DE3021140C2 - Verfahren zur Herstellung von Kühlblöcken für Halbleiterlaser und Halbleiterlaser mit einem nach diesem Verfahren hergestellten Kühlblock - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von Kühlblöcken für Halbleiterlaser und Halbleiterlaser mit einem nach diesem Verfahren hergestellten KühlblockInfo
- Publication number
- DE3021140C2 DE3021140C2 DE3021140A DE3021140A DE3021140C2 DE 3021140 C2 DE3021140 C2 DE 3021140C2 DE 3021140 A DE3021140 A DE 3021140A DE 3021140 A DE3021140 A DE 3021140A DE 3021140 C2 DE3021140 C2 DE 3021140C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- cooling
- laser element
- cooling block
- attached
- semiconductor laser
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/02—Structural details or components not essential to laser action
- H01S5/024—Arrangements for thermal management
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/02—Structural details or components not essential to laser action
- H01S5/022—Mountings; Housings
- H01S5/0235—Method for mounting laser chips
- H01S5/02355—Fixing laser chips on mounts
- H01S5/0237—Fixing laser chips on mounts by soldering
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49787—Obtaining plural composite product pieces from preassembled workpieces
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/4981—Utilizing transitory attached element or associated separate material
- Y10T29/49812—Temporary protective coating, impregnation, or cast layer
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
- Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
Description
eben einer Zerspanungsbearbeitung unterworfen wird,
um eine weitere flache Oberfläche zu erhalten, wobei bei dieser Zerspanungsbearbeitung durch das Vorhandensein
des gehärteten Klebers eine Verformung und Gratbildung der Körper in der Nähe der genannten zu
bildenden Schnittlinie vermieden werden, und daß, gegebenenfalls nach Bearbeitung weiterer Oberflächen,
der Kleber entfernt wird.
Die Anwendung des verhärtbaren Klebers bewirkt, daß bei der spanabhebenden Bearbeitung, wie Fräsen
oder Sägen, keine Möglichkeit zur Verformung, Gratbildunj»
oder zum Ausbröckeln des Materials des Kühlblocks an der Stelle der zu bildenden Schnittlinie auftritt
Auf diese Weise wird eine Kante mit einem äußerst geringen Verrundungsradius gebildet.
Eine günstige weitere Ausgestaltung des Verfahrens nach der Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, daß eine
Anzahl von Metallstäben mit zwei einander gegenüberliegenden parallelen flachen Oberflächen versehen
werden, daß die Metallstäbe mit Hilfe eines härtbaren Klebers entlang ihrer parallelen Oberflächen aneinander
befestigt werden, und daß quer zu den Befestigungsflächen durch eine Zerspanungsbearbeitung zwei weitere
einander gegenüberliegende parallele flache Oberflächen gebildet werden, wonach das Gebilde von Metallstäben
quer zu seiner Längsrichtung durch eine Sägebearbeitung in Teile aufgeteilt wird.
Dabei werden eine Anzahl von Kühlblöcken gleichzeitig hergestellt, wobei jeder Kühlblock eine Anzahl
von Schnittlinien mit einem Verrundungsradius von weniger als 2 μπι aufweist
Eine für eine industrielle Großserienfertigung günstige Ausgestaltung ist dadurch gekennzeichnet, daß vor
der Aufteilung in Teile eine Anzahl der genannten Gebilde von Metallstäben aufeinander gestapelt und mit
Hilfe eines härtbaren Klebers aneinander befestigt werden, wobei alle Stäbe parallel verlaufen, daß der so gebildete
Körper durch eine Sägebearbeitung in Teile aufgeteilt wird, daß die Teile einer quer zu der Sägerichtung
durchführten spanabhebenden Bearbeitung unterworfen werden, und das dann der Kleber gelöst wird.
Auf diese Weise können in einer Massenfertigung Kühlbiöcke z. B. in Form von Kuben mit Kanten hergestellt
werden, die einen Verrundungsradius von weniger als 2 μπι aufweisen.
Als härtbarer Kleber kann vorzugsweise ein Epoxidharz
verwendet werden. Ein Epoxidharz auf Basis von Acryinitrilbutadien-styrol hat sich als besonders geeignet
erwiesen.
Die Erfindung bezieh· sich weiterhin auf einen Halbleiterlaser mit einem Kühlblock, hergestellt nach dem
Verfahren gemäß der Erfindung, wobei ein Halbleiterlaserelement auf dem Kühlblock befestigt und mit Anschlußleitern
versehen ist, über die dem Halbleiterlaserelement Spannung zugeführt wird. Nach der Erfindung
ist dabei das Kühlelement als prismatischer Block ausgebildet, von dem wenigstens eine Kante einen Verrundungsradius
von weniger als 2 μηι aufweist, wobei das
Halbleiterlaserelement mit einer seiner Spiegelflächen parallel zu der Kante in einem Abstand von weniger als
5 μπι von dem Rand des Kühlblocks befestigt ist, wobei
auf der Befestigungsfläche ein Stützblock aus Isoliermaterial angeordnet ist und wobei ein bandförmiger Anschlußleiter
mit einem Ende an dem Halbleiterlaserelement befestigt ist und von dem Stützblock abgestützt
ist.
Einige Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in der Zeichnung dargestellt und werden im folgenden näher
beschrieben. Es zeigt
F i g. 1 eine Anzahl von Stäben, aus denen Kühlblöcke hergestellt werden;
F i g. 2 ein Gebilde miteinander verbundener und gefräster
Stäbe;
F i g. 3 ein Paket von Gebilden nach F i g. 2,
F i g. 4 eine aus dem Paket nach F i g. 3 gesägte Scheibe,
F i g. 5 einen Kühlblock zur Kühlung eines Halbleiterlasers,
und
F i g. 6 einen Kühlblock, der mit einem Lasereiement
und einem streifenförmigen Leiter versehen ist
Fig. 1 zeigt eine Anzahl von Stäben 1, die z. B. aus
einem Kupferdraht gebildet sind, der flachgedrückt ist. Die flachen Seiten der Stäbe 1 sind genau geebnet, was
ζ. B. durch eine Fräsbearbeitung erreicht werden kann. Die Stäbe 1 sind mit ihren flachen Seiten 2 einander
zugewandt und werden mit Hilfe eines Klebers zwischen den flachen Seiten 2 zu einem Ganzen zusammengefügt
Vorzugsweise wird dazu ein Epoxidkleber verwendet Ein Epoxidkleber auf Basis ν -,π Acrylnitrilbutadien-styrol
hat sich ais besonders geeignet erwiesen. Der Kleber wird unter Druck bei einer Temperatur von
z.B. 1500C ausgehärtet Die Dicke der Kleberschicht
wird vorzugsweise klein gehalten und kann, abhängig von de- Glätte der Oberflächen und dem angewandten
Druck, einige μπι betragen.
Die so miteinander verbundenen Stäbe werden einer spanabhebenden Bearbeitung, wie Fräsen, in einer Richtung
senkrecht zu den miteinander verklebten Flächen 2 unterworfen. Dann wird ein Gebilde nach F i g. 2 erhalten.
Wenn beim Fräsen alle Stäbe einzeln behandelt wären, hätte der Radius der zwischen den oberen und
den Seitenflächen bzw. den unteren und Seitenflächen gebildeten Schnittlinien einen verhältnismäßig großen
Wert von mehr als 20 μπι, wobei weiter Materialteilchen
ausgebröckelt wären und Gratbildung aufgetreten wäre. Der gehärtete Kleber zwischen den Stäben bewirkt,
daß das gestapelte Gebilde von Stäben 'όγ der
Fräsebearbeitung ein homogenes Ganzes zu sein scheint, wobei die Fräse keinen Übergang zwischen den
Stäben fühlt Die zu fräsende Oberfläche wird denn auch völlig glatt; Ausbröckeln und Gratbildung an den
Schnittlinien treten nicht auf. Wenn der X leber zwisehen den Stäben nun aufgelöst werden würde, würde
sich herausstellen, daß die gebildeten Schnittlinien sehr scharf sind und einen Verrundungsradius von weniger
als 2 μπι aufweisen. Es hat sich sogar als möglich erwiesen,
einen Verrundungsradius von 0,2 μπι zu erzielen.
Das in F i g. 2 dargestellte Gebilde kann nun in Scheiben gesägt werden, wonach der Kleber gelöst werden kann. Dann würden Blöcke entstehen, von denen eine Anzahl Schnittlinien einen äußerst kleinen Radius aufweisen. Es ist aber zu bevorzugen, eine Anzahl der in F i g. 2 dargestellten Gebilde unter Zwischenfügung eines härtbaren Klebers zu einem Paket nach F i g. 3 zu stapeln. Der Stapel wird unter Druck gebracht, wobei der Kleber bei e'.ner Temperatur von z. B. 1500C ausgehärtet wird.
Das in F i g. 2 dargestellte Gebilde kann nun in Scheiben gesägt werden, wonach der Kleber gelöst werden kann. Dann würden Blöcke entstehen, von denen eine Anzahl Schnittlinien einen äußerst kleinen Radius aufweisen. Es ist aber zu bevorzugen, eine Anzahl der in F i g. 2 dargestellten Gebilde unter Zwischenfügung eines härtbaren Klebers zu einem Paket nach F i g. 3 zu stapeln. Der Stapel wird unter Druck gebracht, wobei der Kleber bei e'.ner Temperatur von z. B. 1500C ausgehärtet wird.
Die gestapelten Stäbe werden anschließend in Scheiben geäägt, wie in F i g, 4 dargestellt ist, Gegebenenfalls
werden die Scheiben nach dem Sägen noch nachgefräst, um eine glatte Oberfläche zu erhalten. Die Scheiben
enthalten eine Anzahl noch miteinander verklebter Blöcke. Die Kanten dieser Blöcke, die durch eine spanabhebende
Bearbeitung miteinander verklebter Körper erhalten sind, weisen alle einen sehr kleinen Verrundungsradius
von weniger als 2 μπι auf. Die Blöcke wei-
sen am Außenrand einige Kanten auf, die nicht durch die spanabhebende Bearbeitung miteinander verleimter
Körper erhalten sind; diese Kanten weisen einen größeren Verrundungsradius auf. Gegebenenfalls können diese äußeren Blöcke markiert werden, wonach der Kleber s
mit Hilfe eines Lösungsmittels entfernt wird. Dann werden Blöcke erhalten, von denen einer in F i g. 5 dargestellt ist Die Blöcke 3 weisen eine besonders glatte
Oberfläche auf; einander gegenüber liegende Flächen 2 sind genau parallel und die Kanten 4 besitzen einen
äußerst kleinen Verrundungsradius.
Ein Beispiel der Anwendung des so gebildeten Kühlblocks ist in F i g. 6 dargestellt; diese Anwendung ist für
optische Faserkommunikation geeignet Die Befestigung des Halbleiterlasers und eines Stromleiters ist der-
art, daß eine günstige Kühlung und eine niedrige elektrische Induktanz auftreten.
Auf dem Kühlblock 3 ist ein Halbleiterlaserelement S angeordnet Die Befestigung kann z. B. mit Hilfe von
Indiumlot erfolgen. Eine Spiegelfläche 6 des Laserelements liegt dabei in einem Abstand von höchstens einigen μΐπ von dem Rand des Kühlkörpers. Dies kann notwendig sein, um eine zweckmäßige optische Kopplung
des Lasers mit einer optischen Faser zu erhalten. Auch kann dies erforderlich sein, um Reflexionen des Laser- 2s
IichIs an der Metalloberfläche des Kühlblocks zu vermeiden. Da die Kanten des Kühlblocks 3 einen Verrundungsradius von weniger als 2 μπι aufweisen, wird das
Laserelement 5 über seine ganze untere Fläche mit dem Kühlkörper verbunden sein, und zwar auch mit demje- jo
nigen Teil der unteren Fläche, der am Rande des Kühlblocks liegt Dadurch wird das Laserelement optimal
gekühlt
Auf dem Kühlblock 3 ist weiter ein keramischer Stützblock 7 z.B. mittels eines Epoxidklebers angebracht. Ein streifenförmiger Leiter 8 erstreckt sich über
dem Kühibiock 3 von der oberen Räche des Lasereiements 5 über den isolierenden Stützblock 7 zu der Seitenkante des Kühlblocks 3. Durch die dargestellte Ausführung tritt nur eine geringe Induktanz auf, was bei
Anwendung des Lasers für optische Kommunikation günstig ist.
Es ist einleuchtend, daß der Kühlblock nicht nur bei Lasern für optische Kommunikation anwendbar ist. Es
wird nahezu stets erwünscht sein, das Laserelement möglichst nahe bei dem Rand eines Kühlelements zu
befestigen, und dazu eignet sich der Kühlblock nach der Erfindung gerade besonders gut. Eine günstige weitere
Anwendung liegt z. B. beim Abtasten von Aufzeichnungsträgern mit optisch auslesbaren Informations- so
strukturen vor. Die Informationsstrukturen können sich 2. B. auf Bild- oder Toninformation beziehen. Bei einer
derartigen Anwendung wird das Laserelement auch mit einer Spiegelfläche in einem Abstand von einigen μπι
vom Rande des Kühlblocks angeordnet Weiter wird auf der Fläche, auf der sich das Laserelement befindet, außerdem eine Regeldiode angeordnet Zum Erhalten einer geeigneten Befestigungsfläche der Diode auf dem
Kühibiock kann es zweckmäßig sein, die Diode kubusförmig zu gestalten.
Claims (6)
1. Verfahren zur Herstellung von Kühlblöcken für Halbleiterlaser, wobei diese Kühl blocke mindestens
zwei Oberflächen aufweisen, die sich gemäß einer geraden Linie schneiden, und wobei der Verrundungsradius zwischen diesen beiden Oberflächen eine geringe Größe aufweist dadurch gekennzeichnet, daß zwei Metallstäbe mit je einer flachen Oberfläche versehen werden, daß diese flachen
Oberflächen mit Hilfe eines härtbaren Klebers aneinander befestigt werden, daß eine Seite der aneinander befestigten Metallstäbe quer zu den zwei aneinander befestigten Oberflächen einer Zerspanungsbearbeitung unterworfen wird, um eine weitere flache Oberfläche zu erhalten, wobei bei dieser
Zerspanungsbearbeitung durch das Vorhandensein des gehärteten Klebers eine Verformung und Gratbildung der Körper in der Nähe der genannten zu
bildenden Schnittlinie vermieden werden, und daß, gegebenenfalls r.sch Bearbeitung weiterer Oberflächen, der Kleber entfernt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß eine Anzahl von Metallstäben mit zwei
einander gegenüberliegenden parallelen flachen Oberflächen versehen werden, daß die Metallstäbe
mit Hilfe eines härtbaren Klebers entlang ihrer parallelen Oberflächen aneinander befestigt werden,
und daß quer zu den Befestigungsflächen durch eine Zerspanungsbearbeitung zwei weitere einander gegenüberliegende parallele flache Oberflächen gebildet werden, wonach das Gebilde von Metallstäben
quer zu seiner Längsrichtung durch eine Sägebearbeitung in Teile aufgeteilt ν ird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß vor der Aufteilung in Teile eine Anzahl
der genannten Gebilde von Metallstäben aufeinander gestapelt und mit Hilfe eines härtbaren Klebers
aneinander befestigt werden, wobei alle Stäbe parallel verlaufen, daß der so gebildete Körper durch eine
Sägebearbeitung in Teile aufgeteilt wird, daß die Teile einer quer zu der Sägerichtung durchgeführten
spanabhängigen Bearbeitung unterworfen werden, und daß dann der Kleber gelöst wird.
4. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß als härtbarer
Kleber ein Epoxidharz verwendet wird.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß als Kleber ein Epoxidharz auf Basis
von Acrylnitrilbutadien-styrol verwendet wird.
6. Halbleiterlaser mit einem Kühlblock hergestellt
nach einem Verfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei ein Halbleiterlaserelement auf
dem Kühlblock befestigt und mit Anschlußleitern versehen ist, über die dem Halbleiterlaserelement
Spannung zugeführt wird, dadurch gekennzeichnet, daß das Kühlelement als prismatischer Block ausgebildet ist, von dem wenigstens eine Kante einen Verrundur.gsradius von weniger als 2 μιτι aufweist, daß
das Halbleiterlaserelement (5) mit einer seiner Spiegelflächen (6) parallel zu der Kante in einem Abstand von weniger als 5 μπι von dem Rand des Kühlblocks (3) befestigt ist, daß auf der Befestigungsfläche ein Stützblock (7) aus Isoliermaterial angeordnet
ist, und daß ein bandförmiger Anschlußleiter (8) mit einem Ende an dem Halbleiterlaserelement befestigt
ist und von dem Stützblock abgestützt ist.
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung von Kühlblöcken für Halbleiterlaser, wobei diese Kühlblöcke mindestens zwei Oberflächen aufweisen,
die sich gemäß einer geraden Linie schneiden, und wos bei der Verrundungsradius zwischen diesen zwei Oberflächen eine geringe Größe besitzt.
Die Erfindung bezieht sich ferner auf Halbleiterlaser mit einem Kühlblock, hergestellt nach diesem Verfahren, wobei ein Halbleitsrlaserelement auf dew Kühl-
block befestigt und mit Anschlagleitern versehen ist, über die dem Halbleiterlaserelement Spannung zugeführt wird.
Es ist bekannt, daß Halbleiterlaserelemente sehr gut
gekühlt werden müssen, um eine genügend lange Lets bensdauer zu erzielen. Dazu muß das Laserelement
über seine ganze Länge über einen niedrigen thermischen Widerstand an einem Kühlblock befestigt werden.
Bei vielen Anwendungen von Halbleiterlasern ist es
wünschenswert, daß das Laserelement sehr nahe dem
Rand des Kühlbiockes angeordnet wird, d. h. daß ein
Laserspiegel höchstens einige μπι von einer Seitenfläche des Kühlblocks entfernt ist. Dies ist z. B. notwendig,
um eine zweckmäßige optische Kopplung mit einer Ein
modenfaser zur Anwendung bei optischer Kommunika
tion zu erhalten. Auch zur Vermeidung von Reflexionen an der Oberfläche ass Kühlblocks ist diese Anordnung
erforderlich.
Bei sehr genauen Bearbeitungstechniken, wie Fun
kenzerspanung, wird der Radius der Kante eines z. B.
kubusförmigen Kühlblocks noch immer eine Größe von 20 μπι oder mehr besitzen. Bei mechanischer Zerspanungsbearbeitung ist der Radius größer, während weiter die Kante etwas abbröckeln und Gratbildung auftre-
ten kann.
Wenn bei einem Kühlblock, bei dem der Verrundungsradius der Kante 20 μπι oder größer ist, ein Spiegel des Laserelements in einem Abstand von einigen μπι
von der Seitenwand entfernt ist, wir,-* <ün Teil des Laser
elements keinen oder einen schlechten thermischen
Kontakt mit dem Kühlblock bilden, wodurch die Lebensdauer beeinträchtigt wird.
In IBM Technical Disclosure Bulletin, 17 (1974), Nr. 1,
Juni, Seite 282) wird ein Verfahren der eingangs genann
ten Art beschrieben, bei dem ein Kühlblock für ein
Halbleiterlaserelement mittels Ätzen geformt wird. Obwohl hierbei eine Kante mit einem geringen Verrundungsradius gebildet werden kann, tritt der Nachteil auf,
daß diese Herstellungsweise aufwendig und zeitraubend
5u ist.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, das eingangs genannte Verfahren zur Herstellung von Kühlblöcken für Halbleiterlaserelemente derart zu verbessern, daß wenigstens die Schnittlinie, die durch die Trag-
fläche für das Laserelement und die Seitenfläche gebildet wird, in deren Nähe eine der Spiegelflächen des
Laserelements angeordnet werden wird, einen äußerst kleinen Verrundungsradius, vorzugsweise kleiner als
2 μιτι, aufweist, wobei die Kühlblöcke in einer für eine
Großserienfertigung geeigneten Weise hergestellt werden und die Schnittlinie mittels einer Zerspanungsbearbeitung, wie z. B. Sägen erhalten wird.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst,
daß zwei Metallstäbe mit je einer flachen Oberfläche
versehen werden, daß diese flachen Oberflächen mit
Hilfe eines härtbaren Klebers aneinander befestigt werden, daß eine Seite der aneinander befestigten Metallstäbe quer zu den zwei aneinander befestigten Oberflä-
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NLAANVRAGE7904550,A NL180365C (nl) | 1979-06-11 | 1979-06-11 | Werkwijze voor het vervaardigen van koelblokken voor halfgeleiderlasers, alsmede halfgeleiderlaser die een volgens deze werkwijze vervaardigd koelblok bevat. |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE3021140A1 DE3021140A1 (de) | 1981-01-08 |
| DE3021140C2 true DE3021140C2 (de) | 1985-01-17 |
Family
ID=19833324
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE3021140A Expired DE3021140C2 (de) | 1979-06-11 | 1980-06-04 | Verfahren zur Herstellung von Kühlblöcken für Halbleiterlaser und Halbleiterlaser mit einem nach diesem Verfahren hergestellten Kühlblock |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4348795A (de) |
| JP (2) | JPS562695A (de) |
| CA (1) | CA1143463A (de) |
| DE (1) | DE3021140C2 (de) |
| FR (1) | FR2458922A1 (de) |
| GB (1) | GB2050896B (de) |
| IT (1) | IT1131523B (de) |
| NL (1) | NL180365C (de) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0612453B2 (ja) * | 1982-05-17 | 1994-02-16 | 積水フアインケミカル株式会社 | 光硬化性樹脂組成物 |
| FR2531819A1 (fr) * | 1982-08-12 | 1984-02-17 | Demeure Loic | Embase pour laser a semi-conducteur et son procede de fabrication |
| US4550333A (en) * | 1983-09-13 | 1985-10-29 | Xerox Corporation | Light emitting semiconductor mount |
| JPH05173046A (ja) * | 1991-12-20 | 1993-07-13 | Sony Corp | 光導波路装置 |
| US5324387A (en) * | 1993-05-07 | 1994-06-28 | Xerox Corporation | Method of fabricating asymmetric closely-spaced multiple diode lasers |
| JP2737625B2 (ja) * | 1993-12-27 | 1998-04-08 | 日本電気株式会社 | 半導体レーザ装置 |
| US20140143996A1 (en) * | 2012-11-28 | 2014-05-29 | Venkata Adiseshaiah Bhagavatula | Methods of forming gradient index (grin) lens chips for optical connections and related fiber optic connectors |
| US9529155B2 (en) | 2012-11-28 | 2016-12-27 | Corning Optical Communications LLC | Gradient index (GRIN) lens chips and associated small form factor optical arrays for optical connections, related fiber optic connectors |
| CN109332775B (zh) * | 2018-11-27 | 2020-05-05 | 株洲钻石切削刀具股份有限公司 | 一种内冷三面刃铣刀 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2762954A (en) * | 1950-09-09 | 1956-09-11 | Sylvania Electric Prod | Method for assembling transistors |
| US3165824A (en) * | 1962-05-21 | 1965-01-19 | Leach & Garner Co | Method for producing jewelers' stock |
| NL301162A (de) * | 1962-12-03 | |||
| US3613228A (en) * | 1969-07-02 | 1971-10-19 | Ibm | Manufacture of multielement magnetic head assemblies |
| US3685110A (en) * | 1970-08-31 | 1972-08-22 | George J J Randolph Jr | Manufacture of piezoresistive bars |
| GB1500156A (en) * | 1974-09-06 | 1978-02-08 | Rca Corp | Semiconductor injection laser |
| GB1483849A (en) * | 1974-09-21 | 1977-08-24 | Nippon Electric Co | Semiconductor laser device equipped with a silicon heat sink |
| US4268946A (en) * | 1977-06-08 | 1981-05-26 | Owens-Corning Fiberglas Corporation | Method for finishing a plate |
-
1979
- 1979-06-11 NL NLAANVRAGE7904550,A patent/NL180365C/xx not_active IP Right Cessation
-
1980
- 1980-06-04 DE DE3021140A patent/DE3021140C2/de not_active Expired
- 1980-06-06 US US06/157,139 patent/US4348795A/en not_active Expired - Lifetime
- 1980-06-06 IT IT22639/80A patent/IT1131523B/it active
- 1980-06-09 JP JP7759280A patent/JPS562695A/ja active Granted
- 1980-06-10 GB GB8018986A patent/GB2050896B/en not_active Expired
- 1980-06-11 CA CA000353806A patent/CA1143463A/en not_active Expired
- 1980-06-11 FR FR8012987A patent/FR2458922A1/fr active Granted
-
1985
- 1985-04-22 JP JP60084668A patent/JPS611082A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NL7904550A (nl) | 1980-12-15 |
| IT1131523B (it) | 1986-06-25 |
| FR2458922A1 (fr) | 1981-01-02 |
| JPS6237896B2 (de) | 1987-08-14 |
| JPS562695A (en) | 1981-01-12 |
| DE3021140A1 (de) | 1981-01-08 |
| GB2050896B (en) | 1983-01-19 |
| FR2458922B1 (de) | 1981-12-04 |
| CA1143463A (en) | 1983-03-22 |
| GB2050896A (en) | 1981-01-14 |
| US4348795A (en) | 1982-09-14 |
| JPS611082A (ja) | 1986-01-07 |
| IT8022639A0 (it) | 1980-06-06 |
| NL180365B (nl) | 1986-09-01 |
| NL180365C (nl) | 1987-02-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE4412278A1 (de) | Starre und flexible Bereiche aufweisende Leiterplatte | |
| DE69311478T2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines blockförmigen Trägerkörpers für eine Halbleiterkomponente | |
| DE3138296C2 (de) | ||
| DE60317156T2 (de) | Aktuator und dessen Herstellungsverfahren | |
| DE2449359A1 (de) | Koppelvorrichtung fuer optische fasern | |
| DE3021140C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Kühlblöcken für Halbleiterlaser und Halbleiterlaser mit einem nach diesem Verfahren hergestellten Kühlblock | |
| DE4429080C1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Prismen, insbesondere Mikroprismen | |
| DE69901132T2 (de) | Piezoelektrischer Tintenstrahlaufzeichnungskopf sowie Verfahren zur dessen Herstellung | |
| DE2231191C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Magnetköpfen aus Einkristall-Ferritmaterial | |
| DE2642643C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Magnetköpfen geringer Spurbreite | |
| DE2851679A1 (de) | Verzweigerelement und verfahren zu seiner herstellung | |
| DE3343034C2 (de) | Gehäuse für Halbleitervorrichtungen | |
| DE2328485C2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Polstückeinheit für einen Magnetkopf | |
| DE4435914A1 (de) | Piezoelektrischer Antrieb für einen Tintenstrahldruckkopf und Verfahren zu dessen Herstellung | |
| DE2318322C3 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Magnetkopfanordnung mit zwei in Spurrichtung hintereinander liegenden Magnetkopfeinheiten | |
| DE69318327T2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Magnetkopfkernes mit Magnetspalt und schmaller Spur | |
| DE3019420A1 (de) | Verfahren zum herstellen einer ultraschallwandleranordnung | |
| DE2130865C3 (de) | ||
| DE3602654C2 (de) | Verfahren zur Bildung einer Verbund-Magnetkopf-Stuktur und Verbund-Magnetkopf-Struktur | |
| DE2636416A1 (de) | Verfahren zum herstellen von luftlagerfuehrungen fuer magnetkoepfe | |
| DE19748157C2 (de) | Verfahren zum Herstellen eines verbundartigen Informationsträgers | |
| DE69421882T2 (de) | Magnetkopf und Herstellungsverfahren | |
| DE112014003859B4 (de) | Laserbauelementeverbund und Verfahren zum Herstellen eines Laserbauelements | |
| DE1146540B (de) | Mehrspur-Magnetkopf | |
| DE60013530T2 (de) | Optische Komponenten und ihre Herstellung |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
| 8128 | New person/name/address of the agent |
Representative=s name: NEHMZOW-DAVID, F., PAT.-ASS., 2000 HAMBURG |
|
| D2 | Grant after examination | ||
| 8364 | No opposition during term of opposition | ||
| 8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: PHILIPS ELECTRONICS N.V., EINDHOVEN, NL |
|
| 8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |