ist vorteilhafterweise so gewählt, daß eine optische Dichte von ca. 1-5, bevorzugt von ca. 1,2-3 in dem fertigen Abbildungsfilm je nach der erwünschten Lichtundurchlässigkeit erhalten wird. Allgemein werden die optimalen Ziele der Erfindung mit Dicken der Dispersions-Abbildungsschicht im Bereich von ca. 200-2000 8, bevorzugt im Bereich von ca. 250-1000 K, erreicht. Die Schicht 18 kann durch Zerstäuben, Bedampfen im Vakuum od. dgl. aufgebracht werden.
Die Schicht bzw. die Schichten 20 aus einem Oberflächen-Modifizierungsmaterial liegen in unmittelbarem Kontakt mit der Dispersions-Abbildungsschicht 18. Wie bereits erwähnt, ergibt sich durch das Vorhandensein der Schicht 20 - unabhängig davon, ob sie mit einer oder beiden Oberflächen der Schicht 18 in Kontakt steht - die überraschende und unerwartete Auswirkung einer Erhöhung der Empfindlichkeit des Abbildungsfilms um mehr als das Hundertfache gegenüber hochempfindlichen Filmen entsprechend den bereits genannten
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US-Patentanmeldungen 827 4-70 und 072 4-38. Bevorzugt besteht die Schicht 20 aus einem organischen oder ähnlichen Material, das nach dem Aufdampfen auf eine oder beide Oberflächen der Schicht 18 des Dispersions-Abbildungsmaterials in der Weise, daß es damit in Kontakt gelangt, eine dünne, flexible und lichtdurchlässige Schicht auf dieser Oberfläche bzw. diesen Oberflächen bildet. Die so gebildete Schicht 20 kennzeichnet sich durch eine sehr geringe oder schlechte Grenzflächenhaftung zwischen dem Material der Schicht 20 und dem Dispersions-Abbildungsmaterial der Schicht 18, wenn die Schicht 18 sich während der Bilderzeugung in einem im wesentlichen flüssigen oder Schmelzzustand befindet, und gleichzeitig durch die offenbare Fähigkeit, die Rückroll- oder Dispergierfahigkeiten der Schicht 18, wenn deren Material sich in dem genannten Zustand befindet, zu verstärken, zu vergrößern und zu verbessern, so daß ein Abbildungsfilm mit verbesserten Halbtoneigenschaften und Kontrastreichtum erhalten wird. Durch diese Faktoren in Verbindung mit der praktischen Abwesenheit elektrostatischer Ladungen an der Grenzfläche zwischen den Schichten 18 und 20 ermöglichen es, daß die Dispergierung oder das Zurückrollen der Dispersions-Abbildungsschicht 18 mit wesentlich geringerer Energiebeaufschlagung erzielbar ist, als dies bisher bei Trockenentwicklungs-Abbildungsfilmen möglich war. Zusätzlich zu den vorstehenden erwünschten Eigenschaften sollte die Schicht 20 in bezug auf die Dispersions-Abbildungsschicht chemisch inert sein und Hafteigenschaften in bezug auf die Passivierungsschichten aufweisen, die mit den strukturellen ind Abbildungsanforderungen an den Abbildungsfilm übereinstimmen. Für eine kostengünstige Herstellung ist es außerdem erwünscht, daß die Schicht 20 mit üblichen Bedampf ungsgeräten , z. B. Glimmentladungs-Aufdampf-, Verdampfungs- oder Zerstäubungs-Einrichtungen od. dgl., sehr schnell aufgebracht werden kann. Die Dicke der
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Schicht 20 bzw. der Schichten 20 aus dem Oberflächen-Modifizierungsmaterial braucht nur ausreichend zu sein, um die Grenzflächen-Hafteigenschaften der angrenzenden Oberfläche der Schicht 18 zu ändern. Dies kann in wirksamer Weise mit im wesentlichen monomolekularen Dicken des Materials erreicht werden. Normalerweise werden jedoch optimale Ergebnisse erhalten, wenn die Dicke der Oberflächen-Modifizierungsschicht(en) bis zu ca. 300 A, bevorzugt zwischen 25 und 200 oder 250 8, beträgt.
Beispiele für organische oder ähnliche Materialien, die für die Bildung der Schicht 20 des hochempfindlichen Abbildungsfilms einsetzbar sind, sind polymerisierbare monomere Materialien wie Methan, Ethan, Ethen, Propan, Propen, Butan, Buten, Isobutan, Isobutylfluorid, Tetrafluoridkohlenstoff, Hexafluoridkohlenstoff, Ethylidenfluorid, Chlortrifluormethan, Difluordichlormethan, Isopropylfluorid, Isopropylidenfluorid u. dgl., und kopolymerisierbare Gemische dieser Materialien. Auch polymerisierbare, organischen Materialien ähnliche Materialien sind einsetzbar, z. B. Monosilan, Chlorsilan, Methylmonosilan, Dimethylsilan, Trifluorsilan u. dgl. sowie kopolymerisierbare Gemische derselben. Von den vorgenannten Materialien werden fluorierte Kohlenwasserstoffe, z. B. Tetrafluorkohlenstoff, bevorzugt. Es ist zu beachten, daß die für die Bildung der Schicht oder Schichten des Abbildungsfilms geeigneten Oberflächen-Modifizierungsstoffe am vorteilhaftesten Gase sind. In dieser Form sind die Materialien leichter an eine kontinuierliche Massenherstellung des Abbildungsfilms in einer Aufdampfkammer anpaßbar, in der die verschiedenen Schichten des Abbildungsfilms durch Bedampfen im Vakuum oder, wie im Fall der Schicht(en) 20, durch Glimmentladung, Verdampfen, Zerstäuben od. dgl. aufgebracht werden. Es ist jedoch zu beachten, daß zur Bildung der Schicht(en) 20 auch Ober-
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flächen-Modifizierungsmaterialien, insbesondere organische oder diesen ähnliche Materialien, in Frage kommen, die normalerweise in Flüssigphase vorhanden sind, die jedoch in einfacher Weise in die Gasphase überführbar sind, um dann z. B. durch Glimmentladungs-Abscheidung aufgebracht zu werden. Solche Materialien sind z. B. Pentan, 1-Penten, Hexan, 1-Hexen, um nur einige zu nennen.
Die Passivierungsschichten 22, die einen Teil des Abbildungsfilms nach der Erfindung bilden, können aus irgendeinem Material gebildet werden, das eine wirksame Sperre oder Abschirmung für die Dispersions-Abbildungsschicht 18 bildet, um eine Oxidation der Schichtbestandteile entweder zu verhindern oder im wesentlichen einzuschränken. Materialien, die zur Bildung der Passivierungsschichten einsetzbar sind, sind z. B. Siliziummonoxid, Siliziumdioxid, Aluminiumoxid, Germaniumoxid, Telluroxid, Zinnoxid, Berylliumoxid u. dgl., Besonders bevorzugte Materlien für die Bildung der Passivierungsschichten sind in der bereits genannten US-Patentanmeldung 072 4-38 angegeben. Diese Materialien umfassen Oxide von Metallen der Gruppe IV des Periodensystems. Vorteilhafterweise liegen die Oxide in amorpher Form vor und werden in dieser Form stabilisiert, indem sie mit amorphen Oxiden oder Halogeniden eines Metalls oder Halbleiters legiert werden. Beispiele für Zusammensetzungen dieser Art, die sich für die Bildung der Passivierungsschichten des Abbildungsfilms eignen, sind nachstehend angegeben, wobei die tiefgesetzten Zahlen den angenäherten Gewichtsprozentsatz des Schmelztiegelgemischs der eingesetzten Verbindungen bezeichnen:
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(Ge02)0,70(Α12°3>0,10<Β203>0,10(Pb0)0,IO
(Ge02>0,80<Α12°3>0,10(Pb0)0,10
(Ge02)0,85(Ti02)0,10(A12°3)0,05
(Ge02)0fe0<AL203)0,05(Pb0)0,05(K20)0f10
(Ge02)0,80(A12°3)0,10(Pb0)O,05(K20)O,05
Die Passivierungsschichten 22 müssen kontinuierlich und im wesentlichen frei von Löchern oder Leerstellen sein. Außerdem müssen sie flexibel sein und dürfen nicht reißen oder brechen, wenn der Abbildungsfilm als Rolle aufgewickelt ist. Die Erfahrung hat gezeigt, daß die erforderliche Biegsamkeit mit Schichtdicken der Passivierungsschichten im Bereich von ca. 75-4-50 8, bevorzugt von ca. 100-200 8, erzielbar ist. Die Passivierungsschichten werden am besten durch Bedampfen unter Anwendung einer Elektronenstrahlquelle auf den Film aufgebracht. Bei den gezeigten bevorzugten Ausführungsbeispielen des hochempfindlichen Films sind zwar gesonderte Passivierungsschichten 22 als ein Bestandteil des Films vorgesehen; es kann aber sein, daß die Passivierungsschichten 22 in solchen Fällen unnötig sind, in denen der Träger 16 und der Schutzüberzug 24- z. B. von sich aus eine Barriere oder Abschirmung bilden, so daß sie eine Oxidation des Dispersions-Abbildungsmaterials verhindern oder im wesentlichen begrenzen.
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Wie vorstehend angegeben, werden die den Abbildungsfilm bildenden verschiedenen Schichten vorteilhafterweise durch Bedampfungsverfahren aufgebracht. Das Dispersions-Abbildungsmaterial 18 und die Passivierungsschichten 22 werden bevorzugt durch Bedampfen im Vakuum einschließlich Wiederstandsheizen oder Elektronenstrahl-Niederschlagen aufgebracht. Die Schicht(en) 20 des Oberflächen-Modifizierungsmaterials wird andererseits bevorzugt durch Glimmentladungs-, Verdampfungs-, Zerstäubungs-Verfahren od. dgl. aufgebracht. Unter Bezugnahme auf die Fig. 7 und 8 erfolgt das Aufbringen der Dispersions-Abbildungsschicht 18, der Oberflächen-Modifizierungsschicht(en) 20 und der Passivierungsschichten 22 z. B. als Endlosbandverfahren. Fig. 7 zeigt schematisch eine Einrichtung zum Herstellen des Abbildungsfilms mit einem solchen Verfahren. Die Einrichtung 30 umfaßt eine Unterdruckkammer 32, in der eine Bandaufwickelrolle 34, eine umlaufende Metalltrommel 36 und eine Bandaufwickelrolle 38, um die der Träger 16 geführt ist. Ferner umfaßt die Einrichtung eine Metallwandungen aufweisende Glimmkammer 40, die längs dem Umfang der Metalltrommel 36 positioniert ist, und eine Mehrzahl Verdampfungsquellen, die durch Schiffchen 42 repräsentiert sind. Die in den Schiffchen 42 enthaltenen Materialien sind selektiv z. B. durch Elektronenstrahlröhren (nicht gezeigt) verdampfbar und werden auf dem Träger 16 niedergeschlagen, während dieser über die Trommel 36 läuft. Bevorzugt weist die Einrichtung auch eine Bandpositions-Leitrolle (nicht gezeigt) zwischen der Trommel 36 und der Aufwickelrolle 38 auf. Außerdem sind erwünschterweise ein Quarz-Mengensteuerelement (nicht gezeigt) zur elektronischen Steuerung der Niederschlagsleistung der Elektronenstrahlröhren und ein optischer Wächter (nicht gezeigt) zur Überwachung der Abscheidung der jeweiligen Schichtmaterialien auf dem Träger 16 in bezug auf optische Dichte vorgesehen. Die Unterdruckkammer 32 wird
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mit einer Vakuumpumpe 44 über eine Teilchenfalle 46 und ein Stellventil 48 evakuiert.
Wie am besten aus Fig. 8 ersichtlich ist, enthält die Glimmkammer 40 eine Kathode 50, die an eine HF- oder Gleichspannungsversorgung angeschlossen ist und auf der Rückseite einen geeigneten Isolierstoff 52 aufweist, um eine Plasmaentladung in unerwünschten Bereichen zu verhindern. Die Metallwandungen der Kammer 40 sind mit Erde verbunden (nicht gezeigt). Die durch Glimmentladung niederzuschlagenden Materialien werden der Kammer 40 durch eine oder mehrere Leitungen 54 zugeführt. Ein Druckmesser 56 zeigt den Unterdruck in der Glimmkammer an und wird in Verbindung mit der Regelung der Vakuumpumpe 44 eingesetzt. Das aus der Kammer 40 ausgestoßene Gas entweicht in die Unterdruckkammer 32 durch die verengten Öffnungen oder Spielräume 58 zwischen den Wandungen der Kammer 40 und der Oberfläche des auf der Trommel 36 abgestützten Trägers 16. Die Trommel 36 ist geerdet (nicht gezeigt) und dient als Basiselektrode für die Glimmentladungs-Aufbringung der Oberflächen-Modifizierungsschicht (en ) 20. Die umlaufende Trommel 36 kann mit heißem oder kaltem Wasser oder einem anderen Fluid erwärmt oder gekühlt werden, das durch die Trommel zirkuliert, wobei umlaufende Fluidzufuhrwannen (nicht gezeigt) vorgesehen sind, die mit der Atmosphäre außerhalb der Kammer 32 in Verbindung stehen. Die Temperatur der Trommel wird durch Erfassen und Einstellen der Temperatur des Wärmeübertragungsfluids von außerhalb der Kammer 32 erfaßt und eingestellt.
Bei der Anwendung der Einrichtung nach den Fig. 7 und 8 zum Herstellen des hochempfindlichen Films wird die Unterdruckkammer 32 mib der Pumpe 44 auf weniger als ca. 5 · 10" Torr evakuiert, und der Träger 16 wird
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von der Abwickelspule 34 über die wassergekühlte Trommel 36 zur Aufwickelspule 38 und wieder zurück auf die Abwickelspule 34 mit einer Geschwindigkeit von ca. 3 m/min bewegt, um den Polyesterträger 16 erst einmal zu entgasen. Dann wird der Träger 16 von der Abwickelspule 34 abgewickelt, und es wird auf ihn eine erste Passivierungsschicht von ca. 150 A aus z. B. GeO- aufgedampft, das in einem der Schiffchen 42 enthalten ist; dies erfolgt durch Elektronenstrahlröhren mit einer Geschwindigkeit von ca. 60 A/s und einer Bandgeschwindigkeit von ca. 3 m/min. Die Aufdampfrate wird unter Anwendung eines Quarz-Mengensteuerelements (nicht gezeigt) gesteuert, der die Niederschlagsleistung der Elektronenstrahlröhren elektronisch steuert. Der mit einer Passivierungsschicht überzogene Träger wird dann für den nächsten Aufdampf schritt wieder auf die Abwickelrolle 34 aufgewickelt. Während das Band wiederum in Richtung auf die Schiffchen 42 bewegt wird, wird auf den die Passivierungsschicht tragenden Träger eine ca. 400 K dicke Schicht, z. B. aus Bismut und Zinn, gemeinsam aufgedampft, und zwar von einer weiteren Gruppe von Elektronenstrahlröhren mit einer Rate von ca. 150 K/s und einer Bandgeschwindigkeit von ca. 3 m/min. Die Niederschlagsrate wird wiederum von dem Quarz-Mengensteuerelement gesteuert, und die optische Dichte des Films wird von einem optischen Wächter (nicht gezeigt) während des Durchlaufs des Bands überwacht. Danach wird der Träger, der nunmehr die GeO?-Passivierungsschicht und die gemeinsam aufgebrachte Wismut-Zinn-Dispersionsabbildungsschicht aufweist, wiederum zur Abwickelrolle 34 zurückgespult, damit auf die Dispersions-Abbildungsschicht eine Oberflächen-Modifizierungsschicht aufgebracht werden kann.
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Der Raum in der Glühkammer 40 zwischen der Kathode 50 und der geerdeten Metalloberfläche der Trommel 36 erlaubt eine Glimmentladung zwischen beiden, so daß dazwischen ein Plasma erzeugt wird. Zuerst wird die Unterdruckkammer 32 mit der Vakuumpumpe 44 auf einen Druck von ca. 20 mTorr heruntergepumpt, bevor die Oberflächen-Modifizierungsschicht aufgedampft wird. Ein polymerisierbares Gas, z. B. Tetrafluoridkohlenstoff (CF.), wird durch eine oder beide Leitungen 54 in die Glühkammer geleitet. Das Gas wird mit einem gleichbleibenden Verhältnis von ca. 10-50 s/min in die Glimmkammer 40 geleitet, deren Druck im Bereich von ca. 0,1-2, bevorzugt 0,5 Torr, gehalten wird. Der Partialdruck in der Glimmkammer 40 und das in diese geleitete Gas bilden eine dieses Gas enthaltende Atmosphäre in der Kammer. In dieser Atmosphäre wird über dem beschichteten Träger 16 ein Plasma erzeugt unter Anwendung einer Hochfrequenzversorgung von z. B. ca. 1000 W, die mit ca. 12-15, bevorzugt ca. 13,5 MHz arbeitet. Eine Schicht mit einer Dicke von ca. 200 A eines auf dem Tetrafluoridkohlenstoff basierenden Polymeren wird auf die Schicht des Dispersions-Abbildungsmaterials mit einer Aufdampfrate von ca. 10-50, bevorzugt ca. 30 A/s, aufgedampft.
Nach dem Glimmentladungs-Aufdampfen der Oberflächen-Modifizierungsschicht wird eine zweite Passivierungsschicht aus z. B. GeO- auf die Oberflächen-Modifizierungsschicht aufgebracht, und zwar unter Anwendung des gleichen Verfahrens, das zum Aufbringen der ersten Passivierungsschicht angewandt wurde. Es ist zu beachten, daß die Passivierungsschichten entweder aus dem gleichen Material oder aus verschiedenen Materialien bestehen können. So kann z. B. die zweite oder zuletzt aufzubringende Passivierungsschicht aus SiO bestehen. Ebenso kann in
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Fällen, in denen entsprechend Fig. 6 auf jeder Seite des Dispersions-Abbildungsmaterials eine Oberflächen-Modifizierungsschicht vorgesehen wird, jede der Oberflächen-Modifizierungsschichten 20 entweder aus demselben Material oder aus jeweils verschiedenen Oberflächen-Modifizierungsmaterialien gebildet sein. Nach dem Aufdampfen der zweiten Passivierungsschicht wird das Band aus der Unterdruckkammer entnommen und durch Walzbeschichten mit einem Polymerüberzug beschichtet, der eine Dicke von ca. 500-6000 A* hat. Sowohl während des Aufdampfens als auch während des Beschichtens wird sorgfältig darauf geachtet, daß durch die Ab- und Aufwickelrollen keine Änderung der Bandspannung erfolgt, damit ein Verkratzen, Ausdehnen usw. des Abbildungsfilms vermieden wird .
Es wird nunmehr erneut auf die Fig. 1-6 Bezug genommen. Die Abbildungsfilme 10, 12 und 16 können durch Beaufschlagen mit Energie, z. B. mit nichtkohärenter Strahlungsenergie von einer Xenonlampe oder einer Blitzlampe od. dgl., durch eine Abbildungsmaske 26 hindurch mit einer Abbildung versehen werden. Die Abbildungsmaske 26 kann die sie durchsetzende nichtkohärente Strahlungsenergiemenge und die in der Dispersions-Abbildungsschicht 18 absorbierte Energiemenge und damit den Dispersionsgrad des Dispersions-Abbildungsmaterials und dessen optische Dichte bei der Bilderzeugung steuern.
Durch die Erfindung wird, wie bereits angegeben, eine Trockenentwicklungs-Bilderzeugung mit besonders hoher Empfindlichkeit möglich, wobei eine kontrastreiche oder eine Halbton- oder eine Grauton-Bilderzeugung in Abhängigkeit von der Beschaffenheit des hochempfindlichen Abbildungsfilms möglich ist. In Fig. 1 hat der Abschnitt
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26a der Abbildungsmaske 26 eine ausreichend hohe Dichte, um die Intensität der Energie (vgl. Pfeile), mit der die Dispersions-Abbildungsschicht 18 durch die Maske hindurch beaufschlagt wird, so zu begrenzen, daß die in der Schicht absorbierte Energie nicht über den vorgenannten kritischen Wert ansteigt. Infolgedessen wird das Material nicht in einen im wesentlichen flüssigen Zustand überführt, und die Dispersions-Abbildungsschicht 18 behält ihren Festzustand hoher optischer Dichte, in dem sie im wesentlichen lichtundurchlässig ist. Die Schicht 18 weist keine Öffnungen auf, durch die Licht durchgelassen werden könnte, da sie im wesentlichen lichtundurchlässig ist und eine optische Dichte von z. B. im wesentlichen 1,0-1,5 od. dgl. hat. Diese Abbildungsphase ist sowohl bei den kontrastreichen als auch den Halbton- oder Grauton-Abbildungsfilmen nach der Erfindung anwendbar.
Nach Fig. 2 hat der Abschnitt 26b des Abbildungsmaske 26 eine niedrigere optische Dichte, so daß mehr Strahlungsenergie durchtreten kann (vgl. die Pfeile) und die Schicht 18 des Dispersions-Abbildungsmaterials beaufschlagen kann. Hier ist die Intensität der beaufschlagenden Energie so, daß die in der Schicht 18 absorbierte Energie gerade über dem genannten kritischen Wert liegt. Die Schicht 18 aus Dispersions-Abbildungsmaterial geht aufgrund der Beaufschlagung mit dieser Energie in einen im wesentlichen flüssigen Zustand über, in dem die Oberflächenspannung des Materials bewirkt, daß dieses dispergiert wird und sich zu einem diskontinuierlichen Film ändert, der Öffnungen 18a und Verformungen 18b aufweist, die nach der Beaufschlagung mit Energie in ihrer Lage erstarren, so daß durch die Öffnungen 18a Licht passieren kann. Im Fall der Halb- oder Grauton-Bilderzeugung wird das Dispersions-Abbildungsmaterial nur in geringem Maß verformt (vgl. 18b),
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so daß nur Öffnungen 18a mit kleinem Querschnitt in der Schicht 18 gebildet werden, da das verformte Material 18b sich nur in geringem Maß von den Öffnungen 18a zurückrollt. Die Lichtdurchlässigkeit des Films ist gering, jedoch höher als diejenige des im wesentlichen lichtundurchlässigen Films 10, 12 und IA- nach den Fig. 5 und 6. Somit wird die optische Dichte des Films, wenn dieser mit solcher Energie beaufschlagt wird, gering vermindert. Die Fläche des im wesentlichen lichtundurchlässigen verformten Materials 18b ist sehr groß, während die Fläche der Öffnungen 18a sehr klein ist.
In Fig. 3 hat der Abschnitt 26c der Abbildungsmaske 26 eine geringere optische Dichte, so daß noch mehr Strahlungsenergie (vgl. die Pfeile) durchtreten und die Schicht 18 des Dispersions-Abbildungsmaterials beaufschlagen kann. Die Stärke der den Film beaufschlagenden Energie ist derart, daß die in der Schicht 18 absorbierte Energie erheblich über dem genannten kritischen Wert liegt. Infolge der erhöhten Intensität der Beaufschlagungsenergie wird das Dispersions-Abbildungsmaterial in stärkerem Maß (vgl. 18b) verformt, so daß sich in der Schicht 18 größere Öffnungen 18a ergeben, da das verformte Material 18c von den Öffnungen 18a in größerer Menge zurückrollt. Dadurch wird die Lichtdurchlässigkeit des Films stärker erhöht, und seine optische Dichte nimmt stärker ab.
Nach Fig. 4 hat der Abschnitt 26d der Abbildungsmaske 26 eine noch geringere optische Dichte, so daß sie noch mehr Strahlungsenergie (vgl. die Pfeile) durchläßt, die dann die Dispersions-Abbildungsschicht 18 beaufschlagt. In diesem Fall ist die Intensität der Beaufschlagungsenergie derart, daß die im Film absorbierte Energie noch weiter über dem genannten kritischen Wert, und zwar im wesentlichen auf einem Höchstwert, liegt. Infolge dieser
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noch weiter erhöhten Intensität der Beaufschlagungsenergie wird das Abbildungsmaterial sehr stark zu beabstandeten kleinen Kügelchen 18c verformt, und die Öffnungen 18a werden größer, so daß zwischen den Kügelchen sehr große freie Räume gebildet sind, weil sich das verformte Material 18c sehr weit von den Öffnungen 18a zurückrollt. Dadurch wird die Lichtdurchlässigkeit des Films auf einen Höchstwert gesteigert, und die optische Dichte des Films nimmt auf einen Minimalwert ab.
Im Gegensatz zu der Halb- oder Grauton-Bilderzeugung mit den Zwischenschritten nach den Fig. 2 und 3 erfolgt bei der kontrastreichen Bilderzeugung nach der Bildung der Öffnungen 18a und des verformten Materials 18c ein im wesentlichen sofortiges und vollständiges Zurückrollen des Abbildungsmaterials in den diskontinuierlichen Filmzustand nach Fig. 4.
Die Abbildungsfilme 12 und 14- nach den Fig. 5 und 6 unterscheiden sich von dem Abbildungsfilm nach den Fig. 1-4 dadurch, daß die Oberflächen-Modifizierungsschicht 20 des Abbildungsfilms 12 auf der Oberfläche des Dispersions-Abbildungsmaterials 18 liegt, die entgegengesetzt zu der entsprechenden Oberfläche in dem Film 10 liegt, während bei dem Abbildungsfilm 14 auf jeder Seite der Schicht 18 eine Oberflächen-Modifizierungsschicht 20 auf der Schicht 18 oder in Kontakt mit ihr vorgesehen ist.
Die zum Belichten des Films nach der Erfindung verwendete Energie kann verschiedener Art sein. Sie kann Wärmeenergie sein, mit der der Film z. B. durch direktes elektrisches Erwärmen, durch elektrisch gespeiste Heizelemente od. dgl. beaufschlagt wird und die im Film absorbiert wird. Die Stärke der beaufschlagenden Wärmeenergie oberhalb des bestimmten kritischen Werts kann das Ausmaß der Disper-
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sion oder des Übergangs des Films zu dem diskontinuierlichen Film für Halbton-Bilderzeugung bestimmen. Die Heizeinheit kann eine einzige punktartige Heizquelle sein, die den Film seriell abtastet und intensitätsmoduliert wird, oder sie kann eine bewegte Heizpunktmatrix mit intensitätsmodulierten Heizpunkten sein, mit der eine Vollformat-üilderzeugung auf dem Film möglich ist. In beiden Fällen kann eine Halbtonabbildung erhalten werden. Die Beaufschlagungsenergie kann auch Strahlungsenergie sein, z. B. ein Laserstrahl kohärenter Energie od. dgl., der den Film seriell abtastet und intensitätsmoduliert sein kann, um das Ausmaß der Dispersion oder Änderung zu dem diskontinuierlichen Film zu bestimmen und Halb- oder Grautonabbildung zu ermöglichen.
Die Beaufschlagungsenergie kann auch nichtkohärente Strahlungsenergie sein, wie sie z. B. von einer Xenon- oder Blitzlampe od. dgl. ausgeht; diese wird durch eine Abbildungsmaske, z. B. die Maske 26, gerichtet, die ein Vollformat-Halbtonabbildungsmuster aufweist, das Abschnitte von ständig verschiedener Lichtdurchlässigkeit für die Beaufschlagungsenergie aufweist, und beaufschlagt den im wesentlichen lichtundurchlässigen Film aus Dispersions-Abbildungsmaterial im wesentlichen gleichmäßig in Form eines Vollformat-Musters entsprechend dem Vollformat-Halbtonabbildungsmuster der Abbildungsmaske, wobei Bereiche unterschiedlicher Stärken der Beaufschlagungsenergie oberhalb des kritischen Werts vorhanden sind, so daß in dem im wesentlichen lichtundurchlässigen Film aus Dispersions-Abbildungsmaterial gleichzeitig ein stabiles fertiges Vollformat-Abbildungsmuster aus diskontinuierlichem Film entsprechend dem Vollformat-Halbtonmuster der Beaufschlagungsenergie erzeugt wird. In diesem Fall wird die Energie bevorzugt in Form eines kurzen Energieimpulses zur Einwirkung gebracht.
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Wie bereits erwähnt, richtet sich die Erfindung hauptsächlich auf einen hochempfindlichen Abbildungsfilm, bei dem nur eine geringe Beaufschlagungsenergiemenge erforderlich ist, um einen Übergang des festen, hochdichten Films in einen diskontinuierlichen Film geringerer optischer Dichte zu bewirken. Um die unerwartete und außerordentlich hohe Empfindlichkeit des Abbildungsfilms zu verdeutlichen, wurde ein Abbildungsfilm entsprechend der vorliegenden Erfindung hergestellt und mit einem hochempfindlichen Abbildungsfilm verglichen, der gemäß der Lehre der genannten US-Patentanmeldung Nr. 827 470 hergestellt wurde. In beiden Fällen besteht die Dispersions-Abbildungsschicht aus einer gleichzeitig aufgedampften Wismut-Zinn-Schicht mit einer Dicke von ca. 400 A. Der nach der US-Patentanmeldung hergestellte Film weist lichtdurchlässige Passivierungsschichten mit einer Dicke von ca. 150 % auf, die aus Germaniumoxid bestehen und sowohl mit der inneren, dem Träger zugewandten Oberfläche der Dispersions-Abbildungsschicht als auch mit der äußeren, dem Schutzüberzug zugewandten Oberfläche der Dispersions-Abbildungsschicht in Kontakt liegen. Die Dispersions-Abbildungsschicht und die Passivierungsschichten sind auf ein lichtdurchlässiges Polyestersubstrat mit einer Dicke von ca. 127 um aufgebracht. Eine lichtdurchlässige Schutzschicht mit einer Dicke von ca. 5000 Ä aus Polyurethan ist auf die obere bzw. äußere Passivierungsschicht aufgebracht. Die maximale optische
Dichte (OD ) des Films ist ca. 1,6. Der Energiemax p
Schwellenwert (E.. ) des Films ist ca. 0,15 3/cm ; die minimale optische Dichte (OD . ) ist ca. 0,18; und die einwirkende maximale Energie (E ) ist ca. 0,6 0/cm
m ax
Der Abbildungsfilm nach der vorliegenden Erfindung unterscheidet sich von dem nach der genannten Anmeldung hergestellten Film dadurch, daß auf die obere, dem Träger ab-
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gewandte Seite der Wismut-Zinn-Dispersions-Abbildungsschicht vor dem Aufbringen der GeOp-Passivierungsschicht eine polymerisierte lichtdurchlässige Schicht aus Tetrafluoridkohlenstoff mit einer Dicke von ca. 150 A aufgebracht ist. Im übrigen entspricht der Aufbau des Films demjenigen des Films nach der genannten Anmeldung. Vor der Bilderzeugung ist die optische Dichte (OD )
max
des Films ca. 1,6. Der Energie-Schwellenwert (E., ) des Films ist ca. 0,002 3/cm , die minimale optische Dichte (OD . ) ist ca. 0,20, und die zur Einwirkung gebrachte
Energie (E ) zur Erzielung einer maximalen Dispersion max μ
ist ca. 0,008 3/cm . Es ist also ersichtlich, daß die für die Dispersion oder das Zurückrollen der Dispersions-Abbildungsschicht des Abbildungsfilms nach der Erfindung erforderliche Energie 75mal niedriger als im Fall des bekannten Films ist, der selbst durch eine hohe Empfindlichkeit ausgezeichnet ist. Die Empfindlichkeit des Abbildungsfilms nach der vorliegenden Erfindung ist noch höher, wenn entsprechend Fig. 6 zwei Schichten eines polymerisierten Stoffs verwendet werden.
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Claims (1)

  1. Patentansprüche
    1. Trockenentwicklungs-Abbildungsfilm mit hoher Empfindlichkeit
    - mit einer im wesentlichen kontinuierlichen lichtundurchlässigen Schicht aus einem Dispersions-Abbildungsmaterial, das bei Beaufschlagung des Abbildungsfilms mit Energie einer Stärke, die ausreicht, um die in dem Dispersions-Abbildungsmaterial absorbierte Energie über einen bestimmten kritischen Wert zu erhöhen, in einen im wesentlichen flüssigen Zustand übergeht, in dem die Oberflächenspannung des Dispersions-Abbildungsmaterials eine Dispersion der im wesentlichen kontinuierlichen lichtundurchlässigen Schicht und den Übergang in eine diskontinuierliche Schicht an den der Energiebeaufschlagung unterliegenden Stellen bewirkt,
    gekennzeichnet durch
    - wenigstens eine in Kontakt mit der Dispersions-Abbildungsschicht (18) befindliche Schicht (20) aus einem aufgedampften Oberflächen-Modifizierungsstoff, der energiedurchlässig ist und relativ zu dem Dispersions-Abbildungsmaterial eine minimale Grenzflächenhaftung aufweist,
    - so daß die Dispersion bzw. das Zurückrollen des Dispersions-Abbildungsmaterials in dessen im wesentlichen flüssigem Zustand bei minimalen Intensitäten der Beaufschlagungsenergie erfolgt.
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    2. Abbildungsfilm nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
    - daß die Oberflächen-Modifizierungsschicht (20) ein polymerisierbares organisches oder einem organischen ähnliches Material ist.
    3. Abbildungsfilm nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
    - daß die Dicke der Oberflächen-Modifizierungsschicht (20) wenigstens monomolekular ist.
    4·. Abbildungsfilm nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
    - daß eine Schicht (20) des Oberflächenmodifizierungsstoffs auf jeder Seite der Dispersions-Abbildungsschicht (18) vorgesehen ist.
    5. Abbildungsfilm nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
    - daß die Dispersions-Abbildungsschicht (18) und die Oberflächen-Modifizierungsschicht (20) auf einem Träger (16) vorgesehen sind.
    6. Abbildungsfilm nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
    - daß für die Dispersions-Abbildungsschicht (18) und die Oberflächen-Modifizierungsschicht (20) ein lichtdurchlässiger polymerer Schutzüberzug (24) vorgesehen ist.
    7. Abbildungsfilm nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
    - daß für die Dispersions-Abbildungsschicht (18) wenigstens eine Passivierungsschicht (22) vorgesehen ist, die eine Oxidation des die Dispersions-Abbildungsschicht (18) bildenden Materials im wesentlichen verhindert .
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    8. Abbildungsfilm nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet,
    - daß für jede Seite der Dispersions-Abbildungsschicht (18) eine Passivierungsschicht (22) vorgesehen ist.
    9. Abbildungsfilm nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet,
    - daß der Träger (16) auf der die Dispersions-Abbildungsschicht (18) und die Oberflächen-Modifizierungsschicht (20) tragenden Seite eine Passivierungsschicht (22) aufwe ist.
    10. Abbildungsfilm nach Anspruch ή·, dadurch gekennzeichnet,
    - daß jede Oberflächen-Modifizierungsschicht (20) auf gegenüberliegenden Seiten der Dispersions-Abbildungsschicht (18) liegt, und
    - daß auf jeder nicht in Kontakt mit der Dispersions-Abbildungsschicht (18) befindlichen Seite der Oberflächen-Modifizierungsschichten (20) eine Passivierungsschicht (22) vorgesehen ist.
    11. Abbildungsfilm nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet,
    - daß die eine Passivierungsschicht (22) mit einem biegsamen Träger (16) in Kontakt steht, und
    - daß die andere Passivierungsschicht (22) einen biegsamen Schutzüberzug (2A-) kontaktiert.
    12. Abbildungsfilm nach Anspruch 4-, dadurch gekennzeichnet,
    - daß die Oberflächen-Modifizierungsschichten (20) lichtdurchlässig und biegsam sind.
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    13. Abbildungsfilm nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet,
    - daß die Passivierungsschichten (22) lichtdurchlässig und energiedurchlässig sind.
    Ik. Abbildungsfilm nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,
    - daß das polymerisierbar Material ein fluorierter Kohlenwasserstoff ist.
    15. Abbildungsfilm nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
    - daß das Dispersions-Abbildungsmaterial Wismut oder eine Wismutlegierung aufweist.
    16. Abbildungfilm nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
    - daß das Dispersions-Abbildungsmaterial eine Mehrzahl gesonderter Schichten von verschiedenen und im wesentlichen gegenseitig unlöslichen Komponenten mit relativ hohen Schmelzpunkten und Eutektika mit relativ niedrigem Schmelzpunkt und Grenzflächen zwischen den Schichten mit relativ niedrigen Schmelzpunkten aufweist,
    - wobei die Dispersions-Abbildungsschicht (18) bei Beaufschlagung mit Energie einer Intensität oberhalb eines bestimmten kritischen Werts, die ausreicht, um die in dem Schichtmaterial absorbierte Energie über einen in bezug auf die relativ niedrigen Schmelzpunkte der Grenzflächen bestimmten kritischen Temperaturwert zu erhöhen, in einen im wesentlichen fluiden Zustand übergeht, in dem die Oberflächenspannung des Schichtmaterials bewirkt, daß die im wesentlichen lichtundurchlässige Schicht (18) an den mit Energie beaufschlagten Stellen dispergiert wird
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    und sich zu einer diskontinuierlichen Schicht ändert, die Öffnungen (18a) und verformtes Material (18b; 18c) aufweist, die nach der Beaufschlagung mit Energie in ihren Positionen erstarren, wobei Licht die Öffnungen (18a) durchsetzen kann, um die dort vorhandene optische Dichte zu vermindern.
    17. Abbildungsfilm nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet,
    - daß die Grenzflächen zwischen den Schichten eine Schicht eines eutektischen Gemischs der gesonderten Komponenten zur Bildung der Grenzflächen mit niedrigen Schmelzpunkten aufweisen.
    18. Abbildungsfilm nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet,
    - daß die Atomgewichts-Prozente der jeweiligen Komponenten der gesonderten Schichten des Dispersions-Abbildungsmaterials im wesentlichen den Atomgewichts-Prozenten des Eutektikums der genannten Komponenten entsprechen.
    19. Abbildungsfilm nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet,
    - daß die Atomgewichts-Prozente der jeweiligen Komponenten der gesonderten Schichten des Dispersions-Abbildungsmaterials sich im wesentlichen von den Atomgewichts-Prozenten des Eutektikums der genannten Komponenten unterscheiden.
    20. Trockenentwicklungs-Abbildungsfilm mit hoher Empfindlichkeit,
    gekennzeichnet durch
    - einen Träger (16);
    - eine Passivierungsschicht (22) auf einer Trägeroberfläche;
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    - eine Schicht (20) aus einem polymerisieren organischen oder einem organischen ähnlichen Oberflächenmodifizierungsstoff auf der Passivierungsschicht (22);
    - eine Schicht (18) eines Dispersions-Abbildungsmaterials auf der Schicht (20) aus polymerisiertem Stoff; und
    - eine Passivierungsschicht (22) auf der Dispersions-Abbildungsschicht (18).
    21. Abbildungsfilm nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet,
    - daß zwischen der Dispersions-Abbildungsschicht (18) und der letztgenannten Passivierungsschicht (22) eine zweite Schicht (20) aus einem polymerisierten organischen oder einem organischen ähnlichen Oberflächenmodifizierungsstoff aufgebracht ist.
    22. Abbildungsfilm nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet,
    - daß sämtliche Schichten auf beiden Seiten der Dispersions· Abbildungsschicht (18) lichtdurchlässig, energiedurchlässig und biegsam sind.
    23. Abbildungsfilm nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet,
    - daß die Schicht (20) aus einem polymerisierten Stoff einen fluorierten Kohlenwasserstoff aufweist.
    2.h. Abbildungsfilm nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet,
    - daß die Schicht (20) aus dem polymerisierten Stoff ein aus Tetrafluoridkohlenstoff gebildetes Polymeres aufweist.
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    25. Abbildungsfilm nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet,
    - daß auf der letztgenannten Passivierungsschicht (22) ein polymerer Überzug (24) vorgesehen ist.
    26. Abbildungsfilm nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet,
    - daß der Träger (16) aus einer biegsamen Polyesterfolie besteht.
    27. Abbildungsfilm nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet,
    - daß jede Passivierungsschicht (22) aus einem anderen Material gebildet ist.
    28. Abbildungsfilm nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet,
    - daß die Dispersions-Abbildungsschicht (18) eine Mehrzahl Gruppen gesonderter Schichten verschiedener und im wesentlichen gegenseitig unlöslicher Komponenten sowie zwischen diesen Gruppen von Schichten liegende Schichten aus einem Feststoff aufweist,
    - wobei der Feststoff seinen Zustand beibehält, wenn die Dispersions-Abbildungsschicht (18) bei Beaufschlagung mit Energie in ihren im wesentlichen fluiden Zustand übergeht.
    29. Abbildungsfilm nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet,
    - daß die zweite Schicht (20) des polymerisieren Stoffs aus einem Material besteht, das sich von der anderen Schicht (20) des polymerisierten Stoffs unterscheidet.
    30. Abbildungsfilm nach Anspruch 29, dadurch gekennzeichnet,
    - daß die zweite Schicht (20) des polymerisierten Stoffs ein aufgedampftes Ethylenpolymeres ist.
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    31. Abbildungsfilm nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet,
    - daß die Passivierungsschichten (22) ein amorphes Oxid eines Metalls der Gruppe IV des Periodensystems aufweisen.
    32. Abbildungsfilm nach Anspruch 31, dadurch gekennzeichnet,
    - daß das Oxid Germaniumoxid ist.
    33. Abbildungsfilm nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet,
    - daß die Schicht (20) aus dem polymerisierten Stoff aus einer gasförmigen polymerisierbaren organischen Verbindung besteht.
    34. Verfahren zum Herstellen eines Abbildungsfilms mit hoher Empfindlichkeit,
    dadurch gekennzeichnet,
    - daß auf einen Träger nacheinander und gesondert aufgebracht werden:
    - eine Schicht eines Dispersions-Abbildungsmaterials,
    - eine Schicht eines Oberflächenmodifizierungsstoffs, und
    - eine Schicht eines Passivierungsmaterials, wobei
    - die Oberflächen-Modifizierungsschicht so aufgebracht wird, daß sie die Dispersions-Abbildungsschicht und die Passivierungsschicht kontaktiert.
    35. Verfahren nach Anspruch 3A-,
    dadurch gekennzeichnet,
    - daß die Oberflächen-Modifizierungsschicht durch Aufdampfen aufgebracht wird zur Bildung einer polymeren Schicht, die licht- und energiedurchlässig ist.
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    36. Verfahren nach Anspruch 35, dadurch gekennzeichnet,
    - daß die Oberflächen-Modifizierungsschicht durch Glimmentladungs-Abscheidung aufgebracht wird.
    37. Verfahren nach Anspruch 34-, dadurch gekennzeichnet,
    - die Oispersions-Abbildungsschicht derart aufgebracht wird, daß sie zwischen wenigstens einer Oberflächen-Modifizierungsschicht und einer Passivierungsschicht eingeschlossen ist.
    38. Verfahren nach Anspruch 34, dadurch gekennzeichnet,
    - daß die aufeinanderfolgenden und gesonderten Schichten derart aufgebracht werden, daß auf beiden Seiten der Dispersions-Abbildungsschicht und in Kontakt mit dieser eine Oberflächen-Modifizierungsschicht vorgesehen wird.
    39. Verfahren nach Anspruch 34, dadurch gekennzeichnet,
    - daß zwei Passivierungssehiehten derart aufgebracht werden, daß nur eine derselben die Dispersions-Abbildungsschicht kontaktiert.
    40. Verfahren nach Anspruch 38, dadurch gekennzeichnet,
    - daß gesonderte Passivierungssehiehten derart aufgebracht werden, daß sie die Oberflächen-Modifizierungsschichten kontaktieren.
    41. Verfahren nach Anspruch 34, dadurch gekennzeichnet,
    - daß die Dispersions-Abbildungsschicht und die Passivierungssehiehten durch Vakuumabscheiden aufgebracht werden.
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    42. Verfahren nach Anspruch 34, dadurch gekennzeichnet,
    - daß auf der dem Träger abgewandten Seite der Schichten ein Überzug aus einem polymeren Harz gebildet wird.
    43. Verfahren nach Anspruch 34, dadurch gekennzeichnet,
    - daß zur Bildung der Oberflächen-Modifizierungsschicht ein fluorierter Kohlenwasserstoff verwendet wird.
    44. Verfahren nach Anspruch 34, dadurch gekennzeichnet,
    - daß als Passivierungsmaterial ein amorphes Oxid eines Metalls der Gruppe IV des Periodensystems verwendet wird.
    45. Verfahren nach Anspruch 44, dadurch gekennzeichnet,
    - daß das Oxid Germaniumoxid ist.
    46. Verfahren nach Anspruch 34, dadurch gekennzeichnet,
    - daß das Dispersions-Abbildungsmaterial Wismut oder eine Wismutlegierung ist.
    47. Verfahren nach Anspruch 34, dadurch gekennzeichnet,
    - daß die Dispersions-Abbildungsschicht gebildet wird durch Aufbringen einer Mehrzahl gesonderter Schichten aus verschiedenen und im wesentlichen gegenseitig unlöslichen Komponenten mit relativ hohen Schmelzpunkten und Eutektika mit relativ niedrigem Schmelzpunkt und Grenzflächen zwischen den Schichten mit relativ niedrigen Schmelzpunkten,
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    - wobei der aufgebrachte Film aus Dispersions-Abbildungsmaterial bei Beaufschlagung mit Energie einer Intensität oberhalb eines bestimmten kritischen Werts, die ausreicht, um die in dem Filmmaterial absorbierte Energie über einen in bezug auf die relativ niedrigen Schmelzpunkte der Grenzflächen vorbestimmten kritischen Temperaturwert zu erhöhen, in einen im wesentlichen fluiden Zustand übergeht, in dem die Oberflächenspannung des Filmmaterials bewirkt, daß der im wesentlichen lichtundurchlässige Film an den mit Energie beaufschlagten Stellen dispergiert wird und sich zu einem diskontinuierlichen Film ändert, der Öffnungen und verformtes Material aufweist, die nach der Beaufschlagung mit Energie dort erstarren, wobei Licht die Öffnungen durchsetzen kann, so daß die fort vorhandene optische Dichte verringert wird.
    4-8. Verfahren nach Anspruch 4-7,
    dadurch gekennzeichnet,
    - daß die gesonderten Schichten aus verschiedenen und im wesentlichen gegenseitig unlöslichen Komponenten nacheinander durch Vakuumabscheiden aufgebracht werden.
    4-9. Verfahren nach Anspruch 3A-,
    dadurch gekennzeichnet,
    - daß die Schichten derart aufgebracht werden, daß eine Dispersions-Abbildungsschicht zwischen zwei Oberflächen-Modifizierungsschichten eingeschlossen ist und daß die Oberflächen-Modifizierungsschichten und die Dispersions-Abbildungsschicht ihrerseits zwischen zwei Passivierungsschichten eingeschlossen sind.
    50. Verfahren nach Anspruch 4-9,
    dadurch gekennzeichnet,
    - daß jede Oberflächen-Modifizierungsschicht aus demselben Material oder aus jeweils verschiedenen Oberflächenmodifizierungsmaterialien gebildet wird.
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