DE3043381A1 - "beschichtung" - Google Patents

"beschichtung"

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DE3043381A1 DE19803043381 DE3043381A DE3043381A1 DE 3043381 A1 DE3043381 A1 DE 3043381A1 DE 19803043381 DE19803043381 DE 19803043381 DE 3043381 A DE3043381 A DE 3043381A DE 3043381 A1 DE3043381 A1 DE 3043381A1
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Description

  • Beschichtung
  • Die Erfindung betrifft eine Beschichtung wärmeabgebender Ziele zur Vermeidung der Infrarot-Erkennbarkeit.
  • Die jüngste Entwicklung der Infrarot-Sichtgeräte stellt die Tarnung militärischer Objekte vor neue Probleme. Diese Geräte arbeiten passiv, d. h. verwenden zur Bilddarstellung die von allen Körpern ausgehende Wärmestrahlung, wobei noch geringste Temperaturunterschiede (c 10 C) aufgelöst werden können. Das bedeutet, daß vor allem Objekte mit starken Wärmequellen, wie Fahrzeuge, Schiffe und Flugzeuge, aber auch von der Sonne erwärmte Anlagenteile und Straßen ein deutlich sichtbares Ziel darstellen. Künftige Tarnsysteme müssen also neben den Metlioden im visuellen und nahen IR-Bereich zusätzlich die Wärmeemission im fernen IR, also im 2. und 3. atmosphärischen Fnster berücksichtigen.
  • Ein Teil der Wärmestrahlung kann im Einzelfall durch konstruktive Maßnahmen und durch Rinsatz wärmedämmender Materialiea unterdrückt werden. Diese Lösungen sind jedoch im allgemeinen unzureichend oder waffentechnisch ungeeignet, z.B. wegen zusätzlicher Massen und Volumina.
  • In der militärischen Strategie spielen Truppenbewegungen bei Nacht und der Nachtkampf eine bedeutende Rolle. Zur Unterstützung dieser Aktionen stehen heute sehr leistungsfähige Geräte zur Nachtsicht, Entfernungsmessung und Zielortung zur Verfügung. Man unterscheidet dabei folgende Methoden: a. Aktive IR-Geräte mit Infrarot-Lichtquellen zur Szenenbeleuchtung. Sie arbeiten im ersten atmosphärischen Fenster (0,7 - 2 /um).
  • b. Passive Restlichtverstärker fur den sichtbaren Bereich una das erste atmosphärische Fenster.
  • c. Entfernungsmessung mit Laserlicht im ersten atmosphärischen Fenster.
  • d. Passive Wärmebildgeräte zur Erfassung der Eigenstrahlung (Temperaturstrahlung von Ziel und Umgebung, welche im zweiten und dritten atmosphärischen Fenster (3 - 5 /um; 8 - 14 /um) liegt.
  • Die Methoden a. bis c. sind schon länger eingeführt und es sind auch auf der Gegenseite entsprechende hochentwickelte Abwehrmaßnahmen vorhanden. Die Geräte sind oft unzureichend in der Empfindlichkeit oder Reichweite, die aktiven Geräte (a. und c.) arbeiten zudem mit IR-Lichtquellen, welche leicht geortet-werden können.
  • Eine Verbesserung der Situation wurde erst in den letzten Jahren durch die Entwicklung von Halbleiterdetektoren für das fetne Infrarot ermöglicht, welche zur Einführung militärischer Wärmebildgeräte geführt hat. Durch die Erfassung der Wärmestrahlung des Objektes kann eine wesentliche Steigerung der Detektionsreichweite auch am Tage erzielt werden.
  • Außerdem ist kaum eine Störung bei diesigem Wetter oder bei künstlicher Einnebelung mit konventionellen Nebeln gegeben.
  • Die Tarnung gegenüber Wärmebildgeräten ist andererseits besonders schwierig. Das Detektorsignal ist proportional zur emittierten Wärmemenge QE.
  • QE ßJ £ E T ist proportional zur vierten Potenz der Temperatur. Das be-.
  • deutet, daß noch geringste Temperaturunterschiede zwischen Ziel und Umgebung ausgemacht werden können. Bei vielen militärischen Objekten ist eine Erwärmung an der Oberfläche prinzipiell nicht zu vermeiden, so sind z.B. Fahrzeuge mit Verbrennungsmotorc'n, Geschützrohre von Panzern, Energieaggregate und ähnliche wärmeabgebende Bauteile besonders gefährdet.
  • Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, durch Reduzieruncdes Wärmeemissionsvermögens die Infrarot-Erkennbarkeit von Zielgegenständen zu vermindern und zugleich eine gute Tarnwirkung im sichtbaren un nahem Infrarot, wie bei den herki,mmlichen Verfahren, zu sichern..
  • Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die Oberfläche des Zielgegenstandes in bestimmter Weise struktuiert wird und daß dadurch eine besondere spektralselektive Wirkung erzielt wird.
  • Die optische Eigenschaften der Oberfläche, insbesondere Emissionsvermögen, spiegelnde Reflexion und diffuse Reflexion werden in den verschiedenen Wellenlängenbereichen so eingestellt, daß folgende Tarneffekte gleichzeitig erreicht werden: a. Durch ein niedriges Wärmeemissionsvermögen gIR wird die Strahlungstemperatur (scheinbare Objekttemperatur) drastisch reduziert. Die Sichtbarkeit des Objekts wird nahezu unabhängig von seiner Eigentemperatur (Faktor 10 - 50).
  • b. Durch ein hohes diffuses Reflexionsvermögen im fernen IR wird die Strahlungstemperatur der Umgebung in den Detektor eingespiegelt: das Objekt paßt sich der Umgebung an.
  • c. Durch ein verschwindend kleines gerichtetes Reflexionsvermögen im nahen IR wird das Objekt unsichtbar gegenüber aktiven Sichtgeräten und Entfernungsmeßgeräten.
  • d. Durch ein hahes Absorptionsvermögen im Sichtbaren g vis in Verbindung mit einer geeigneten Farbgebung wird eine wirksame visuelle Tarnung und Konturenzerreißung erreicht.
  • Die besonderen Vorteile des Erfindungsgegenstandes liegen darin, daß auf der Basis von niedrig emittierenden Beschichtungen ein neuartiges Tarnsystem eingeführt wird, welches sowohl gegenüber der passiven Wärmebildtechnik, als auch gegenüber der normalen Aufklärung sehr effektiv eingesetzt werden kann.
  • Die Abscheidungsformen und Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachfolgend anhand von Figuren näher erläutert.
  • Es zeigt: Fig. 1 einen Querschnitt durch eine erfindungsgemäBe Oberflächenstruktur auf Aluminium mit nadelförmiger Abscheidung, Fig. 2 einen Grundkörper, Fig. 2a mit glatter Oberfläche, Fig. 2b aufgerauht, Fig. 2c beschichtet, Fig. 2d beschichtet und aufgerauht, Fig. 3 eine Prinzipskizze zur erläuterung des Begriffs "laterale Dimension", Fig. 4 zwei weitere Formen galvanisch hergestellter Metallstrukturen, Fig. 4a noppenartige Abscheidung, Fig. 4b unregelmäßige Abscheidung, Fig. 5 die Herstellung einer Dispersionsabscheidung in drei Verfahrensschritten.
  • Fig. 1 zeigt eine erfindungsgemäße Oberflächenstruktur im Querschnitt. Ene Aluminiumoberfläche 3 wird mit einer porösfn Oxydschicht 2 (z.B. A1203) bedeckt. Aus den Oxydporen wachsen Metallstäbchen 1 (z.B. aus Nickel) heraus.
  • Auf der Fig. 1 ist zu erkennen, daß die Oberfläche der Schicht teppichartig mit dicht aneinanderliegenden Stäbchen bedecht ist. Diese Stäbchen entstehen beim Galvanisiereh. Da die Oberfläche mit Oxyd bedeckt ist, scheidet sich das Metall nur in den Poren ab und wächst schließlich in dieser Form aus den Poren heraus.
  • Die besondere Wirkung dieser Struktur besteht nun darin, daß der mittlere Abstand und Durchmesser der Stäbchen wesentlich kleiner als die Wellenlänge des sichtbaren Lichts ist. Diese Metallstruktur wirkt optisch wie ein homogenes absorbierendes Medium, ähnlich wie ein scharzes Glas. Im Infraroten ist die Struktur durchlässig, so daß das niedrige Emissionsvermögen (hohes Reflexionsvermögen) der metallischen Unterlage, hier des Aluminiumsubstrates,zur Wirkung kommt. Die IR-Transparenz der Schicht kommt durch die Addition zweier Effekte zustande: Einmal nimmt zum Langwelligen hin der Absorptionskoeffizient der Metalle im allgemeinen zu, der Absorptionskoeffizient des zusammengesetzten, struktuierten Mediums nimmt jedoch leicht ab. Zweitens ist das Verhältnis von Sichtdicke zu Wellenlänge bzw. zu Eindringtiefe im IR etwa zehnmal kleiner als im sichtbaren Bereich.
  • Des weiteren ist noch die Eigenemission der Oxydmatrix zu berücksichtigen, die auch bei nicht struktuierten Oberflächen stattfindet. Gerade Aluminiumoxyd hat aufgrund ausgeprägter Molekülschwingungen zwischen 5 und 14 /um ein sehr hohes Wärmeemissionsvermögen. Diesem Umstand wird erfindungsgemäß dadurch Rechnung getragen, daß sehr kleine Schichtdicken eingestellt werden. Die vorgeschlagenen Schichten sind ein bis zwei Größenordnungen dünner als herkömmliche anodische Oxydschichten.
  • Die für die optischen Eigenschaften verantwortlichen Größen, wie Abstand und Durchmesser der Poren bzw. der Metallstäbchen, Oxydschichtdicke und Stäbchenlänge, sind in systematischer Weise durch die Herstellungsparameter wie Badtemperatur, Säuregehalt, Strom, Spannung, Zeit usw. einstellbar.
  • Nach den bisherigen Erfahrungen ist die Änodisierung in verdünnter Phosphorsäure besonders günstig, da sie gegenüber den "technischen" Elektrolyten Oxalsäure, Schwefelsäure und Chromsäure, größere Porendurchmesser und Porenabstände erzeugt und dadurch die Einstellung der spektralen Selektivität erleichtert.
  • Zum Beispiel scheint es bei Schwefelsäure keinen Bereich zu geben, in dem vis 1Werte über 1 erreicht werden können.
  • Es ist jedoch nicht auszuschließen, daß auch mit andern Elektrolyten ähnliche Ergebnisse erzielt werden können.
  • Zum Aufbringen der Metallstäbchen eignen sich z.B. die üblichen sauren Galvanisierbäder, die auch zur normalen Abscheidung-von Nickel, Kobalt, Kupfer, Eisen, Zink usw. verwendet werden. Die Abscheidungsparameter, insbesondere Zeit, Spannung und Temyeratur, sind wie beim Anodisieren sehr sorgfältig einzustel,en.
  • Wenn zu wenig Metall abgeschieden wird, ist die Oberfläche nicht tiefschwarz, sonden farbig, und bei zu starker Metallisierung nivelliert sich die Oberfläche und nimmt metallisc}les Aussehen an. Als vorteilhaft hat sich weiterhin das Galvanisieren mit Wechselstrom erwiesen.
  • Ausfürhungsbeispiel: Eine Aluminiumplatine wird nach üblichem Verfahren Vorbereitet, d. h. organisch und alkalisch entfettet, gespült, gebeizt und wieder gründlich in Wasser gespült. Alternativ oder zusätzlich können auch andere Oberflächenbehandlungsmethoden, wie Bürsten, Ätzen, chemisches oder elektrolytisches Polieren eingesetzt werden, je nach Ausgangsqualität der Metalloberfläche. Die Anodisierung erfolgt in 15%iger Phosphorsäure bei 320C für 7 min bei Spannungen von 12 bis 14 V. Nach dem gründlichen Wässern schließt sich sofort die Metallisierung an. Dazu kann beispielsweise ein Elektrolyt bestehend aus 50 g Nickelsulfat, 20 g Borsäure und 2,5 ml Glycerin pro Liter Wasser verwendet werden. Die Nickelabscheidung geschieht bei Raumtemperatur für etwa 10 min bei 16 V Wechselspannung. Abschließend wird in Wasser gespült, in kochendem Wasser gesealt und an Luft getrocknet.
  • Der Grundkörper kann aus Aluminium oder Aluminiumlegierungen, die eloxierbar sind, bestehen. Mit der erfindungsgemäßen Beschichtung werden folgende Werte erzielt: Absorptionsvermögen vis = 0,90 ... 0,98 Emissionsvermögen IR = 0,20 ... 0,07 Fig. 2 zeigt eine prinzipielle Darstellung eines Grundkörpers, auf dem eine stark struktuierte metallische Oberfläche erzeugt werden soll. Dabei kann der Grundkörper eine glatte Oberfläche (Fig. 2a), eine aufgerauhte Oberfläche (Fig. 2b), eine zur Verbesserung des Korrosionsschutzes mit einer Beschichtung aus z.B. Zink, Glanznickel oder Hartchrom versehene Oberfläche (Fig. 2c) oder aber eine beschichtete und aufgerauhte Oberfläche (Fig. 2d) aufweisen. Die unvorbehandelten oder vorbehandelten Grundkörper werden als Ausgangsmaterialien für dinachfolgend beschriebenen Verfahren verwendet.
  • Fig. 3 zeigt zwei Beispiele einer erfindungsgemäßen stark struktuierten Oberfläche, wobei die "lateralen Dimensionen" als typischer (mittlerer) Abstand A oder Durchmesser (Dicke) D definiert sind. A und D sollen erfindungegemäß kleiner aI& 2 /um sein.
  • Die Fig. 4 zeigt zwei weitere Formen von spektralselektiven Metallstrukturen, die durch galvanische Abscheidung hergestellt werden können.
  • Die Abscheidung derartiger Strukturen wird durch folgende galvanotechnische Bedingungen begünstigt: - Verarmung des kathodischen Diffusionsfilms, - Verwendung einfacher Salze, keine Komplexe, - niedrige Kationenkonzentrationen, also stark verdünnte Lösungen, - Zugabe von nicht abscheidbaren Kationen, - hohe Stromdichte.
  • Dabei ist vor allem die ..ohe Stromdichte charakteristisch. Es entstehen keine ausgeprägten Nadeln - wie im Fall der Abb. 1 -, sondern kleinere Zäpfchen oder Noppen, deren Dimensionen im Submikronbereich liegen, also im Lichtmikrospkop nicht mehr sichtbar sind. Es hat sich herausgestellt, daß für diese Art von Strukturfilter mehr die Lateraldimension wichtig ist als die Form der Strukturen.
  • Ausführungsbeispiel: Die Abscheidung von erfindungsgemäßen Nickelstrukturen kann erzeugt werden mit einem Nickelbad, bestehend aus 14 g/l NiCl2, 16 g/l NH4Cl und 40 g/l NaCl. Die Schicht wächst bei 4 V, Raumtemperatur in etwa 20 sec. Die Schicht besteht aus kleinen Noppen, deren mittlerer Durchmesser und Abstand etwa 0,1 /um beträgt (Fig. 4a). Die / vis/ £ - Werte der Schicht vis IR betragen typischerweise 0,94/0,16 und können bis zu 0,98/0,10 oder weiter gesteigert werden.
  • Die Herstellung einer spetralselektiven Tarnschicht durch Dispersionsabscheidung wird anhand von Fig. 5 beschrieben.
  • 4 Zunächst wird der zu beschichtende Grundkörpenach bekannten Verfahren mit einer geeigneten Korrosionsschutzschicht 5 überzogen, deren Auswahl sich nach dem Werkstoff des Grundkörpers und dem Metall der aufzubringenden Dispersionsschicht (hier Nickel) richtet. Die spektralselektive Schicht 7 kann anschließend in einem Elektrolyten abgeschieden werden, der aus 15 gjl NiCl2, 15 g/l NH4Cl, 40 g/l NaCl und 20 g/l Al203 (Bezugszeichen 6; Korngröße 40 nm) besteht, wobei die Tempera- 0 tur 68 C beträgt. Die Schicht wächst bei einer Spannung von 2 0,6 V, einer Stromdichte von etwa 6 a/dm2 in ca. 30 min. Die Oberfläche hat nach dieser Behandlung eine bräunliche Farbe.
  • Als besonderes Merkmal de9Erfindung erfolgt anschließend eine mehrstündige Temperaturbehandlung bei 4000 C an normaler Atmosphäre. Dadurch verfestigt sich die Schicht und die Straktuierung auf Grund der eingelagerten keramischen Teilchen tritt noch stärker hervor.
  • Leerseite

Claims (8)

  1. Patentansprüche: 1. Beschichtung wärmeabgebender Ziele zur Vermeidung der Infrarot-Erkennbarkeit, dadurch gekennzeichnet, daß der Zielgegenstand mit einer spektralselektiven Oberfläche mit niedrigem Wärmeemissionsvermögen, hohem diffusen Reflexionsvermögen im fernen IR-Bereich, niedrigem gerichteten Reflexionsvrniögcn im nahen IIi3ercich und einet hohen Absorptionsvermögen im sichtbaren Bereich versehen wird.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Grundkörper mit einer makroskopisch struktuierten Oberfläche mit einer typischen Rauhwelligkeit von 0,1 mm versehen und mit einem niedrig emittierenden Metall beschichtet wird.
  3. 3. Verfahren nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß auf die vorstruktuierte metallisierte Oberfläche eine mikroskopische metallische Struktur aufgebracht wird, deren Elemente eine typische laterale Dimension von 0,5 /um oder weniger besitzen.
  4. 4. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Makrostruktuierung durch mechanische Verfahren wie Prägen, Gießen, Schleifen, Fräsen oder chemische Verfahren wie Beizen, Korngrenzenätzen, kathodisches oder anodisches Rauhbeizen vorgenommen wird.
  5. 5. Verfahren zur Herstellung der Makrostruktuierung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß zunächst mittels eines Anodisierungsverfahrens eine dünne Oxidschicht mit einem gleichmäßig auf der Oberfläche verteiltem Porentaster erzeugt wird und in diesen Poren mittels eines elektrolytischen Verfahrens metallische Stäbchen erzeugt werden.
  6. 6. Verfahren zur Herstellung der Makrostruktuierung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß sie durch galvanische Abscheidung vorzugsweise von Nickel, Kobalt oder Chrom,oder Legierungen, welche die Metalle enthalten, erfolgt.
  7. 7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Abscheidung der hohen Stromdichten mit niedriger Kationenkonzentration des abscheidbaren Metalls, mit Zusätzen von nicht abscheidbaren Kationen, wie Alkali oder Ammoniumionen vorgenommen wird.
  8. 8. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß der zur Metallisierung verwendete Elektrolyt einen dispersen Feststoffanteil enthält, daß die Teilchen aus einem Metall oder einer M<tallverbindung bestehen und ihre Korngröße zwischen 10 und 100 um liegt.
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