DE3101077A1 - Beobachtungseinrichtung - Google Patents
BeobachtungseinrichtungInfo
- Publication number
- DE3101077A1 DE3101077A1 DE19813101077 DE3101077A DE3101077A1 DE 3101077 A1 DE3101077 A1 DE 3101077A1 DE 19813101077 DE19813101077 DE 19813101077 DE 3101077 A DE3101077 A DE 3101077A DE 3101077 A1 DE3101077 A1 DE 3101077A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- objects
- microscopes
- chip
- image projection
- observation device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/18—Arrangements with more than one light path, e.g. for comparing two specimens
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
Description
20
Die Erfindung bezieht sich auf eine Beobachtungseinrichtung
zur Beobachtung einer Mehrzahl von aneinander angrenzenden Gebieten von mindestens zwei Objekten
die in Richtung einer optischen Achse übereinandergelegt sind, unter Verwendung einer Mehrzahl von Mikroskopen.
Diese Art von Beobachtungseinrichtung wird (1) in dem Fall, daß ein Dreifarben-Trennfilter, wie beispielsweise
ein Streifenfilter etc. auf ein Festkörper-Bildaufnahmeelement,
wie ein CCD-Chip, mit einer Größe von einigen mm im Quadrat bis zu zehn oder einigen
zehn mm im Quadrat mit einer guten Positioniergenauigkeit gelegt und aufgeklebt wird, oder (2) in dem
Fall verwendet, daß eine Masse derselben Größe wie vorstehend auf ein sehr kleines Wafer (das so genannt
wird, da das Wafer aus einem speziellen Kristall, wie beispielsweise GaAs, etc. hergestellt ist, der
aufgrund der Herstellungsschwierigkeiten von großen Kristallen nicht größer als 20 mm im Quadrat sein kann,
Deutsche Bank (München) Klo. 51/61070
130047/0490
Dresdner Bank (München) KIo. 3939844
während gewöhnliche Wafer einen Durchmesser von drei bis fünf Inch haben) aufgelegt wird (d.h. in engen
Kontakt gebracht wird bzw. in einen geringen Abstand gebracht und ausgeheizt wird).
Es ist zu sagen, daß die vorstehend erwähnte Anordnungsbzw. Ausheizarbeit derart durchgeführt werden sollte,
daß sowohl der Chip und das Filter als auch die Maske und das Wafer miteinander mit einer Positioniergenauigkeit
von 1 um oder darunter über die gesamten Oberflächen beider Gegenstände übereinstimmen. Da die
Genauigkeit über die gesamten Oberflächen aufrechterhalten werden sollte, sollte die Positionierarbeit
dadurch durchgeführt werden, daß eine Mehrzahl von Steilen (gewöhnlich zwei Stellen sowohl links als
auch rechts) der Gegenstände beobachtet wird. Wie vorstehend erläutert haben jedoch der vorgenannte
Chip und das sehr kleine Wafer Größen von höchstens 20 mm im Quadrat, so daß die Beobachtungspunkte auf
den Gegenständen unvermeidlich einen Abstand von weniger als höchstens 20 mm haben. Stellt man dies
in Rechnung, so ist es unmöglich, eine Vielzahl von Mikroskopen auf diesem geringen Raum anzuordnen, ohne
__ daß die verschiedenen Vorrichtungen einander im Wege
sind. Insbesondere wenn die Positioniergenauigkeit höher wird, sind Mikroskope mit einer hohen Bildauflösung
erforderlich; Objektive einer hohen Genauigkeit haben unvermeidlich einen großen Linsendurch-OQ
messer, wodurch wiederum eine Erhöhung des Durchmessers der Objektivfassung bedingt wird. Stellt
man dies alles in Rechnung, so wird es äußerst schwierig, die Mikroskope auf einem derart kleinen
Raum anzuordnen. Wenn beispielsweise die Positionierte
genauigkeit 1 μπι oder weniger sein soll, so ist eine
130047/0490
-. DE 0949 310107?
• fr
numerische Apeitui (N.Λ.) des Objektivs im Mikroskop
von 0,2 oder, dar übet er.foi.cleil.ich, und wenn der Arbeitsabstand
20 mm sein soll, so hat die Linsenfassung des. Objektivs Abmessungen von 20 mm und darüber mit
der Konsequenz, daß es unmöglich ist, zwei Objektpunkte mit einem Abstand von weniger als 20 mm zu
beobachten. Die Fig. 1A und 1B der Zeichnung erläutern
ein Verfahren zur Beobachtung zweier benachbarter Gebiete, welches am naheliegensten ist.
In der Zeichnung ist mit dem Bezugszeichen 1 ein CCD-Chip und mit 2 ein Dreifarben-Trennfilter be-
zeichnet. Der CCD-Chip 1 und das Farbfilter 2 sind 15
aufeinander in Richtung der optischen Achse eines Mikroskops 3 angeordnet. In dem in Fig. 1A gezeigten
Zustand werden zur Ausrichtung die rechten Enden des Chips 1 und des Farbfilters 2 beobachtet. Anschließend
werden der Chip 1 und das Farbfilter 2 gemeinsam nach
rechts in der Zeichnung verschoben oder das Mikroskop 3 wird nach links bewegt, wie in Fig. 1B gezeigt ist,
um so die linken Enden des Chips 1 und des Farbfilters 2 zur Ausrichtung zu beobachten. Durch mehimaliges
Wiederholen dieses Vorgangs können der Chip 1 und das Farbfilter 2 mit befriedigender Genauigkeit über
die gesamten Oberflächen zur Deckung gebracht werden. Wie aus der vorstehenden Beschreibung ersichtlich ist,
benötigt dieses Verfahren zur Positionierung Zeit; . o^ es kann deshalb nicht gesagt weiden, daß durch dieses
Verfahren das Problem gut gelöst wird.
Ais nächstes soll ein Veifahien zum Anordnen von zwei
Mikioskopen 3, 31 (Fig. 2) betrachtet werden, deren
or Objektive zu dei Oberfläche des Chips 1 und des
130047/0490
Farbfilters 2 geneigt sind, wobei einer vertikale Linie hierfür die Symmetrieachse ist. Zwar hat dieses
Verfahren den Vorteil, die Zeit für den Positioniervoigang
verglichen mit dem vorigen Verfahren zu verringern, es treten aber Probleme bezüglich der Genauigkeit
<les Positioniet ens auf, da die Objektoberfläche
aus einer schrägen Richtung beobachtet wird; deshalb kann gesagt werden, daß auch dieses Verfahren kein
gutes Verfahren zum Lösen des Problems ist.
Die vorliegende Erfindung ist im Hinblick auf die vorgenannten verschiedenen Problempunkte gemacht worden,
die den bekannten Verfahren und Einrichtungen eigen sind.
Ks Lsi deshujb Aufgabe der Erfindung, eine Beobachtungseinrichtung
zu schaffen, bei der durch die Verwendung einer Mehrzahl von Mikroskopen gleichzeitig eine
Mehrzahl von benachbarten Gebieten auf mindestens zwei Gegenständen bzw. Objekten beobachtet wird, die in
Richtung der optischen Achse übereinander liegen.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch eine Einrichtung
gelöst, bei der ein Vergrößerungs- und Bildprojektionsobjektiv zwischen der Mehrzahl von Mikroskopen
und den übereinanderliegenden Objekten angeordnet ist.
Die Erfindung wird nachstehend anhand von Ausführungsbeispielen unter Bezugnahme auf die Zeichnung näher
beschrieben. Es zeigen:
Fig. 1A, 1B und 2, Verfahren zur Beobachtung zweier
benachbarter Punkte auf Objekten mit einer hohen Bildauflösung,
1 30047/0490
Fig. 3 ein bevorzugtes Ausführungsbeispiel der optischen Anordnung der erfindungsgemäßen Beobachtungseinrichtung,
und
Fig. 4 ein weiteres bevorzugtes Ausfühiungsbeispiel dei optischen Anordnung der erfindungsgemäßen Beobachtungseinrichtung.
Fig. 3 zeigt ein erstes Ausführungsbeispiel der optischen Anotdnung der erfindungsgemäßen Beobachtungseinrichtung;
mit 4 ist ein CCD-Chip und mit 5 ein Dreifarben-Trennfilter bezeichnet. Das Farbfilter 5
ist auf dem CCD-Chip 4 mit guter Genauigkeit zur Deckung gebracht. Der Chip 4 und das Farbfilter 5
können entweder in engen Kontakt oder benachbart zueinander angeordnet sein. Mit 6 ist ein Vergrößerungs
und Bildprojektionsobjektiv mit einer hohen Bildauflösung und einer großen Bildfläche bezeichnet. Durch
dieses Vergtößetungs- und Bildprojektionsobjektiv 6 werden vergrößette Bilder 41 und 51 des Chips 4 und des
Coiorfilters 5 gebildet. Unter Berücksichtigung der
Tatsache, daß die Bilder vergrößert sind, sind natürlich die Abstände zwischen den linken und
„c rechten Seiten des Chips 4 und des Farbfilters 5
vergrößert. Mit 7 ist ein Binokularmikroskop bezeichnet, dessen optische Achsen parallel zueinander
sind. Mit 8 ist ein Objektiv und mit 9 ein Okular bezeichnet. Dieser Mikroskoptyp kann einen großen Ab-
OQ stand zwischen den Objektiven 8, 8 haben. Deshalb ist
es mit der erfindungsgemäßen Beobachtungseinrichtung
möglich, sowohl die linken als auch die rechten Enden des Chips 4 und des Farbfilters 5 gleichzeitig und
mit höhet Bildauflösung zu beobachten. Da ferner die
erfindungsgemäße Beobachtungseinrichtung das Ver-
1300-47/0490
-V- DE 0949
größerungs- und Biidprojektionsobjektiv 6 mit einer großen Bildflächengrößer verwendet, hat sie einen
größeren Arbeitsabstand als in dem Fall, in dem ein Mikroskop alleine verwendet wird. Im allgemeinen hat
ein Objektiv mit einer größeren Bildfläche eine längere Brennweite, während ein Objektiv mit einer
längeren Brennweite einen größeren Arbeitsabstand hat. Ais Konsequenz hiervon kann die Ausrichtung der
Objektpunkte vorteilhafter als in dem Fall durchge-10
führt werden, in dem sie direkt durch das Mikroskop beobachtet werden.
Fig. 4 zeigt ein zweites Ausführungsbeispiel der erfindungsgemäßen
optischen Anordnung. Bei diesem Ausführ
ungsbeispieJ wild ein Vet-größeiungs- und Biidprojektionsob
jektiv 9 verwendet, das sowohl auf der Objekt- als auch auf der Bildseite telezentrisch ist.
Das Bezugszeichen 10 bezeichnet ein Objektiv, 11 einen totalreflektierenden Spiegel, 12 einen teildurchlässigen
Spiegel, 13 ein Beieuchtungs-Kondensorobjektiv und eine Beieuchtungsiichtquelle.
Das Licht der Beieuchtungsiichtquelle 14 geht nacheinander
durch das Kondensorobjektiv 13, das Objektiv 10
des Mikroskops, den totalreflektierenden Spiegel 11
und das Vergrößeiungs- und Biidpiojektionsobjektiv
und beleuchtet die nicht gezeigten Positionierungsmarkieiungen auf den in Deckung zu bringenden Objekten
,λ 4 und 5. Da das Vetgiößerungs- und Biidprojektionsobjektiv
9 sowohl auf der Objekt- als auch auf der Bildseite telezentrisch ist, fallen die Licht-Hauptstrahien
des Beieuchtungslichts vertikal auf die Objekte 4 und 5 ein und werden von den Objekten
oc reflektiert, so daß sie den ursprünglichen Lichtweg
130047/0490
310107?
-9- DE 0949
zurückgehen. Die Objekte 4 und 5 werden, wie sie beleuchtet
sind, durch das Vergrößerungs- und Bildprojektionsobjektiv 9 vergrößert und als projizierte
Bilder 4' und 5' projiziert; da das Vergrößerungs- und Bildprojektionsobjektiv 9 sowohl auf der Objekt-als
auch auf der Bildseite telezentrisch ist, ist der Lichtstrahl, der diese Bilder bildet, symmetrisch zu
der optischen Achse des Objektivs des Mikroskops und eine ausreichend Lichtmenge geht hindurch. Weiter wird
das Licht durch den teildurchlässigen Spiegel 12 reflektiert und zu einem Lichtweg 15 hin zu einem
nicht, gezeigten Okular geführt.
Obwohl die Objekte 4 und 5 gewöhnlich einen Abstand von einigen bis zu einigen 10 μπι haben, ist es
wünschenswert, beide innerhalb der Schärfentiefe
des Vergrößerungs- und Bildprojektionsobjektivs 6 zusammenzubringen. Da das Objektiv 9 auf beiden
Seiten telezentrisch ist, ist die Vergrößerung der Objektbilder 4' und 51 gleich, sogar wenn die Objektbilder
voneinander beabstandet sind, so daß der Positioniervorgang leicht durchgeführt werden kann.
Wenn ein Objektiv verwendet wird, das nicht auf beiden »,. Seiten telezentrisch ist, variiert die Vergrößerung
der Objektbilder 41 und 5'leicht, wodurch Positionierfehler
sowohl auf der linken als auch auf der rechten Seite aufgrund der linken und rechten Objektive 10,
verursacht werden. Sogar wenn derartige Positionieren fehler vorhanden sind, ist jedoch die Positionierung
aufgrund eines Verfahrens noch möglich, bei dem das Positionieren derart durchgeführt wird, daß die Bilder
von gleicher Größe und ihre Richtung entgegengesetzt zueinander sowohl auf der linken als auch auf der
oc rechten Seite sind, obwohl es einem derartigen Verfahren
130047/0490
DE 094 9
Bequemlichkeit mangelt.
Feiner kann anstelle der Lichtquelle 14 Licht verwendet
weiden, daß durch eine Lichtführung geführt worden ist. Ferner ist es möglich, den totalreflektierenden
Spiegel 11 duich einen teildurchlässigen Spiegel zu ersetzen und den Beleuchtungslichtstrahl für den
Positioniervoigang durch den teildruchlässigen Spiegel
11 einzufühlen. In diesem Fall kann der teildurch-10
lässige Spiegel 12 ein totalreflektierender Spiegel sein. Obwohl bei diesem Ausführungsbeispiel reelle
Biidei 4' und 51, die durch das Bildprojektionsobjektiv
gebildet werden, mitteis des Mikioskops 7 beobachtet
weiden, ist es auch möglich, virtuelle Bilder zu beobachten.
Wie vorstehend ausgeführt, macht es die vorliegende Erfindung möglich, gleichzeitig zwei benachbarte
Punkte auf sehr kleinen in Deckung zu bringenden Objekten zu beobachten, wodurch sich Vorteile ergeben,
wie daß die Effizienz des Positioniervor gangs ei höht
wird, der Aibeitsabstand zu dem Objekt größer sein kann und der Positioniermechanismus leicht ausgeführt
?ς werden kann.
Beschrieben wird eine Einrichtung zur Beobachtung zweier benachbarter Gebiete auf zwei Objekten, die in Richtung
einer optischen Achse übereinanderliegen, unter Ver-
on wendung von zwei Mikroskopen. Die Einrichtung ist mit
einem Vergrößerungs- und Bildprojektionsobjektiv versehen, das zwischen den Mikroskopen und den Objekten
angeordnet ist. Die beiden Mikroskope sind mit einem Abstand zwischen ihren optischen Achsen angeordnet, der
or größer als der Abstand zwischen den beiden benachbarten
Gebieten ist; die beiden Gebiete des vergrößerten Objektbildes, das durch das Bildprojektionsobjektiv gebildet
wird, werden durch die beiden Mikroskope beobachtet.
130047/0490
Claims (2)
1. Beobachtungseinrichtung, bei der eine Mehrzahl von benachbarten Gebieten von mindestens zwei
Objekten, die in Richtung einer optischen Achse übereinanderliegen, unter Verwendung einer
Mehrzahl von Mikroskopen beobachtet wird' , dadurch gekennzeichnet, daß ein Vergrößerungs- und Bildprojektionsobjektiv (6) zwischen den Mikroskopen (7)
und den Objekten (4,5) angeordnet ist f und daß die
Mehrzahl von Mikroskopen mit einem Abstand zwischen ihren optischen Achsen angeordnet werden kann, der
größer als der Abstand zwischen der Mehrzahl von benachbarten Gebieten ist.
2. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Vergrößerungs- und Bildprojektionsobjektiv
(6; 9) sowohl auf der Objektseite als auch auf der Seite der projizierten Bilder telezentrisch ist.
V/19
Deuische Bank (München) Kto 51/61070
130047/0490
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP392380A JPS56101119A (en) | 1980-01-17 | 1980-01-17 | Observing device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3101077A1 true DE3101077A1 (de) | 1981-11-19 |
Family
ID=11570659
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19813101077 Ceased DE3101077A1 (de) | 1980-01-17 | 1981-01-15 | Beobachtungseinrichtung |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4417789A (de) |
JP (1) | JPS56101119A (de) |
DE (1) | DE3101077A1 (de) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3577355D1 (de) * | 1984-06-25 | 1990-05-31 | Olympus Optical Co | Mikroskop. |
JPH0795144B2 (ja) * | 1988-10-05 | 1995-10-11 | 日商精密光学株式会社 | 顕微鏡用光学系アタッチメント |
GB9015793D0 (en) * | 1990-07-18 | 1990-09-05 | Medical Res Council | Confocal scanning optical microscope |
US6628385B1 (en) * | 1999-02-05 | 2003-09-30 | Axon Instruments, Inc. | High efficiency, large field scanning microscope |
CN101825771B (zh) * | 2010-05-11 | 2011-12-14 | 杜长乐 | 立体显微成像视频眼镜 |
EP3074806A1 (de) * | 2013-11-28 | 2016-10-05 | Femtonics Kft. | Optisches mikroskopsystem zur gleichzeitigen beobachtung von räumlich unterschiedlichen interessenbereichen |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3853398A (en) * | 1972-07-05 | 1974-12-10 | Canon Kk | Mask pattern printing device |
US4153371A (en) * | 1976-02-25 | 1979-05-08 | Hitachi, Ltd. | Method and apparatus for reduction-projection type mask alignment |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AT212048B (de) * | 1957-11-22 | 1960-11-25 | Akad Wissenschaften Ddr | Einrichtung zur Erzielung starker Vergrößerungen unter Vermeidung von entoptischen und dioptrischen Störungen bei optischen Geräten |
US3672778A (en) * | 1970-12-09 | 1972-06-27 | Ibm | Optical system for positional and angular orientation determining apparatus |
JPS593791B2 (ja) * | 1975-04-07 | 1984-01-26 | キヤノン株式会社 | 物体の像認識方法 |
US4009929A (en) * | 1975-04-24 | 1977-03-01 | Konan Camera Research Institute | Binomial microscope |
-
1980
- 1980-01-17 JP JP392380A patent/JPS56101119A/ja active Pending
- 1980-12-31 US US06/221,634 patent/US4417789A/en not_active Expired - Lifetime
-
1981
- 1981-01-15 DE DE19813101077 patent/DE3101077A1/de not_active Ceased
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3853398A (en) * | 1972-07-05 | 1974-12-10 | Canon Kk | Mask pattern printing device |
US4153371A (en) * | 1976-02-25 | 1979-05-08 | Hitachi, Ltd. | Method and apparatus for reduction-projection type mask alignment |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
K. Mütze, ABC der Optik, W. Dausien Verlag 1972, S. 887 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4417789A (en) | 1983-11-29 |
JPS56101119A (en) | 1981-08-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2554952A1 (de) | Optisches bilduebertragungssystem | |
DE2828530A1 (de) | Achromatisches optisches system | |
DE10127227A1 (de) | Katadioptrisches Reduktionsobjektiv | |
DE2433944A1 (de) | Weitwinkel-objektiv | |
DE2646488A1 (de) | Ultrahochaufloesendes verkleinerungsobjektiv | |
DE19612846A1 (de) | Anordnung zur Erzeugung eines definierten Farblängsfehlers in einem konfokalen mikroskopischen Strahlengang | |
CH681662A5 (de) | ||
DE2559074C3 (de) | Objektiv vom abgewandelten Gauss-Typ | |
DE3101077A1 (de) | Beobachtungseinrichtung | |
DE2660987C2 (de) | Auflichtbeleuchtungssystem für ein Mikroskop | |
DE19827013A1 (de) | Mikroskop-Objektiv | |
DE3228235A1 (de) | Teleobjektiv mit grossem oeffnungsverhaeltnis | |
DE2143701C3 (de) | Photographisches Super Weitwinkel Objektiv | |
DE3248382A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum ausrichten | |
DE2047673C3 (de) | Mikroskopobjektiv mit einer Frontlinsengruppe in Form eines auswechselbaren Semiobjektivs | |
DE2811095C2 (de) | Fünfgliedriges Mikroskopobjektiv | |
DE2739422A1 (de) | Mikroskopobjektiv | |
DE2301549A1 (de) | Optische vorrichtung | |
DE2843798C2 (de) | ||
DE2026938A1 (de) | Photographische Linseneinheit | |
DE3326346A1 (de) | Optische vorrichtung zur aufrechterhaltung der pupillenabbildung | |
DE2657958C3 (de) | Mikroskopobjektiv mit etwa 4-facher Vergrößerung | |
DE2703823B2 (de) | Wiedergabeobjektiv mit mittlerer Vergrößerung für Bildplatten | |
DE2417899A1 (de) | Verfahren und anordnung zum anfertigen von zusammengesetzten mikrofotografien | |
DE3002714C2 (de) | Gauß-Objektiv |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8131 | Rejection |