DE2929745C2 - Verfahren zur Herstellung eines Eingangsleuchtschirms eines Röntgenbildverstärkers - Google Patents
Verfahren zur Herstellung eines Eingangsleuchtschirms eines RöntgenbildverstärkersInfo
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Description
a) auf einen röntgenstrahldurchlässigen Träger
wird auf fototechnischem Wege ein Raster aufgebracht,
b) anschließend werden die Zwischenräume des Rasters auf dem Träger geätzt, derart, daß das
Schachtverhältnis (Breite zu Tiefe) des Ätzvolumens größer 1 :1 ist,
c) dann wird die Leuchtstoffschicht auf die Noppen desfiasters aufgebracht,
d) man läßt die Leuchtstoffschicht so aufwachsen, daß π« Zusammenwachsen gerade verhindert
wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Ätzung des Trägers mittels eines Mineralsäure-Ätzgemisches vorgenommen wird.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Ätzgemisch aus 80 Volumenteilen
konzentrierter o-Phosphorsäure, 10 Volumenteilen konzentrierter Schwefelsäure und 10 Volumenteilen
konzentrierter Salpetersäure besteht und daß diesem Gemisch Άοο seines Gewichtes Eisensulfat zugesetzt
wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1, 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß nach Atzung des
Trägers vor Aufbringung der Leuchtstoffschicht der Raster entfernt wird.
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Eingangsleuchtschirms eines Röntgenbildverstärkers
nach dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1. Solche Leuchtschirme sind bekannt aus der DE-OS
26 47 660.
Bei dem bekannten Leuchtschirm wird der Leuchtstoff auf ein Raster aufgetragen, welches aus einer fotoempfindlichen
Schicht hergestellt wird, indem diese hinter einer dem Raster entsprechenden Maske belichtet
und dann zur Abtragung des überflüssigen Materials in der beim Anbringen von Fotorastern bekannten Weise
behandelt wird. Damit kann aber nur das in der Fotoreprotechnik allgemein beherrschbare Schachtverhältnis
von 1 :1 erzielt werden. Dies bedeutet wegen der von 2 bis 5 μπι möglichen Filmdicke nur eine Schachttiefe,
welche der ansonsten beim Aufrauhen von Aluminiumträgern möglichen Rauhtiefe von bis zu 5 μπι entspricht.
Diese geringe Tiefe der Rasterzwischenräume stellt aber eine Begrenzung dar für die Möglichkeit, die Rasterstruktur
und damit die Auflösung des Schirms zu verbessern.
In der DEi-OS 21 65 704 sind Leuchtschirme beschrieben,
bei denen eine dünne Phosphorschicht auf die Spitzen von Erhebungen der Innenseite der Frontplatte aufgetragen
ist. Die Seitenwandungen der Vertiefungen sind dabei so geneigt, daß aus der Phosphorschicht mehr
Licht auf die andere Fläche der Frontplatte hin reflektiert wird als bei glatten Ausgangsschirmen von Kathodenstrahlröhren.
Die gerippte Wellenform von Erhöhungen und Vertiefungen wird durch ein bekanntes Ätzverfahren
oder genaue Maschinenbearbeitung erhalten. Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, bei einem
Leuchtschirm nach dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1 einen Aufbau anzugeben, der es ermöglicht,
die Rasterstruktur zu verkleinern, ohne ein Zusammenwachsen von Teilen des Rasters beim Auftragen des
Leuchtstoffs hinnehmen zu müssen. Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die im kennzeichnenden Teil
dieses Anspruchs angegebenen Maßnahmen gelöst Die iJnteransprüche enthalten vorteilhafte Weiterbildungen
der Erfindung.
Durch die Verwendung eines Trägers, der zusätzlich zum aufgetragenen Fotoraster noch geätzt ist, wird erreicht,
daß das Zusammenwachsen der auf den Rasternoppen aufwachsenden Leuchtstoffabscheidungen weitestgehend
verhindert wird. Dies ist offensichtlich darauf zurückzuführen, daß das Dickenwachstum der
Leuchtschicht im Ätzgraben infolge Abschaltung durch umgebende Noppen langsamer erfolgt als auf den Noppen
und somit das koppelnde Glied zwischen benachbarten, auf Noppen aufwachsenden Schichten fehlt
Durch eine verstärkte Ätzung des Trägers können die Rasterpunkte unterschiedlich stark verkleinert werden.
Die aufgetragenen Fotopunkte können durch Lösung in organischem Lösungsmittel leicht entfernt werden. So
läßt sich bei gleichesn Rasterparameter ein beliebiges
Verhältnis zwischen den Absolutgrößen der stehengebliebenen Noppe und des Ätzgrabens erzielen. Bei isotrop
angreifendem Ätzmittel resultiert gleiches Maß für Grabenbreite und Grabentiefe. Daraus ersteht der Vorteil,
daß durch gesteuerte Ätzung unterschiedlicher Grad des Zusammenwachsens benachbarter Leuchtschichtanteile
eingestellt werden kann.
Zunächst kann das Fotoraster wie bei der oben angegebenen DE-OS 26 47 660 dadurch hergestellt werden,
daß eine Fotoschicht, z. B. fotoempfindliches Polyimidmaterial, aufgetragen wird, welche dann durch eine Belichtungsmaske
(Schablone) hindurch bestrahlt wird. Geeignete Materialien sind etwa in der DE-PS
23 08 830, der DE-OS 24 37 348, der DE-OS 24 37 422 sowie in »Polymer engineering and science« Sept. 1971,
Vol. 11, No. 5, Seiten 426 bis 430 beschrieben.
Die fotoempfindliche Schicht kann nach einem an sich bekannten Lackierverfahren oder ähnlichen Methoden
hergestellt werden. Nach dem Aufbelichten des Rasters, vorzugsweise mit UV-Strahlen, werden die unbestrahlten
Teile der Schicht mit organischen Lösungsmitteln, z. B. in einem Tauch- oder Sprühentwicklungsprozeß,
herausgelöst. Geeignete Lösungsmittel sind z. B. ein 1 :1-Gemisch aus Dimethylformamid und Äthanol oder
Gammabutyrolakton. Die verbleibenden fotovernetzten Teile des Rasters werden schließlich durch Erhitzen,
z.B. 30 Minuten auf 275°C und anschließend 10 bis 15 Minuten auf 4000C, in beständigen Kunststoff übergeführt.
Wie bei der bekannten Methode kann das Raster der erwünschten Auflösung des Lumineszenzschirms angepaßt werden. Bei einem Punktraster für den Eingangsschirm eines Röntgenbildverstärkers ist z. B. ein Punktraster angebracht, bei welchem die Seitenlänge 5 bis 30 μη) beträgt bei einem Abstand der Punkte voneinander von 3 bis 40 μπι, insbesondere ΙΟμιη, wenn ein Leuchtschirm mit einer Flachenbelegung von 60 mg/ cm2 Cäsiumjodid, das mit Natrium aktiviert ist, vorgesehen ist. Wird eine höhere Leuchtstoffbelegung vorgese-
Wie bei der bekannten Methode kann das Raster der erwünschten Auflösung des Lumineszenzschirms angepaßt werden. Bei einem Punktraster für den Eingangsschirm eines Röntgenbildverstärkers ist z. B. ein Punktraster angebracht, bei welchem die Seitenlänge 5 bis 30 μη) beträgt bei einem Abstand der Punkte voneinander von 3 bis 40 μπι, insbesondere ΙΟμιη, wenn ein Leuchtschirm mit einer Flachenbelegung von 60 mg/ cm2 Cäsiumjodid, das mit Natrium aktiviert ist, vorgesehen ist. Wird eine höhere Leuchtstoffbelegung vorgese-
hen, so ändern sich die Abmessungen verhältnisgleich.
Vor der Auftragung der Lumineszenzschicht durch Aufdampfung wird erfindungsgemäß der Träger noch
dadurch vorbereitet, daß d?s bisher aufgetragene Raster
einem Ätzvorgang unterworfen wird. Dies ist im obengenannten Sinn dadurch erreichbar, daß die zwischen
den Kunststoffnoppen freiliegenden Oberflächen des Trägermetalls durch Behandeln, etwa Tauchen oder
Besprühen, mit einem an sich bekannten Ätzgemisch aus konzentrierten Mineralsäuren zu Gräben umge- to
formt werden. Das Ätzgemisch kann sich beispielsweise aus 80 Volumenteilen o-fhosphorsäure, 10 Volumenteilen
Schwefelsäure und 10 Volumenteilen Salpetersäure zusammensetzen, wobei es vorteilhaft ist, wenn ein Zusatz
einer geringen Menge eines Schwermetallsalzes (etwa '/too Gewichtsteil) vorhanden ist, dessen Anion das
Säureanion einer der genannten Mineralsäuren ist, z. B.
Eisensulfat Auch Salze von anderen Mitteln, wie Mangan, Magnesium, Nickel oder Kupfer, sind anwendbar.
Anhand des in der Figur dargestellten Avsführungsbeispiels
ist ein Leuchtschirmausschnitt gezeigt mit einem Träger 26, bei dem nach der Ätzung der Fotoraster
entfernt ist und bei welchem die Hinterätzung bis zum Entstehen kleiner Rasterpunkte geführt ist Der Schirm
besteht dann aus aufgedampften Leuchtstoffteilen 23, die durch Zwischenräume 4, 5 voneinander getrennt
sind und die auf den kleinen Flächen 2' des Rasters des Trägers 26 aufgedampft sind.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
35
40
45
55
60
65
Claims (1)
1. Verfahren zur Herstellung eines Eingangsleuchtschirms eines Röntgenbildverstärkers mit
nachfolgenden Verfahrensschritten, wobei die Verfahrensschritte a) und c) den Oberbegriff und die
Verfahrensschritte b) und d) den kennzeichnenden Teil bilden:
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| US06/170,091 US4371806A (en) | 1979-07-23 | 1980-07-18 | Luminescent screen with grid structure for X-ray image intensifier |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10242006A1 (de) * | 2002-09-11 | 2004-03-25 | Siemens Ag | Leuchtstoffplatte |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4506953A (en) * | 1981-05-18 | 1985-03-26 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Reflection preventive light-shielding screen and a process for producing the same |
| FR2513438A1 (fr) * | 1981-09-22 | 1983-03-25 | Thomson Csf | Tube intensificateur d'images a memoire et mode de mise en oeuvre |
| US4626694A (en) * | 1983-12-23 | 1986-12-02 | Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha | Image intensifier |
| US4835379A (en) * | 1988-02-18 | 1989-05-30 | Nicolet Instrument Corporation | X-ray sensitive camera pick-up tube |
| FR2634562B1 (fr) * | 1988-07-22 | 1990-09-07 | Thomson Csf | Procede de fabrication d'un scintillateur et scintillateur ainsi obtenu |
| EP0426865B1 (de) * | 1989-04-03 | 1996-01-03 | Fujitsu Limited | Phosphorplatte und methode zu deren herstellung |
| JP2538531Y2 (ja) * | 1991-06-26 | 1997-06-18 | 旭精工株式会社 | コイン投出装置 |
| US5886354A (en) * | 1994-07-05 | 1999-03-23 | Afga-Gevaert, N.V. | Photostimulable phosphor screen suited for dual energy recording |
| DE19930645A1 (de) * | 1999-07-02 | 2001-01-11 | Rainer Kassing | Wiederverwendbare Bildplatte mit einem Speicherleuchtstoff zur Speicherung von Röntgenstrahlbildern und Herstellungsverfahren für eine wiederverwendbare Bildplatte |
| JP2004003955A (ja) * | 2002-03-25 | 2004-01-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | 放射線像変換パネル |
| US7965820B2 (en) * | 2007-08-17 | 2011-06-21 | Brookhaven Science Associates, Llc | Fiducial marker for correlating images |
| FR3022555B1 (fr) * | 2014-06-23 | 2017-12-22 | Saint-Gobain Cristaux Et Detecteurs | Materiau luminescent a couche photonique texturee |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE975763C (de) * | 1953-12-05 | 1962-09-13 | Koch & Sterzel Kommanditgesell | Lumineszenzschirm fuer Roentgenstrahlen |
| DE2165704A1 (de) * | 1971-12-30 | 1973-07-12 | Hitachi Ltd | Leuchtschirme fuer kathodenstrahlroehren |
| US3783298A (en) * | 1972-05-17 | 1974-01-01 | Gen Electric | X-ray image intensifier input phosphor screen and method of manufacture thereof |
| JPS51103758A (en) * | 1975-03-08 | 1976-09-13 | Tokyo Shibaura Electric Co | x senkeikozobaikan oyobi sonoseizohoho |
| JPS52109858A (en) * | 1976-03-11 | 1977-09-14 | Toshiba Corp | X-ray image intensifier |
| DE2647660A1 (de) * | 1976-10-21 | 1978-04-27 | Siemens Ag | Verfahren zur herstellung eines leuchtschirmes mit einer rasterstruktur |
| US4147949A (en) * | 1977-01-14 | 1979-04-03 | General Electric Company | Apparatus for X-ray radiography |
| DE2810920A1 (de) * | 1977-03-14 | 1978-09-21 | Tokyo Shibaura Electric Co | Bildverstaerker |
| GB1586141A (en) * | 1977-03-14 | 1981-03-18 | Tokyo Shibaura Electric Co | Image intensifier |
| JPS5414153A (en) * | 1977-07-05 | 1979-02-02 | Toshiba Corp | X-ray image intensifier |
| JPS5478074A (en) * | 1977-12-05 | 1979-06-21 | Toshiba Corp | Production of input screen for image increasing tube |
| JPS5479495A (en) * | 1977-12-07 | 1979-06-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Thick film varister |
-
1979
- 1979-07-23 DE DE2929745A patent/DE2929745C2/de not_active Expired
-
1980
- 1980-07-10 FR FR8015386A patent/FR2462020A1/fr active Granted
- 1980-07-18 US US06/170,091 patent/US4371806A/en not_active Expired - Lifetime
- 1980-07-23 JP JP10105080A patent/JPS5622029A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10242006A1 (de) * | 2002-09-11 | 2004-03-25 | Siemens Ag | Leuchtstoffplatte |
| DE10242006B4 (de) * | 2002-09-11 | 2006-04-27 | Siemens Ag | Leuchtstoffplatte |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2462020B1 (de) | 1983-12-23 |
| US4371806A (en) | 1983-02-01 |
| JPS5622029A (en) | 1981-03-02 |
| JPH0247056B2 (de) | 1990-10-18 |
| DE2929745A1 (de) | 1981-01-29 |
| FR2462020A1 (fr) | 1981-02-06 |
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| DE2628099C2 (de) | Verfahren zum Herstellen einer Maske | |
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