DE3012500A1 - Retroreflektor - Google Patents

Retroreflektor

Info

Publication number
DE3012500A1
DE3012500A1 DE19803012500 DE3012500A DE3012500A1 DE 3012500 A1 DE3012500 A1 DE 3012500A1 DE 19803012500 DE19803012500 DE 19803012500 DE 3012500 A DE3012500 A DE 3012500A DE 3012500 A1 DE3012500 A1 DE 3012500A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
retroreflector
plane
waves
wave
hologram
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19803012500
Other languages
English (en)
Other versions
DE3012500C2 (de
Inventor
Dieter Dipl.-Phys. Dr. 8033 Planegg Röß
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Erwin Sick GmbH Optik Elektronik
Original Assignee
Erwin Sick GmbH Optik Elektronik
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Erwin Sick GmbH Optik Elektronik filed Critical Erwin Sick GmbH Optik Elektronik
Priority to DE19803012500 priority Critical patent/DE3012500C2/de
Publication of DE3012500A1 publication Critical patent/DE3012500A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE3012500C2 publication Critical patent/DE3012500C2/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/32Holograms used as optical elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/12Reflex reflectors

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Holo Graphy (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)

Description

  • Die Erfindung betrifft einen platten- bzw. blattförmigen
  • Retroreflektor mit wenigstens einem retroreflektierenden Elerent, das wenigstens zwei und vorzugsweise drei reflektierende Flächen aufweist, welche unter solchen Winkeln zueinander angeordnet sind, daß ein auf eine der flächen auftreffenden Lichtstrahl gegebenenfalls nach Zwischerenreflexion an der zweiten Fläche von der anderen Fläche entre1en der Einfallsrichtung zurückgeworfen wird.
  • Bekannte Retroreflektoren weisen retroreflektierende Elemente in Form von Tripelspiegeln (DE-OS 23 01 868), Domlinsen oder Glasperlen (Scotch-Lite) auf. Danach bestehen also die retroreflektierenden Elemente bekannter Retroreflektoren aus einer Kombination von ebenen Spiegeln oder von Linsen -it gekrümmten Spiegeln. Auch ein 900-Prisma weist in einer Ebene retroreflektierende Eigenschaften auf, Nachteilig an den bekannten Retroreflektoren ist, daß der einfallende Lichtstrahl parallelversetzt zurückgeworfen wird, daß an den Begrenzungslinien gemeinsamer Elemente tote Zonen entstehen und daß durch die räumliche Tiefe der Elemente das einfallende Bündel bei Neigung vignettiert. Eine hohe Präzision läßt sich bei den bekannten Retroreflektoren nur mit geschliffenen und polierten Glaselementen erreichen. Insbesondere dieses Erfordernis setzt dem Einsatz der bekannten Retroreflektoren aus Kostengründen häufig Grenzen. Beim Einsatz von Retroreflektoren in Lichtvorhängen und Lichtschranken nissen daher aus wirtschaftlichen Gründen gepreßte Elemente aus Kunststoff verwendet werden. Deren Genauigkeit ist aber so gering, daß die erreichXbare Meßentfernung zwischen dem den Retroreflektor beaufschlagenden optischen Gerät und dem Retroreflektor um einen Faktor 10 und mehr unter der Meßentfernung liegt, welche sich mit hochwertigen Glas-Retroreflektoren erreichen läßt. Letztere sind aber in der Herstellung entsprechend aufwendig.
  • Neben den relativ hohen Kosten für hochwertige Glas-Retroreflektoren ist ein wesentlicher Nachteil inre räumliche Tiefe, welche umständliche, voluminöse Malterungen erforderlich macht.
  • Das ZLel der Erfindung besteht somit darin, einen Retroreflektor der eingangs genannten Gattung zu. schaffen, welcher auch in Massenproduktion auf sehr wirtschaftliche Weise herstellbar ist, gleichwohl aber eine hohe Genauigkeit aufweist und relativ dünn ausgebildet sein l;ann.
  • Zur Lösung dieser Aufgabe schlägt die Erfindung vor, daß die R(-flexionsflächendurch unter den besagten Winkeln angeordnete Beugungsgitterflächen von räumlich üterlagerten Beugun::sgittern gebildet sind, wobei die Gitterkonstanten der verwendeten monochromatischen Strahlung angepaßt sind. Die Gitter sollen dabei insbesondere Sinusgitter oder die höheren Beugungsordnungen sollen evanescent sein. Besonders vorteilhaft ist es, wenn die Beugungsgitter durch ein Volumenhologramm gebildet sind und letzteres ein Phasenhologramm ist.
  • Der Erfindung liegt die Erkenntnis zugrunde, daß die für einen Retroreflektor notwendige Kombination mehrerer aufeinanderfolgender Lichtablenkungen an ebenen oder gekrümmten Flächen durch Beugung an Gittern verwirklicht werden kann, wenn die auf den Retroreflektor auftreffende Strahlung im wesentlichen monochromatisch ist. Dies ist heute bei allen industriellen Anlagen, in denen mit fletroreflektoren aearbeitet wird, und bei Lichtschranken im allgemeinen der Fall, denn als tichtquellen werden hier Laser oder lichtemittierende Dioden (LED) verwendet.
  • Ein besonderer Vorteil der Verwendung von räumlich ineinandergeschachtelten Beuguncsgittern besteht darin, daß die Ablenkung an den einzelnen Gitterebenen nicht notwendig unter 900 erfolgen muß, weil an Beugungsgitterebenen nicht unbedingt eine Reflexion unter spiegelnden Reflexionswinkeln erfolgen nuß, obwohl dies bevorzugt ist. Tm prSçtischen Fall wählt man also eine symmetrische Anordnung der Beugungsgitterebenen unter 900 mit gleicher Gitterkonstante für beide Gittar. Ein solches Raumgitter kann man sich vorstellen als eine Summe von ineinander verschachtelten 90°-»rnsnien, von denen jedes nur Abmessungen im Bereich weniger optischer Wellenlägen hat. Das hat den Vorteil, daß der so realisierte Retroreflektor eine verschwindend geringe Tietenab.messung hat, und zwar im Fall von dichromatisierter Gelatine als Hologram-Material von nur beispielsweise 5 bis 20µm. Weiter weist ein erfindungsgemäßer Retroreflektor keine toten Zonen auf.
  • Der Seitenversatz der reflektierten Strahlen ist so minimal, daß er nicht meßbar ist.
  • Besonders vorteilhaft ist es, daß die Raumgitter so zur Oberfläche des sie tragenden Trägers angeordnet werden können, daß im Arbeitsbereich die Reflexion der Oberfläche nicht im R£'troreflexionsbereich liegt.
  • Die Verwendung von Sinusgittern als Beusungsgitter ist deswegen vorteilhaft, weil dann störende Nebenmaxima der Beugung vermieden werden. Man kann die Nebenmaxima aber auch dadurch unterdrücken, daß die Gitterkonstante so gewählt wird, daß höhere Beugungsordnungen evanescent werden. Dies bedeutet, daß die entsprechenden höheren Beugungsanordnungen durch geeignet große Ablenkwinkel zum Abklingen gebracht werden. Die Sinusform der Schwärzung bzw. des Brechungsindex ist bei Hologrammen im allgemeinen gegeben.
  • Sofern nach einer bevorzugten Ausführungsform die Beu,fungsgitterflächen eben sind, wird ein klassischer Retroreflektor erzielt.
  • Es ist jedoch auch möglich, eine dritte Eeu-ungsritierebene im wesentlichen parallel zur Ebene des Retroreflektors vorzusehen, wodurch dieser zusätzlich die Eigenschaften eines normalen Spiegels erhält. Diese Doppelfunktion des Retroreflektors kann in manchen Anwendungen von Vorteil sein.
  • Weiter ist es aufgrund der erfindungsgemäßen Ausbildung ohne weiteres möglich, daß wenigstens eines und vorzugsweise alle Beugungsgitterflächen derart gekrümmt sind, daß eine Fokussierungawirkung erzielt wird. Hier kann m.an also ebenfalls gegenüber klassischen Retroreflektoren eine weitere Funktion erzielen, die bei den bekannten Retroreflektoren nicht verwirklicht werden kann.
  • Die Herstellung eines nur in einer Ebene wirksamen Retroreflektors gemäß der Erfindung erfolgt zweckmäßigerweise dadurch, daß in einem photoemPfindlichen Blatt- oder Plattenmaterial wenigstens eine annähernd senkrecht auftreffende ebene Welle mit einer optischen Frequenz mit wenigstens einer im wesentlichen senkrecht dazu verlaufenden ebenen Welle der gleichen optischen Frequenz überlagert wird, und daß wenigstens eine weitere Überlagerung einer der beiden Wellen mit einer dritten, zu ihr gegenläufigen Welle gleicher optischer Frequenz erfolgt, wobei die optische Frequenz bei der zweiten tberlagerung anders als bei der ersten Überlagerung sein kann.
  • Bin einem Tripelspiegel entsprechender, nicht nur in einer Ebene wirksamer Retroreflektor kann erfindungsgemaß vorzugsweise dadurch hergestellt werden, daß in einem photoempfind lichten Blatt- oder Plattenmaterial wenigstens eine annähernd senkrecht auftreffende ebene Welle mit optischer Frequenz rnit drei im wesentlichen senkrecht dazu verlaufenden ebenen Wellen der gleichen optischen Frequenz überlagert wird, welche in der senkrecht zu der ersten zelle stehenden Ebene jeweils unter einem Winkel von vorzugsweise 120° zuelnander angeordnet sind, wobei die Frequenz der drei in einer Ebene legenden Wellen unterschiedlich sein kann.
  • Resonders vorteilhaft ist es, wenn die Überlagerung durch inkohärente Addition von zwei bzw. drei Zweistranhlinterferenen erfolgt. Bei kohärenter Addition encteht nämlich :usätzlich ein drittes Raumgitter,welches die Funktion eines normalen reflektierenden Spiegels besitzt. In besonderen Anwendungsfällen kann es von Nutzen sein, eine Vorzursrichtung in dieser Weise optisch ablesbar zu markieren.
  • Um dem Retroreflektor auch noch fokussierende Eigenschaften zu verleihen, brauchen bei seiner Herstellung nur entsprechend Kugel- oder parabolische Wellen, bzw. bei einem nur in einer Ebene wirksamen Retroreflektor Zylinderwellen verwendet zu werden. Da in diesem Fall ein bestimmter Fokusabstand einrehalten werden muß, ist es im allgemeinen nicht möglich, alle Funktionen in einer Ebene zu überlagern; vielr.ehr muß man die Anordnung aus zwei Hologrammen oder aus einer Hologram und einem Spiegel aufbauen.
  • Ein Hologramm wird bekanntlich in einem photoemfindlichen Blattmaterial dadurch hergestellt, daß eine referenzwelle rr.it einer zu ihr kohärenten Objektwelle unter einem bestimmten winkel zum Schnitt gebracht wird. Die an der Schnittstelle auftretenden Interferenzen werden in dem an dieser Stelle angeordneten photoempfindlichen Material als Hologramm aufgezeichnet. Bei Beleuchtung des Hologramms mit der Referenzwelle wird die Objektwelle reproduziert (DE-OS 80 O4 312 und 80 04 313).
  • Der G.undgedanke der vorliegenden Erfindung besteht also darin, daß zur Herstellung eines nur in einer Ebene wirksamen Retroreflektors in einem photoempfindlichen Material zwei Hologramme Über lagert werden, derart, daß beim Gebrauch die Objektwelle des ersten Hologramms gleichzeitig die Referenzwelle für das zweite Hologramm ist. Die erste Referenzwelle und die zweite Objektwelle sind in der für einen Retroreflektor erforderlichen Weise entegengerichtet. Bei der Herstellung eines erfindungsgernäßen überlagerten Hologramms muß also nur darauf geachtet werden, daß die erste Referenzwelle und die zweite Objektwelle einander entgegengerichtet sind. Der Verlauf der ersten Objektwelle bzw. zweiten Referenzwelle innerhalb des Hologramms ist dagegen in weiten Grenzen unkritisch, da sich diese Vorgänge im Inneren des Hologrammaterials abspielen.
  • Bei einem für innerhalb eines Raumwinkels auftreffende Strahlen-geeigneten, also räumlich wirksamen Retroreflektor durch Überlagerung dreier Hologramme entspricht beim Gebrauch die erste Objektwelle der zweiten Referenzwelle und die zweite Objektwelle der dritten Referenzwelle, welche alle innerhalb des transparenten Hologrammaterials verlaufen. Die dritte Objektwelle ist dann der ersten Referenzwelle entgegengerichtet.
  • Jedes Paar Referenzwelle-Objektwelle kann bei der Aufnahme allerdings eine unterschiedliche optische Frequenz haben, was sich jedoch nur auf die Größe des Ablenkwinkels der schließlich beim Gebrauch verwendeten monochromatischen Strahlung auswirkt.
  • Ein wesentlicher Gedanke der Erfindung ist darin zu sehen, daß die holographisch hergestellten Mehrfachraumgitter eine retroreflektierende Eigenschaft auch dann aufweisen, wenn die Rekonstruktion außerhalb der exakten geometrischen Anordnung erfolgt, d.h., wenn der Referenzstrahl bei der Rekonstruktion gegenüber dem Referenzstrahl bei der Aufnahme eine Winkeländerun; aufweisen darf und dennoch Retroreflexion erfolgt. Es ist eine wesentliche Erkenntnis, daß durch geeignete Dickenwahl der @eugungsgitter eine retroreflektierende Ablenkung in der erfindungsgemäßen Anordnung stattfindet. Der Toleranzbereich der Winkelabweichung und damit der praktische Einsatzbereich des Retroreflektors wird durch den Toleranzbereich der Bragg-Bedingung beim Raumgitter vorgegeben. Er ist damit in weiten Grenzen willkürlich einstellbar. Um einen großen Winkelbereich zu erhalten, ist ds vorteilhaft, das Hologramm dünn, d.h. in einer Dicke von wenigen Lichtwellenlängen zu gestalten. Damit der Rekonstruktionswirkungsgrad dann noch hoch genug ist, muß das Material eine hohe Brechungsindexmodulation aufweisen (bevorzugt ist z.B.
  • dichromatisierte Gelatine). Ein schmaler Toleranzbereich läßt sich mit einem sehr dicken Hologramm von beispielsweise 30 bis 50 µm Dicke bei geringer Brechungsindexmodulation erreichen.
  • In bekannter Weise kann die zunächst monochromatische Eigenschaft breitbandig gestaltet werden, wenn Raumgitter bei mehreren Lichtwellenlängen verwendet werden (Weißlichthologramm). Dies gelingt z.B. dadurch, daß bei der Aufnahme ein Laser mit mehreren Wellenlängen verwendet wird.
  • Da je nach der Dicke des Hologramms nur Winkel innerhalb mehr oder weniger großer Winkelbereiche beim Auftreffen auf dem erfindungsgemäßen Retroreflektor in sich selbst zurückreflektiert werden, kann in vorteilhafter Weise durch entsprechende Begrenzung dieses Winkelbereiches mittels eines entsprechend dick ausgebildeten Hologramms auch eine gewisse Winkelselektion verwirklicht werden, etwa dergestalt, daß nur innerhalb eines bestimmten Winkelbereiches auf den Retroreflektor auftreffende Strahlen in sich selbst zurückreflektiert werden, außerhalb dieses Winkelbereiches liegende Strahlen dagegen nicht. Hierdurch könnte z.B. die Winkelauflösung von Lichtgittern verbessert werden, indem die einzelnen optischen Elemente des Lichtgitters hinsichtlich des von ihnen erfaßten Winkelbereiches begrenzt werden können.
  • Die Herstellung der erfindungsgemäßen Retroreflektoren braucht nicht dadurch zu erfolgen, daß jeweils ein photoempfindliches Material in den überlagerten Originaistrahlengang. gebracht wird. Vielmehr können Teilwel-len auf Mutterhologrammen festgehalten werden und von diesen in einem Kopierprozeß in an sich bekannter Weise unter stark vereinfachten Bedingungen übertragen werden, so daß der erfindungsgemäße Retroreflektor als preiswertes Massenerzeugnis herstellbar ist.
  • Die Verwendung eines Hologramms als Retroreflektor hat weiter den wesentlichen Vorteil, daß eine geringfügige Abweichung von der exakten Ausrichtung der Teilstrahlen in vorgegebener Weise erreicht. werden kann, so daß die Rïckstrahlung von der genauen Retroreflexion um vorbestimmte Winkelwerte abweichen kann.
  • Besonders vorteilhaft wird als Hologrammaterial dichromatisierte Gelatine verwendet. Die Gelatineschicht soll beidseitig durch eine dielektrische Schicht, vorzugsweise Glas oder Plastikmaterial geschützt sein.
  • Die Erfindung wird im folgenden beispielsweise anhand der Zeichnung beschrieben; in dieser zeigt Figur 1. einen schematischen Querschnitt durch einen erfindungsgemäßen Retroreflektor zur Veranschaulichung von dessen Funktion, Figur 2 eine schematische Wiedergabe des bevorzugten Herstellungsverfahrens für ein erfindungsgemäßes Hologramm und Figur 3 eine schematische Draufsicht des Gegenstandes der Fig. 2 bei Beaufschlagung mit drei unter 120° angeordneten Wellen.
  • Nach Fig. 1 sind zwei Raumgitter mit den Gitterebenen 11, 12 unter einem Winkel von 900 zueinander und unter einem Winkel von 450 zum senkrecht auf das Hologramm 14 auftreffenden Eingangs lichtstrahl 15 angeordnet. Der einfallende Lichtstrahl 15 erfährt an jeder der Gitterebenen 11, 12 eine Teilreflexion. Die Addition mehrerer Teilreflexionen führt zu Ausgangsstrahlen 16, 16', 16", welche zum Eingangsstrahl 15 exakt gegenläufig sind. Nachdem die seitlichen Versetzungen der Ausgangsstrahlen 16, 16', 16" sich in der Größenordnung von Lichtwellenlängen bewegen, liegt also praktisch ein einziger Ausgangsstrahl vor, der durch die Zusammenfassung der Strahlen 16, 16', 16" gebildet ist. Da die im Bereich der Lichtwellenlänge vorkommenden seitlichen Versetzungen symmetrisch zu beiden Seiten des Einfallstrahls 15 vorliegen, liegt also im Mittel überhaupt keine Versetzung zwischen Eingangs- und Ausgangsstrahl vor.
  • Da der Wirkungsgrad der Reflexion an einer einzelnen Gitterebene z.B. für dichromatisierte Gelatine über 30 % betragen kann, wird bereits bei einer Tiefe von wenigen Wellenlängen eine nahezu 100prozentige Umwandlung erreicht. Der Wirkungsgrad des erfindungsgemäßen Retroreflektors kann also außerordentlich hoch getrieben werden.
  • An sich entstehen bei der Rekonstruktion innerhalb des Hologramms 14 auch Wellen, die in Richtung des Ursprungsstrahls 15 oder unter 900 dazu verlaufen und die theoretisch verlorengehen könnten. Wenn man aber erfindungsgemäß das Hologramm so ausführt, daß es annähernd senkrecht zum einfallenden Lichtstrahl liegt, so ist der Lichtweg in der Ebene des Hologramms bis zum Verlassen desselben' für einen um 900 abgelenkten Lichtstrahl wesentlich größer als der eg in entgegengesetzter Richtung, so daß alle zunächst unter 909 abgelenkten Strahlen wiederum in den gegen läufigen Strahl umgewandelt werden. Entsprechendes geschieht mit solchen Strahlen, die parallel zum einfallenden Lichtstrahl 15 rekonstruiert werden, wenn das Hologramm relativ dick ist.
  • Mit anderen Worten wird der einfallende Lichtstrahl 15 beim Eintreten in das Hologramm 14 zwat in allen vier senkrecht aufeinanderstehenden Richtungen reproduziert, wobei jedoch eine Richtung, nämlich die gegenläufige (Teilstrahlen 16, 16', 16") bevorzugt ist, indem diese Wellen schon nach zwei oder nur ganz wenigen Reflexionen wieder aus der Oberfläche des blattförmigen Hologrammaterials 14 austreten Nach Fig. 2 ist ein das spätere Hologramm 14 bildendes photoempfindliches, durchsichtiges Blatt- oder Plattenmaterial unter einem geringfügigen Winkel von beispielsweise 100 zur Ebene der Wellen einer .Eingangs- oder Referenzwelle 1-1 angeordnet. Senkrecht zur ebenen Welle 1-1 wird eine dazu kohärente Welle 2-2 gleicher Frequenz in das Photomaterial eingestrahlt. Das sich aus der Überlagerung der Wellen 1-1 und 2-2 ergebende Interferenzmuster wird im photoempfindlichen Material latent aufgezeichnet.
  • Aufgrund der in Fig. 2 dargestellten Anordnung wird also in dem Photomaterial 14 latent ein Interferenzfeld aufgezeichnet, das aus Ebenen besteht, die im wesentlichen unter einem Winkel von 450 zur ebenen Eingangswelle 1-1 stehen.
  • In einer zweiten Aufnahme wird dann der ebenen Welle 1-1 eine dazu kohärente ebene Lichtwelle 3-3 überlagert, welche gegenläufig zur ebenen Welle 2-2 ist. Die hierbei entstehenden Interferenzebenen 11 sind unter einem Winkel von 900 zu den erstgenannten Ebenen 12 angeordnet. Bei der zweiten Aufnahme kann auch zweckmäßig eine andere Frequenz benutzt werden, was unter Berücksichtigung der beim späteren Gebrauch verwendeten monochomatischen Strahlung jedoch bei der Winkelwahl zu berücksichtigen ist.
  • Wahlweise könnte man auch die ebenen Lichtwellen 1-1 mit 2-2 und anschließend 2-2 mit einer zur ebenen Welle 1-1 gegenläufigen Welle 4-4 überlagern.
  • Wenn die beiden Aufnahflen nacheinander oder gleichzeitig, aber mit etwas unterschiedlichen Frequenzen erfolgen, spricht man von inkohärenter Addition.
  • Bei gleichzeitiger Aufnahme der Interferenzen der ebenen Wellen 1-1, 2-2 und 3-3 gleicher Frequenz entstehen zusätzliche Interferenzebenen senkrecht zu der ebenen Welle 2-2.Bei gleichzeitiger Aufnahme der Überlagerung der ebenen Wellen 1-1, 2-2 und 4-4entstehen zusätzliche Interferenzebenen senkrecht zur Welle 1-1. In beiden Fällen enthält dann das spätere Hologramm 14 zusätzlich zur 9O0-Prismenfunktion eine Spiegelfunktion. Man spricht hier von einer kohärenten Addition.
  • Während die Fig. 1 und 2 aus Gründen der einfacheren Darstellung nur die Herstellung eines in einer Ebene wirksamen Retroreflektors zeigen, ist nach dem Vorangesagten klar, daß zur Herstellung eines räumlich wirksamen Retroreflektors nach Art eines Tripelspiegels drei Teilinterferenzen aus je zwei Teilwellen zu überlagern sind, wobei drei der Teilwellen im Winkel von 1200 zueinander stehen.
  • Die ebene Eingangswelle 1-1 wäre also mit senkrecht dazu verlaufenden ebenen Wellen 2-2 oder 3-3 (Fig. 2) zu überlagern, wobei nach Fig. 3 in der zur Welle 1-1 senkrechten Ebene drei Teiwellen 2-2, 2'-2' und 2''-2'' unter Winkeln von jeweils 120° zueinander vorzusehen wären. Die Aufnahmen mit den Wellenpaaren 1-1/2-2, 1-1/2-2t bzw. t-1/2"-2" können wieder kohärent sein, werden vorzugsweise jedoch inkohärent durchgeführt, um einen reinen Retroreflektor zu erzielen.
  • Bei der Herstellung von retroreflektierenden Elementen mit fokussierenden Flächen sind bei der Herstellung der Hologramme Kugelwellen oder parabolische Wellen zu verwenden. Da in diesem Fall ein bestimmter Fokusabstand eingehalten werden muß, ist es im allgemeinen nicht möglich, alle Funktionen in einer Ebene zu überlagern; vielmehr muß man die Anordnung aus zwei Hologrammen oder aus einem Hologramm und einem Spiegel aufbauen.
  • Bei der Herstellung der Hologramme wird erfindungsgemäß das dünne Äufzeichnungsmaterial auf einem stabilen Trägermaterial aufgebracht und seine Oberfläche durch eine Schutzschicht vor Umgebungseinflüssen geschützt. Besonders geeignet ist eine Einbettung des Hologramms zwischen zwei Glasscheiben. Die Oberfläche der Schutzschicht kann man vorteilhaft vergüten, um Reflexionsverluste zu vermeiden

Claims (13)

  1. Retroreflektor Patentansprüche: 1. Platten- bzw. blattfdrmiger Retroreflektor mit wenigstens einem retroreflektierenden Element, das wenigstens zwei und vorsugsweise drei reflektierende Flächen aufweist, wclche unter solchen Winkeln zueinander angeordnet sind, daß ein auf eine der Flächen auftreffender Lichtstrahl ebenen falls nach Zwischenreflexion an der zweiten Fläche von der anderen Fläche entgegen der Einfallsrichtung zurückgeworfen wird, dadurch g e k e n n z e i c h n e t, daß die I?eflexionsflächen durch unter den besagten Winkeln angeordnete Beugungsgitterflächen (11, 12) von räumlich Uberlagerten Beugungsgittern gebildet sind, wobei die Gitterkonstanten der verwendeten monochromatischen Strahlung angepaßt sindund die Gitterdicke ausreichend gering ist, um die retroreflektierende Eigenschaft innerhalb eines vorbestimmten Flächen bzw. Raumwinkelbereichs zu erzielen.
  2. 2. R.etroreflektor nach Anspruch 1, dadurch g e k e n n -z e i c h n e t, daß die Gitter Sinusgitter oder hohere Beugungsordnungen evanescent sind.
  3. 3. Retroreflektor nach Anspruch 7 oder 2, dadurch g e -k e n n z e i c h n e t, daß die Beugungsgitter durch ein Volumenhologramm gebildet sind.
  4. 4. Retroreflektor nach Anspruch 3, dadurch g e k e n n -z e i c h n e t, daß ein Phasenhologramm verwendet wird.
  5. 5. Retroreflektor nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch g e k e n n z e i c h n e t, daß die Beugungsgitterflächen eben sind.
  6. 6. Retroreflektor nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch g e k e n n z e i c h n-e t, daß eine dritte Beugungs-gitterebene im wesentlichen parallel zur Platten- bzw. Blattebene vorgesehen ist.
  7. 7. Retroreflektor nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch g e k e n n z e i c h n e t, daß wenigstens eines und vorzugsweise alle Beugungsgitterflächen derart gekrümmt sind, daß eine Fokussierungswirkung erzielt wird.
  8. 8. Verfahren zur Herstellung eines Retroreflektors nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch g e k e n n z e i c h n e t, daß in einem photoempfindlichen Blatt- oder Plattenmaterial wenigstens eine annähernd senkrecht auftreffende ebene Welle mit einer optischen Frequenz mit wenigstens einer im wesentlichen senkrecht dazu verlaufenden ebenen Welle der. glei@en optischen Frequenz überlagert wird,und daß wenigstens eine weiter@ Überlagerung einer der beiden Wellen mit einer dritten, zu ihr gegenläufigen Welle gleicher optischer Frequenz erfolgt; wobei die optische Frequenz bei der zweiten t'berlagening anders als bei der erste überlagerung sein kann.
  9. 9. Verfahren zur Herstellung eines Retroreflektors nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch g e k e n n z e i c h n e t, daß in einem photoempfindlichen Blatt- oder Plattenmaterial wenigstens eine annDlernd senkrecht auftreffende eR)cne Welle mit optischer Frequenz rit drei 'm wesentlichen senkrecht dazu verlaufenden ebenen Wellen der gleichen optischen Frequenz überlagert wird, welche in der senkrecht zu der ersten Welle stehenden Ebene jeweils unter einem Winkel von vorzugsweise 1200 zueinander angeordnet sind, wobei die Frequenz der drei in einer Ebene liegenden Wellen unterschiedlich sein kann.
  10. 10. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch g e k e n n z e i c h -n e t, daß die Überlagerung durch inkohärente Addition von zwei Zweistrahlinterferenzen erfolgt.
  11. 11. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch g e k e n n z e i c h -n e t, daß die tberlagerung durch inkohärente Addition von drei Zweistrahlinterferenzen erfolgt.
  12. 12. Verfahren nach Anspruch 8 £ur Herstellui-tg eines Retroreflektors nach Anspruch 6, dadurch g e k e n n z e i c h n e t, daß die oberlagerung durch kohärente Addition aller drei Wellen erfolgt.
  13. 13. Verfahren nach Anspruch 9 zur Herstellung eines Retroreflektors nach Anspruch 6, dadurch g e k e n n z e i c hn e t,.
    daß die tberlagerung durch kohärente Addition aller vier Wellen erfolgt.
    lit. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 13 zur Herstellung eines Retroreflektors nach Anspruch 7, dadurch g e -k e n n z e i c h n e t, daß Kugel- oder parabolische Wellen verwendet werden.
DE19803012500 1980-03-31 1980-03-31 Retroreflektor Expired DE3012500C2 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19803012500 DE3012500C2 (de) 1980-03-31 1980-03-31 Retroreflektor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19803012500 DE3012500C2 (de) 1980-03-31 1980-03-31 Retroreflektor

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE3012500A1 true DE3012500A1 (de) 1981-10-08
DE3012500C2 DE3012500C2 (de) 1982-11-18

Family

ID=6098902

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19803012500 Expired DE3012500C2 (de) 1980-03-31 1980-03-31 Retroreflektor

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE3012500C2 (de)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3141789A1 (de) * 1980-10-21 1982-05-27 Viktor Voskanovič Afian Sonnenstrahlkonzentrator und verfahren zu seiner herstellung
WO1983004317A1 (en) * 1982-06-01 1983-12-08 Hughes Aircraft Company Holograpic laser protection device
WO1995010827A2 (en) * 1993-10-04 1995-04-20 Franke, Kell, Erik Retroreflective sheeting material, a method of its production and its use
WO2001013144A1 (de) * 1999-08-11 2001-02-22 Imos Gubela Gmbh Lichtschrankenanordnung mit strahlteiler
US6923174B1 (en) 1999-05-29 2005-08-02 Leonhard Kurz Gmbh & Co. Device which follows the position of the sun

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2301868A1 (de) * 1973-01-15 1974-07-18 Sick Optik Elektronik Erwin Reflektorplatte

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2301868A1 (de) * 1973-01-15 1974-07-18 Sick Optik Elektronik Erwin Reflektorplatte

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
IBM Technical Disclosure Bulletin, Vol. 10, Nr. 3, Aug. 1967, S.267-268 *

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3141789A1 (de) * 1980-10-21 1982-05-27 Viktor Voskanovič Afian Sonnenstrahlkonzentrator und verfahren zu seiner herstellung
WO1983004317A1 (en) * 1982-06-01 1983-12-08 Hughes Aircraft Company Holograpic laser protection device
WO1995010827A2 (en) * 1993-10-04 1995-04-20 Franke, Kell, Erik Retroreflective sheeting material, a method of its production and its use
WO1995010827A3 (en) * 1993-10-04 1995-06-08 Franke Kell Erik Retroreflective sheeting material, a method of its production and its use
US5822119A (en) * 1993-10-04 1998-10-13 Kell Erik Franke Retroreflective sheeting material, a method of its production and its use
US6923174B1 (en) 1999-05-29 2005-08-02 Leonhard Kurz Gmbh & Co. Device which follows the position of the sun
WO2001013144A1 (de) * 1999-08-11 2001-02-22 Imos Gubela Gmbh Lichtschrankenanordnung mit strahlteiler

Also Published As

Publication number Publication date
DE3012500C2 (de) 1982-11-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69308916T2 (de) Holographisches Strahlenschutzfilter, besonders für Laser
DE3689841T2 (de) Hologramme mit hohem wirkungsgrad und ihr herstellungsverfahren.
DE68914414T2 (de) Lichtquelle.
DE2414034A1 (de) Verfahren zur messung der dicke mehrerer uebereinanderliegender schichten
DE2714236A1 (de) Vorrichtung zur optischen mehrfachspeicherung
DE1948961B2 (de) Beugungsgitter
DE2627693A1 (de) System zur abtastung eines lichtstrahls
DE2857061C2 (de) Linsensystem zur Strahlungskonzentration
DE2128888A1 (de) Wellenlängenselektor für Strahlungsenergie
DE3340726C2 (de)
DE3528947A1 (de) Reflexionsbeugungsgitter mit hohem wirkungsgrad
EP0245198B1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung eines telezentrischen Lichtstrahls und Verfahren zur Herstellung eines holographischen Elements
DE1940361A1 (de) Verfahren und Einrichtung zur Erzeugung eines Beugungsmusters sowie zur Herstellung eines Rasters aus gleichen Bildern
EP0724168B1 (de) Positionsmesseinrichtung mit Phasengitter und Herstellungsverfahren
DE4338680C1 (de) Längen- oder Winkelmeßeinrichtung
DE2825550A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum abtasten eines gegenstandes mit einem laserstrahl
DE2758149B1 (de) Interferometrisches Verfahren mit lambda /4-Aufloesung zur Abstands-,Dicken- und/oder Ebenheitsmessung
DE3012500C2 (de) Retroreflektor
DE3590781C2 (de) Optisches Phasenelement
DE1549625A1 (de) Anordnung zur Differentiation von Lichtmustern
DE2906015A1 (de) Interferometer
DE1623803A1 (de) Verfahren zur Herstellung von Reflexions- und Transmissionsgittern
DE2151528A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Abtastung eines interferometrischen Linienmusters
DE2238097A1 (de) Optisches element
DE2541924A1 (de) Verfahren zum verbessern des wirkungsgrades bei der rekonstruktion eines fokussierbildhologrammes

Legal Events

Date Code Title Description
OM8 Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
D2 Grant after examination
8339 Ceased/non-payment of the annual fee