DE3010376A1 - Abschirmzylinder fuer ein magnetisches ablenksystem - Google Patents

Abschirmzylinder fuer ein magnetisches ablenksystem

Info

Publication number
DE3010376A1
DE3010376A1 DE19803010376 DE3010376A DE3010376A1 DE 3010376 A1 DE3010376 A1 DE 3010376A1 DE 19803010376 DE19803010376 DE 19803010376 DE 3010376 A DE3010376 A DE 3010376A DE 3010376 A1 DE3010376 A1 DE 3010376A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
tube
graphite
electron beam
deflection system
writing device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
DE19803010376
Other languages
English (en)
Inventor
Klaus Dipl.-Ing. 1000 Berlin Anger
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens AG
Original Assignee
Siemens AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens AG filed Critical Siemens AG
Priority to DE19803010376 priority Critical patent/DE3010376A1/de
Publication of DE3010376A1 publication Critical patent/DE3010376A1/de
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
    • H01J37/09Diaphragms; Shields associated with electron or ion-optical arrangements; Compensation of disturbing fields

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Description

  • Abschiziiizvlinder ftir ein magnetisches Ablenksvstem
  • Die Erfindung betrifft einen elektrisch leitenden Abschirmzylinder im Innern der magnetisch arbeitenden Stufen eines ein- oder mehrstufigen, zumindest teilweise magnetischen Ablenksystems zum schnellen Auslenken eines im Vakuum geführten Korpuskularstrahls.
  • Bei vielen elektronenoptischen Geräten, z.B. bei Rasterelektronenmikroskopen oder Elektronenstrahlschreibern für die Halbleitertechnologie, muß ein-Elektronenstrahl über ein Tsrget im Vakuum gerastert werden. Dazu erzeugt man vorzugsweise mit Hilfe von Spulensystemen ein magnetisches, zeitlich veränderliches Ablenkfeld, das die Elektronen in gewünschter Weise ablenkt. Der Träger der Ablenkspulen socke dabei aus einem nichtleitenden Material bestehen, da in einem leitenden Träger entstehende Wirbelströme das Ablenkfeld verzerren und die Ablenkgeschwindigkeit herabsenken -würden.
  • Trotzdem darf sich das Ablenksystem nicht durch z.B.
  • vom Target gestreute Elektronen aufladen, da solche Aufladungen unerwUnschte und undefinierbare Verschiebungen des Elektronenstrahls zur Folge hätten.
  • Zur Vermeidung dieser störenden Aufladung ist bereits bekannt, ein metallisches Röhrchen im Innern des entsprechenden Ablenksystems einzusetzen. In der Wand eines solchen Röhrchens induziert das Ablenkfeld Wirbelströme, die das Bblenkfeld im Innern des Röhrchens und damit im Bereich des abzulenkenden Elektronenstrahls mit steigender Ablenkfrequenz zunehmend schwächen; der Effekt ist verwandt mit dem bekannten Skin-Effekt.
  • Bekannte Röhrchen sind daher möglichst dünnwandig und aus relativ schlechtleitendem Metall (z.B. Chroman-Stahl) ausgeführt. Für ein Rasterelektronenmikroskop mit Ablenkfrequenzen bis zu ca. 20 kHz erfüllt ein solches Röhrchen seinen Zweck; es ergeben sich keine merklichen Störungen. Bei einem Elektronenstrahlschreiber hingegen mit Frequenzen größer als 1 NEIz ergibt sich bereits eine erhebliche Feldschwächung.
  • Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen einfach herzustellenden Abschirmzylinder anzugeben, der ohne nennenswerte Feldschwächung eine elektrostatische Aufladung verhindert. Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß der Abschirmzylinder aus einem Röhrchen aus nichtleitendem Material besteht und auf seiner Innenseite mit Graphit beschichtet ist.
  • Nach eigenen Untersuchungen zeichnet sich das Graphit trotz seiner relativ geringen Leitfähigkeit dadurch aus, daß es praktisch nicht oder nur sehr gering zu Aufladungen neigt. Eine weitere denkbare Lösung der gestellten Aufgabe bestünde darin, das Röhrchen aus nichtleitendem Material innen zu metallisieren. Dieser Prozeß ist Jedoch technologisch aufwendig. Außerdem mUßte wegen der höheren Leitfähigkeit die Schichtdicke wesentlich dünner sein als bei Graphit. Eine Abschätzung der Schichtdicke erhält man aus der Bedingung, daß die Schichtdicke klein gegen die Eindringtiefe des Wechselfeldes bei der entsprechenden Frequenz sein muß. Für eine Frequenz von beispielsweise 1 NHz ergibt sich daher für Graphit eine erlaubte Schichtdicke von etwa 0,1 mm; für Metall hingegen lediglich 5 bis 10 Bei der dtlnnen Metallschicht besteht sehr leicht die Gefahr der Beschädigung oder bereits bei der Herstellung der nicht voll.tändigaiMetallisierung. Die wesentlich dickere Graphitschicht fst sehr viel sicherer.
  • Als nichtleitendes Material für die Röhrchen kann vorteilhaft Kunststoff, z.B. Polyamid oder bearbeitbare Keramik verwendet werden.
  • Aus vakuumtechnischen Gründen und wegen der Wärmeableitung von den Ablenkspulen ist es günstiger, das Ablenksystem außerhalb des Vakuums für den Korpuskularstrahl anzuordnen. In einer vorteilhaften Weiterbildung ist daher vorgesehen, daß das Röhrchen gleichzeitig zur Vakuumführung dient. Es muß dazu mechanisch ausreichend stabil aufgebaut sein.
  • Die dicke Graphitschicht im Innern des Röhrchens läßt sich besonders einfach mit handelsüblichen Sprays oder Emulsionen durchführen. Anhand einer Figur wird im folgenden ein Ausführungsbeispiel nach der Erfindung näher beschrieben und erläutert.
  • In der Figur ist schematisch und nicht maßstabgerecht im Schnitt ein Ablenksystem mit zwei Ablenkspulen 1 und 1' dargestellt,zwischen denen sich der erfindungsgemäß Abschirmzylinder 3 befindet. Dieser besteht in diesem iusführungsbeispiel aus einem Kunststoffröhrchen 4, das auf seiner Innenseite mit der Graphitschicht 5 versehen ist. Durch den Pfeil 6 ist der Korpuskularstrahl angedeutet. Es kann sich dabei beispielsweise um den Elektronenstrahl in einem Elektronenstrahlschreiber oder aber auch um den Ionenstrahl in einem Ionenbearbeitungsgerät handeln. Die Stirnflächen 41 bzw. 42 des Röhrchens 4 sind derart plangeschliffen, daß sie gleichzeitig als Dichtflächen für die Vakuumführung dienen können. Die Ablenkspulen 1 und 1' liegen dann außerhalb des Vakuums in einer Gasatmosphäre, üblicherweise Luft, wodurch die Wärmeableitung erheblich verbessere ist.
  • 6 PatentansprUche 1 Figur

Claims (6)

  1. PatentansprUche . Elektrisch leitender Abschirmzylinder im Innern der magnetisch arbeitenden Stufen eines ein- oder mehrstufigen, zumindest teilweise magnetischen Ablenksystems zum schnellen Auslenken eines im Vakuum gefUhrten Korpuskularstrahis , d a d u r c h g e k e n n z e i c hn e t , daß der Abschirmzylinder (3) aus einem Röhrchen (4) aus nichtleitendem Material besteht und auf seiner Innenseite mit Graphit (5) beschichtet ist.
  2. 2. Abschirmzylinder nach Anspruch 1, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , daß das Röhrchen (4) aus Kunststoff besteht.
  3. 3. Abschirmzylinder nach Anspruch 1, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , daß das Röhrchen aus Keramik besteht.
  4. 4. Abschirmzylinder nach einem der AnsprUche 1 bis 3, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , daß das Röhrchen (4) gleichzeitig zur VakuumfUhrung dient.
  5. 5. Verfahren zur Beschichtung eines Röhrchens nach einem der AnsprUche 1 bis 4, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , daß das Graphit in Sprayform aufgebracht wird.
  6. 6. Verfahren zur Beschichtung eines Röhrchens nach einem der Anspruche 1 bis 4 , d a d u r c h g e k e n n -z e i c h n e t , daß das Graphit aus einer Emulsion aufgebracht wird.
DE19803010376 1980-03-18 1980-03-18 Abschirmzylinder fuer ein magnetisches ablenksystem Ceased DE3010376A1 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19803010376 DE3010376A1 (de) 1980-03-18 1980-03-18 Abschirmzylinder fuer ein magnetisches ablenksystem

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19803010376 DE3010376A1 (de) 1980-03-18 1980-03-18 Abschirmzylinder fuer ein magnetisches ablenksystem

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE3010376A1 true DE3010376A1 (de) 1981-09-24

Family

ID=6097565

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19803010376 Ceased DE3010376A1 (de) 1980-03-18 1980-03-18 Abschirmzylinder fuer ein magnetisches ablenksystem

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE3010376A1 (de)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2520553A1 (fr) * 1982-01-22 1983-07-29 Cameca Appareil d'optique electronique comportant des elements en graphite pyrolytique
US5012104A (en) * 1990-05-17 1991-04-30 Etec Systems, Inc. Thermally stable magnetic deflection assembly and method of making same
EP3591685A1 (de) * 2018-07-06 2020-01-08 FEI Company Elektronenmikroskop mit verbesserter abbildungsauflösung

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2520553A1 (fr) * 1982-01-22 1983-07-29 Cameca Appareil d'optique electronique comportant des elements en graphite pyrolytique
EP0086120A1 (de) * 1982-01-22 1983-08-17 Cameca Elektronenoptischesgerät mit mit pyrolytischem Graphit versehenen Elementen
US5012104A (en) * 1990-05-17 1991-04-30 Etec Systems, Inc. Thermally stable magnetic deflection assembly and method of making same
EP3591685A1 (de) * 2018-07-06 2020-01-08 FEI Company Elektronenmikroskop mit verbesserter abbildungsauflösung
EP3594987A2 (de) 2018-07-06 2020-01-15 FEI Company Elektronenmikroskop mit verbesserter bildauflösung
EP3594987A3 (de) * 2018-07-06 2020-12-23 FEI Company Elektronenmikroskop mit verbesserter bildauflösung

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69634032T2 (de) Unter etwas erhöhtem druck arbeitendes feldemissionsrasterelektronenmikroskop
DE706780C (de) Einrichtung zum Abtasten von Magnetogrammen
EP0396019B1 (de) Ionen-Zyklotron-Resonanz-Spektrometer
DE60114394T2 (de) FAIMS Vorrichtung und Verfahren mit Ionisierungsquelle auf Laserbasis
EP0218829B1 (de) Anordnung zur Detektion von Sekundär- und/oder Rückstreuelektronen in einem Elektronenstrahlgerät
EP0218920B1 (de) Elektronenenergiefilter vom Omega-Typ
CH649578A5 (de) Hochgeschwindigkeits-kathoden-zerstaeubungsvorrichtung.
WO1988007262A1 (en) Process and device for the surface treatment of semiconductors by particle bombardment
DE1099659B (de) Abschirmvorrichtung
EP0274622A1 (de) Detektoranordnung mit einem Detektorobjektiv für Korpuskularstrahlgeräte
EP0334204A2 (de) Verfahren und Anlage zur Beschichtung von Werkstücken
DE69501144T2 (de) Teilchenoptisches gerät mit einem sekondärelektronen detektor
DE10336422A1 (de) Vorrichtung zur Kathodenzerstäubung
DE2646798A1 (de) Vorrichtung zur elektrischen aufladung von fluessigen oder festen teilchen in einem gasstrom
EP1759036A1 (de) Beschichtungsvorrichtung zum beschichten eines substrats, sowie ein verfahren zum beschichten
EP0001228A1 (de) Verbesserung an einer Vorrichtung zur Elektronenstrahleintastung
DE3010376A1 (de) Abschirmzylinder fuer ein magnetisches ablenksystem
DE19924094C2 (de) Vakuumbogenverdampfer und Verfahren zu seinem Betrieb
DE69633505T2 (de) Ablenksystem
DE4336900A1 (de) Elektronenstrahlquellen-Anordnung
DE1564470B2 (de) Ablenkvorrichtung für geladene Teilchen und deren Verwendung
DE1953659B2 (de) Ionenquelle für die Zerstäubung mit langsamen Ionen
EP0007115A1 (de) Bauteil aus metallischem Werkstoff mit aufladungsgefährdeter Oberfläche und Verwendung hierfür
DE1920183A1 (de) Ionenbeschussverfahren
DE112012000544T5 (de) Elektronenmikroskop

Legal Events

Date Code Title Description
8110 Request for examination paragraph 44
8131 Rejection