DE2906896A1 - Verfahren und anlage zur trockenbehandlung von ausstroemenden gasen - Google Patents

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Verfahren und Anlage zur Trockenbehand- * *? ν ν ν? β ο lung von ausströmenden Gasen

Gegenstand dieser Erfindung sind ein Verfahren und eine Anlage zur Trockenbehandlung eines ausströmenden Gasstromes mit dem Ziel der Entfernung von Verschmutzungspartikeln aus diesem Gasstrom unter Verwendung von konventionellen Vorrichtungen, und dies gilt insbesondere für die Entfernung von Kleinstpartikeln aus diesem Gassstrom. ^:

In manchen Ländern der Welt sind Emissionsvorschriften aufgestellt worden oder werden Emissionsvorschriften noch aufgestellt, mit denen der Anteil an Verschmutzungspartikeln im Abgas, das -sn die freie Luft abgeführt werden soll, gesetzlich geregelt und vorgeschrieben ist. Wenn diese Vorschriften untereinander auch stark abweichen, so begrenzen die meisten dieser Vorschriften den Verschmutzungspartikelantei1 in Abgasen auf Werte, die unter 0.1 gr/sdcf liegen. Was den industriellen Einsatz betrifft, so kann den ; strengen Vorschriften in vielen Fällen, beispielsweise bei Fiberglasöfen, bei städtischen Müllverbrennungsanlagen und dergleichen mehr, nur dadurch entsprochen werden, daß man einen großen Prozentsatz der Kleinstpartikel, die im ausströmenden Gasstrom enthalten sind, auffängt, ausfiltert und abscheidet.

So weisen beispielsweise die Trockenreinigungsvorrichtungen konventioneller Art den Nachteil auf, daß sie nicht in der Lage sind, die im ausströmen-.den Gasstrom enthaltenen und in Suspension befindlichen Verschmutzungspartikel des Submkronbereiches

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abzuscheiden und zu- entfernen. Beispielweise hat die Erfahrung in dem FaTl der Filterkammern gezeigt, daß dann, wenn mit Filtersäcken aus Stoffgeweben gearbeitet wird, die so sehr kleinen Partikel dazu neigen, die Maschenzwischenräume in dem Geweben schnell "zuzusetzen" und zu "verstopfen", was wiederum häufige Unterbrechungen bewirkt, weil die Sackfilter ausgeschüttelt werden müssen. Dort wo mit Zyklon-Staubabscheidern gearbeitet wird, hat es sich herausgestellt, daß im Hinblick auf Submikron-Partikel die Masse für eine wirksame und effektive Zentrifugal abscheidung fehlt.

Für das Entfernen von Verschmutzungspartikeln aus abströmenden Gasströmen sind auch Venturi-Naßabscheider verwendet worden. Bei einem Venturi-Naßabscheider handelt es sich im wesentlichen um eine Verengungsstelle in der Leitung, durch die der verschmutzte Gasstrom fließt. Im verengten Venturi-Rohr wird der ausströmende Gasfluß beschleunigt, wir darüber hinaus eine Flüssigkeit (für gewöhnliche handelt es sich bei dieser Flüssigkeit um Wasser) an der Venturi-Verengung in den Gasstrom injiziert und in den Gasstrom hineingeführt.Die Flüssigkeit wird durch die hohe Gasgeschwindigkeit atomisiert und zerstäubt, wobei die zwischen den Verschmutzungspartikel η und den Flüssigkeitstropfen gegebenen Geschwidnfgkeitszuordnungen bewirken, daß sich durch den Trägheitsaufprall die einen mit den anderen verbinden. Nach der Verbindung werden die Flüssigkeitstrop'fen samt den von ihnen aufgenom-

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raenen Verschmutzungspartikeln aus dun ausströmenden Gasstrom ausgeschieden oder entfernt. Wenn diese Verfahren auch höhere Abscheidungsleistungen erbringen können, so wird dieser Vorteil doch wiederum von den damit verbundenen Problemen zu einem großen Teil wieder rückgängig gemacht.

So weiß man beispielsweise, daß der Wirkungsgrad und die Leistung des Trägheitsaufpral 1-Verfahren·: dadurch verbessert werden kann, daß man die Größe der flüssigen Zieltropfen oder Auffangtropfen verringert. Dazu sind aber höhere üasgeschwindigkeiten samt dem zugehörigen Druckabfall von 30 Zoll Wassersäule bis 60 Zoll Wassersäule erforderlich. Ein Druckabfall von 30 Zoll Wassersäule verursacht einen außergewöhnlich hohen Energieverbrauch von 240 kWh je Million Kubikfuß (cu.ft.) Versuche, den Druckabfall im Venturi-Rohr zu verringern, sind nicht erfolgreich gewesen, und dies im wesentlichen deshalb, weil, um die optimale Zerstäubung der injizierten Flüssigkeit zu erreichen und dennoch eine unterschiedliche Geschwindigkeit zwischen den Flüssigkeitstropen und den Verschmutzungspartikel zu haben, die für den gewünschten Trägheitsaufprall groß genug ist, die Gasgeschwindigkeit in der Verengung des Venutir-Rohres groß sein muß. Es ist daran gedacht worden, eine vorzerstäubte Flüssigkeit in den Gasstrom zu injizieren, um dadurch eine Anpassung an geringere Gasströmungsgeschwindigkeiten und einem verringerten Druckabfall im Venturi-Rohr zu erreichen, dab ei wurde jedoch jeder

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im Zusammenhang damit erzielte Erfolg dadurch wieder rückgängig gemacht, daß für die Vorzerstäubung der Flüssigkeit Energie aufgewendet werden mußte.

Ein anderes Problem der Venturi-Naßabscheider besteht darin, daß sich die zerstäubten Flüssigkeitstropfen mit Säurekomponenten des ausströmenden Gases verbinden, und zwar derart, daß ein höchst agres^ sives Korrosionsmedium entsteht. Dies wiederum macht es erforderlich, daß die Kanäle und Leitungen aus teueren und korrosionsfesten Werkstoffen hergestellt sein müssen. Aber auch in diesem Falle sieht man sich Wartungsproblemen gegenübergestellt, die auf Korrosionserscheinungen zurückzuführen sind. Darüber hinaus müssen die entstehenden Säurelösungen neutralisiert werden, und auch wenn dies getan wird, steht man anderen Deponieproblemen gegenüber.

Andere bekannte Gasreinigungsanlagen arbeiten mit der Injektion von Feststoffen in den ausströmenden Gasfluß. Ein Beispiel fur eine solche Anlage ist in dem US-Patent Nr. 2.875.844 dargestellt und beschrieben, Solche Anlagen haben nur wenig oder keine Submikron-Partikel auffangen und abscheiden können, weil die Feststoffpartikel in den ausströmenden Gasfluß an dem Außendurchmesser des Transportkanales in dichten Häufungen zugegeben worden sind. Mit der Zeit kommt es zu einer Dispersion, einem Zustand der für das Abscheiden der Partikel sehr wichtig ist und bei dem die Feststoffpartikel die-Strömungsgeschwindigkeit des ausströmenden Gases und der darin suspendierten Versehmutzungspar-

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partikel ungefähr die gleiche Strömungsgeschwindigkeit angenommen haben. Ohne eine angemessene Relativgeschwindigkeit zwischen den Verschmutzungspartikeln und den in Dispersion befindlichen Zielpartikel.oder Auffangpartikeln ist über den Trägheitsauprall ein wirksames Mitreißen der Verschmutzungspartikel eine Unmöglichkeit.

Wie dies mit den US-Patenten Nr. 3.969.482 und 3.995.005 dargestellt und beschrieben ist. können Feststoffpartikel für das Absorbieren und/oder für das Reagieren mit säurehaltigen Gasen in einen zweiten (Luftstrom eingegeben und in Dispersion gebracht werden-, der dann an einer Stelle oder an mehreren Stellen entlang der Leitung, die das ausströmende Gas zu transportieren hat, injiziert und eingespritzt werden. Fehlen arber die Relativgeschwindigkeit zwischen den beiden Gasströmungen und die Vorrichtung für das Verteilen des zweiten Gasstromes in dem ausströmenden Abgasstrom, dann werden nur wenige loder überhaupt keine der Verschmutzungspartikel aufgefangen und mitgerissen, und dies ist ganz besonders an den Stellen der Fall, die zu den jeweiligen Einspritzpunkten hin radial versetzt sind. Mit der Zeit geht das zugesetzte Material in dem gesamten abströmenden Gas in Dispersion über, die Relativgeschwindigkeit der beiden Gasströmungen nähert sich dabei dem Wert Null.

Kenn elektrostatisch arbeitende Abscheider auch "einigen Erfolg gehabt haben, so ist deren Bc trieb jedoch auch mit den Nebenerscheinungen der Korro-

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rosion, der Ablagerung von ölen und Fetten bei einer Verbrennung, die alles andere als optimal ist, sowie Schwankungen in der elektrischen Leitfähigkeit der Verschmutzungspartikel.

Die Erfindung stellt sich somit im wesentlichen die Aufgabe, die zuvor angeführten Probleme Schwierigkeiten und Nachteile abzustellen oder minde- .-, stens zu verringern.

Die Erfindung löst diese Aufgabe zum einen dadurch, daß sie die Schaffung eines Verfahrens zur Trockenbehandlung oder Trockenabscheidung des abströmenden Gases "vorsieht, um die Entfernung der Verschmutzungspartikel aus diesem abströmenden Gas zu erleichtern. In einen zweiten Gasstrom werden Zielpartikel oder Auffangpartikel eingegeben und in Dispersion gebracht. Dieser zweite Gasstrom wird dann in den abströmenden Gasstrom eingeführt, wobei die Relativgeschwindigkeiten zwischen dem abströmenden Gasstrom und dem zweiten Gasstrom so groß sind, daß die Verschmutzungspartikel bei der Einführung des zweiten Gasstromes auf die Zielpartikel oder auf die Auffangpartikel aufprallen und von diesen Zielpartikeln/ Auffangpartikeln dann aufgefangen und mitgerissen werden. Um eine Verteilung der Zielpartikel/Auffangpartikel im gesamten abströmenden Gasstrom erreichen zu können und dabei die relative Strömungsgeschwindigkeit beizubehalten, wird der zweite Gasstrom bis in den abströmenden Gasstrom hinein eingeführt od-er das Einführen des zweiten Gasstromes erfolgt von mehreren Stellen aus, die ringsum die Längsachse

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des abströmenden Gasstromes angeordnet sind. Vorzugsweise kann das Einführen aber auf beiderlei Weise bewerkstellligt werden. Dabei wird beim Einführen des zweiten Gasstromes in den abströmenden Gasstrom so verfahr3n, daß der zweite Gasstrom gegenströmig zum abströmenden ersten Gasstrom eingeführt wird, und dies trotz der Absicht, den zweiten Gasstrom derart einzuführen, daß er entweder quer oder im Gleichstrom mit dem abströmenden- Gasstrom ausgerichtet ist.

Die Zielpartikel oder Auffangpartikel sind so groß, daß nach der Vereinigung mit den Verschmutzungspartikelndie dann resultierende Partikel größe und die dann resultierende Partikelmasse ein wirksamees Auffangen und Abscheiden der Partikel unter Verwendung von Gasabschiedervorrichtungen konventioneller Ausführung vorgenommen werden kann.

Die Erfindung löst zum anderen die ihr gestellte .Aufgabe dadurch, daß sie eine Anlage zur Behandlung von ausströmenden Gasen vorsieht. Zu dieser Gasbehandlungsanlage gehören:- eine erste Leitung, in der der abströmende erste Gasstrom entlang einer ersten Strömungsbahn transportiert wird; eine zweite Leitungen, die mit' der vorerwähnten ersten Leitung in Verbindung steht; eine Vorrichtung zur Herbeiführung eines zweiten Gasstromes in der vorerwähnten zweiten Leitung und zur Injektion von Zielpartikeln oder Auffarigpartikeln in den zweiten Gasstrom, und zwar an einer Stelle, die von dem Austrittsende der zweiten Leitung genügend weit

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entfernt ist, damit noch vor der Einführung des zweiten Gasstromes in den abströmenden ersten Gasstrom sich im zweiten Gasstrom die Partikel verteilen können und in diesem in Dispersion gebracht werden können - die vorerwähnte zweite Leitung ist über ihr Austrittsende mit dem Inneren der bereits angeführten ersten Leitung verbunden; bevorzugt ist die Verwendung einer Verteilervorrichtung, die in der ersten Leitung vorzugsweise derart angeordnet ist, daß der zweite Gasstrom gegenströmig in den abströmenden ersten Gasstrom hineingeführt wird,wenn bei einigen Alternativausführungen auch der zweite Gasstrom gleichströmig zum abströmenden ersten Gasstrom oder quer zum abströmenden ersten Gasstrom eingeführt werden kann; weiterhin vorzugsweise auch noch die Verwendung einer Vorrichtung, die den abströmenden ersten Gasstrom während der Einführung des zweiten Gasstromes zu beschleunigen hat - diese Vorrichtung kann als eine Ablenkvorrichtung ausgeführt sein, die eine Ablenkung des abströmenden ersten Gasstromes entweder zu den Wandungen der ersten Leitung hin oder von den Wandungen der ersten Leitung weg, herbeizuführen hat.

Gegenstand dieser Erfindung sind somit ein Verfahren und eine Anlagefür die Trockenbehandlung eines abströmenden Gasstromes zwecks Entfernung der in diesem abströmenden Gasstrom enthaltenen Verschmutzungspartikel unter Verwendung konventioneller Mittel. Das gilt ganz besonders für die Verschmutzungspartikel aus dem Submikron-Bereich. Zielpartikel

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oder Auffangpartikel, die größer als die Verschmutzungspartikel sind, werden in einen zweiten Gasstrom eingeführt und in diesem zweiten Gasstrom in Dispersion gebracht. Dann wird der zweite Gastrom in den abströmenden ersten Gasstrom eingeführt. ,Dieses Einführen des zweiten Gasstromes in den abströmenden ersten Gasstrom wird auf eine solche Weise bewerkstelligt, daß die Verschmutzungspartikel auf die Zielpartikel oder Auffangpartikel aufprallen und sich mit den Zielpartikeln/Auffangpartikeln verbinden, um dann schließlich aus den kombinierten Gasströmen, dh. aus dem zweiten Gasstrom und aus dem ersten Gasstrom, unter Verwendung von konventionellen Gasabscheideranlagen entfernt zu werden.

Diese Erfindung wird nachstehend nun anhand des in Zeichnung dargestellten Ausführungsbeispieles (der in Zeichnung dargestellten Ausführungsbeispielen) näher erläutert. Die Zeichnung zeigt in:-

Fig. 1 Eine schematische Darstellung einer Industrieanlage, in der mit dem Verfahren und der Reinigungsanlage dieser Erfindung gearbeitet wird.

Fig. 2 Eine Seitenansicht, vergößert und zum Teil weggebrochen dargestellt, eines bevorzugten Ausfuhrungsbeispieles der Einspritzvorrichtung dieser Erfindung.

Fig. 3 Eine Endansicht' der mit Fig. 3 wiedergege-., benen Vorrichtung.

Fig. 4 Eine zum Teil auseinandergezogen dargestellte Ansicht der Verteilervorrichtung aus den mit Fig. 2 und Fig. 3 gegebenen Beispielen.

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Fig. 5 Eine Seitenansicht, manche Teile weggebrochen dargestellt, eines anderen Ausführungsbeispieles dieser Erfindung.

Fig. 6 Einen Schnitt durch die mit Fig. 5 wiedergegebene Anlage. Dieser Schnitt in die Linie 6-6 gelegt und um 90° gedreht.

Fig. 7 Eine Seitenansicht, manche Teile weggebrochen dargestellt, eines dritten Ausführungsbeispieles dieser Erfindung.

Fig. 8 Eine Endansicht des mit Fig. 7 dargestellten Ausführungsbeispieles.

Fig. 9 Einen Schnitt durch ein wiederum anderes Ausführungsbeispiel dieser Erfindung.

Die in Fig. 1 dargestellte Abkühlkammer 10, die nach Wunsch eingesetzt werden kann oder auch nicht, nimmt ^: ein industrielles Abgas S, auf, das von einem (hier nicht dargestellten konventionellen Ursprung aus, beispielsweise einer Müllverbrennungsanlage, einem Glasschmelzofen oder dergleichen mehr, zugeführt wird. Von der Abkühlkammer 10 aus strömt das Abgas S₂ durch eine erste Leitung 12 zu einer konventionellen Gasreinigungsvorrichtung 14, die als Stoffgewebefilter, beispielsweise eine Filttrkammer, als Zyklonabscheider oder dergleichen mehr ausgeführt sein kann. Im Abschnitt 22 von Leitung 12 wird ein •zweiter Luftstrom Ap über die zweite Leitung 18 zugeführt; das dabei entstehende Gasgemisch S, wird der Gasreinigungsvorrichtung 14 zugeführt und von dort aus durch den Kamin 16 in die freie Luft ausgeblasen, wobei dem Kamin 16 ein konventionelles

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Absauggebläse zugeordnet ist. Dieses Absauggebläse ist nicht dargestellt.

Das ausströmende Abgas weist in Form einer Dispersion die nachstehend angeführten Feststoffpartikel auf:- Ruß, Salze, Oxide und dergleichen mehr. Ein Teil dieser Feststoffpartikel hat eine Größe die ganz typische im Submikron-BereiCh liegt. Im Abgas enthalten sind auch saure Gas-Anteile, beispielsweise CO₉, SO , HCl, HF und dergleichen Gase mehr Die Abkühl kammer 10 kann zum Abkühlen des Gaset mit Wassersprühung verwendet werden, oder aber auch zur Entfernung der saueren Gas-Anteile durch Sprühung mit wässerigen Alkalilösungen, wie dies beispielsweise in den beiden Patenten beschrieben ist, die zuvor bereits erwähnt worden sind. Die Beschreibung dieser Patente wird in diesem Zusammenhang als Bezug genommen. Im Falle der Wassersprühung erfolgt eine Verdampfung, durch die, was beim Auffangen der Verschmutzungspartikel behilflich sein kann - und dies wird im weiteren Verlaufe der Patentspezifikation beschrieben, der Taupunkt des Gases erhöht wird. Dies ist jedoch nicht in allen Fällen notwendig und kann weggelassen werden. Falls verwendet, sollte die Sprühung jedoch in Grenzen gehalten werden, um zu vermeiden, daß in ihregendeinem Teil des Verfahrens , insbesondere aber in der Vorrichtung 14, in der zu große'Feuchtigkeit den Abscheidevorgang beeinträchtigen kann, der Taupunkt zu stark angehoben wird. Vorzugsweise wird eine Tempyraturdifferenz von mindestens rund 40 '"oder mehr zwi-

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sehen der mit dem Trockentherfnometer gemessenen Temperatur und der mit dem FeuchtthermoTneter gemessenen Temperatur eingehalten.

Der zweite Gasstrom Ap wird in der Leitung 18 durch das Gebläse 20 erzeugt und dann in den ersten Abgasstrom Sp eingeführt, und zwar in Abschnitt 22 der ersten Leitung zwischen den Leitungsflansehen 24 und 26. Über einen Rütteltrichter 28 und eine Förderschnecke 30 werden an einer gegenüber der ersten Leitung 12 entfernten Stelle der zweiten Leitung 18 die Zielpartikel oder Auffangpartike ] P in den zweiten Gasstrom Ap eindispersiert, damit die Gewähr gegeben ist, daß sich diese Zielpartikel oder Auffangpartikel noch vor dem Eindringen in den ersten Abgasstrom Sp als Dispersion in dem zweiten Gasstrom Ap verteilen. Die Zielpartikel oder Auffangpartikel können aus jedem dafür geeigneten Feststoffmaterial bestehen. Sie sollten eine Partikel größe von mindestens 3 Mikron ( ,um) im Durchschnitt haben. Besser ist eine Partikelgröße von 3 Mikron (,um) bis 50 Mikron (,um), noch besser eine Partikel größe von 3 Mikron (,um) bis 20 Mikron ( ,um) und am besten eine "Partikelgröße von 10 Mikron {,um) bis 20 Mikron (,um). Bevorzugt wird die Verwendung von granulatartigem Nephelin Syenit (nepheline syenite) oder Phonolit (ponolite).

Anhand von Fig. 2 bis Fig. 9 sollen nachstehend nun die Verfahren und die Vorrichtungen beschrieben' werden, die das Einführen des zweiten Gasstro-

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mes Ap in den ersten Gasstrom S_? bewerkstelligen, und zwar mit einer Relativgeschwindigkeit, -die so groß ist, daß die kleineren und festen Aerosol Schmutzpartikel durch den Trägheitsaufprall auf die Zielpartikel oder Auffangpartikel aufgefangen und festgehalten werden. Die Mechanik des Auffangens durch den unelastischen Aufprall ist noch nicht vollständig bekannt, man glaubt aber, daß dazu die Massenanziehungen und mechanische Wirkungen und Effekte zwischen der rohen Oberfläche der aufprallenden Feststoffpartikel die Ursache dafür sein können. In manchen Fällen wögen auch elektrostatische Kräfte und Feuchtigkeitseinwirkungen mit im Spiel sein. Der Auffangvorgang ist demonstriert worden durch Untersuchungen von Luftschlämmungsprozessen, üei denen feinere aufgefangene Partikel nicht abgeschieden worden sind.

Das derzeit bevorzugte Verfahren und die derzeit verwendete bevorzugte Vorrichtung sind mit Fig. 'bis Fig. 4 dargestellt. Ein gekrümmter oberer Abschnitt 34 der zweiten Leitur.g 18 ist durch die Wandung des zur ersten Leitung 12 gehörenden Abschnittes 22 geführt. Ein Flansch 32 verbindet diesen Abschnitt mit .dem vertikal verlaufenden Teil der in Abbildung 1 dargestellten Leitung Das innere Ende des Krümmerabschnittes 34 ist an den Halterunge η 42a, 42b und 42c befestigt und an einen ersten kegeistumpfartigen Konus 38 aus Stahlblech angeschlossen, dessen größere Basis auf' due Durchflußrichtung des Gasstromes S-j bezo-

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gen zur Zuführungsseite/Einströmungsseite hin ausgerichtet. Innerhalb des Konus 38 und in einem bestimmten Abstand zu diesem Konus 38 ist ein zweiter Konus 50 in konzentrischer Anordnung montiert, und zwar derart, daß dessen Spitze auf die Strömungs richtung d,;s Gases S^ bezogen in Abflußrichtung des Gasstromes S-. ausgerichtet ist, d.h. aber auch in der Zuflußrichtung des zweiten Gasstromes Ap. Zwi- _: sehen den beiden Konus-Bauelementen 38 und 50 besteht ein ringförmiger Durchlaß für den zweiten Gasstrom A_?, der in der Ringdüse 40 endet, über die der zweite Gasstrom An gegenströmig in den ersten und abfließenden Gasstrom So eingeführt und eingespritzt wird. Diese Elemente zusammengenommen bilden die Verteilervorrichtung, die den zweiten Gasstrom Ap über mehrere Stellen, die ringsum die Achse des Luftkanales 12 angeordnet sind, in den Gasstrom Sp einführt und einspritzt.

Ein dritter Konus 52 ist mit seinem Basis-Teil an den Basisteil des Konus 50 angeschlossen. Seite Spitze ist auf die Strömungsrichtung des Gases S₂ bezogen auf die Zuführungsseite/Einströmungsseite ausgerichtet. Dieser Konus 50 besorgt sowohl die Beschleunigung des Gasstromes SpWährend des Einführens des Gasstromes Ap"als auch die Ablenkung der Gasströmung Sp zu den Wandungen des Leitungskanales 12 hin, und zwar quer zur Ringdüse 40.

Der Konus 50 ist mit den Bolzenschrauben 54 am Konüs 38 befestigt und wird durch das Distanzelement 58 in einem bestimmten Abstand zum Konus 38 gehalten

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Wie aus Fig. 3 zu erkennen ist, ist eine scharniergelagerte Klappe 46 zuströmungsseitig vor dem Flansch 24 für den Zugang in das Innere des Leitungskanales 12 angeordnet. Fig. 3 zeigt weiterhin, daß ein Rohrstutzen 44 mit einer Dunstkappe (nicht dargestellt) über den Rüttel trichter 28 angeordnet ist. Diese Dunstkappe soll das Entweichen von Zielpartikeln oder Auffangpartikel in die freie Luft verhindern.

Das anhand von Fig. 2 bis Fig. 4 beschriebene Verfahren und die anhand von Fig. 2 bis Fig. 4 beschriebene Vorrichtung bewerkstelligen das Einführen des zweiten Gasstromes Ap und der in diesem Gasstrom in Disperson befindlichen Zielpartikel oder Auffangpartikel bis in das Innere des Gasstromes S-, hinein, und dies mit einer guten Partikelverteilung und mit einer hohen relativen Strömungsgeschwindigkeit. Die in diesem Zusammenhang verwendete relative Strömungsgeschwindigkeit ist gleich der algebraischen Summe der Durch, flußvektoren oder Strömungsvektoren der beiden Gasströmungen Sp und Ap, und zwar während der Einführung des Gases Ap in das Gas Sp parallel zur Strömungsrichtung des Gases Sp. Bevorzugt wird eine relative Strömungsgeschwindigkeit von ungefähr 20 fps (Fuß/Sekunde) bis 200 fps (Fuß/Sekunde), besser wäre noch eine relative Strömungsgeschwindigkeit von 50 fps (Fuß/Sekunde) bis 150 fps (Fjiß/Sekunde) . Mit den dargestellten Vorrichtungen läßt sich eine Auffangleistung von Schmutzpartikeln im Submikron-Bereich erreichen, die gleichbedeutend ist mit einem Flüssigkeits-Venturirohr, das" einen Druckabfall von 50 Zoll Wassersäule bis

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150 Zoll Wassersäule bei beträchtlich geringerem Energieaufwand entspricht, und dies ohne verschmutzte Waschflüssigkeiten und mit geringerer Korrosion.

Wenn auch, wie dies aus der Zeirhnung hervorgeht, Leitungen und Konen mit Kreisquerschnitten bevorzugt werden, so können doch auch andere polygonale Querschnitte oder Oval-Querschnitte Verwendung finden. Vorzugsweise werden bei allen konzentrischen Teilen die gleichen Querschnitt verwendet, dimit die Gleichförmigkeit der Strömungs um die Längsachse des Leitungsabschnittes 22 erhalten bleibt und gewährleistet ist.

Bei dem mit Fig. 5 und Fig. 6 dargestellten zweiten Ausführungsbeispiel dieser Erfindung ist in den Leitungsabschnitt 22 eine Venturi-Düse in der Form eines kegelstumpfartigen und konischen Konstruktionselementes 60 eingesetzt. Dieses ist an den Wandungen der Leitung befestigt und hat einen Verengungsquerschnitt 62. Zwischen der Außenwandung des Konstruktionselementes 60 und der Innenwandung des Leitungsabschnittes 22 sind konische geformte Bleche 64 und 66 derart montiert, daß ein Durchlaß 67 entsteht, der kegelförmig zuläuft und in einer Ringdüse 68 endetj, die die Düsenverengung 62 umschließt. Der zweite Gasstrom Ap wird durch den Leitungskanal 70 geführt,, und zwar tangential in den Durchlaß 67 hinein_s ringsum das Konstruktionselement 60 und nach außen durch die Düse 68₉ um dann schließlich im Gleichstrom in das beschleunigt abströmende Gas Sp zu gelangen. Die relative Strömungsgeschwindigkeit

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wird dadurch erreicht, daß der Gasstrom A₂ mit einer anderen und vorzugsweise geringenen Strömungsgeschwindigkeit eingeführt wird als der Gassi rom Sp· Bei meiden Gasströmen handelt es sich um turbulente Strömungen mit guter Mischungsverteilung und wirksamen Auffangen der darin enthaltenen Verschmutzungspartikel. Der Leitungskanal 70 weist einen Flansch 71 auf, über den er an den vertikal angeordneten Teil der mit Fig. 1 dargestellten Leitung 18 angeschlossen werden kann. Der Austrittsabschnitt des Leitungskanales 70 befindet sich in der Leitung 12.

Anhand" von Fig. 2 bis Fig. 4 sowie anhand von Fig. 5 und Fig. 6 ist nun zu erkennen, daß dann, wenn man es mit einem gegenströmigen Fließen und mit einem yleichströmigen Fließen zu tun hat, es bei der Vereinigung der beiden Strömungen A₂ und S₂ immer radiale Strömungskomponenten gibt. In der in diesem Zusammenhang verwendeten Weise stechen die Begriffe gegenströmig und gleichströmig für solche Strömungen, bei denen ein beträchtlicher Strömungs vektor auf die Strömungsr.i chtung- des abströmenden ersten Gases ausgerichtet ist oder gegen die Strömungsrichtung des abströmenden Gases So₁ und die parallel zur Achse der Leitung Gleichströmige und gegenströmige Einführung der Zielpartikel oder der Auffangpartikel, die im Inneren der Leitungswandungen verteilt sind, wobei der gegenströmigen Ausführung der größte Vorzug gegegeben wird, weil mit der Strömungsrichtung, die

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größte wirksame relative Strömungsgeschwindigkeit erreicht wird.

Fig. 7 und Fig. δ zeigen nun ein drittes Äusfiihrungs- , beispiel des Erfindungsgegenstandes. Bei diesem dritten Ausführungsbeispiel endet der Leitungskanal 82 innerhalb des Leitungsabschnittes 22 in vier Düsen 86, die ringsum die Längsachse des Leitungsabschnittes 22 im Winkel gleichmäßig versetzt angeordnet ^:. sind. Dabei sind die Düsen 86 winklig von der Achse wegführend auf die Wandungen der Leitung derart ausgerichte, daß der zweite Gasstrom A2 in vier Teilströme unterteilt wird, über den Flansch 84 wird der Leitungskanal 82 an den Vertikalabschnitt der Leitung 18 angeschlossen, er ist also deren oberer Auslaß innerhalb der Leitung 12. Der zweite Gasstrom A₂ wird in den abströmenden Gasstrom S„ entweder im Gegenstrom oder im Gleichstrom hineingeführt, wobei laut Darstellung die Einführung im Gegenstrom bevorzugt wird. Der Leitungsabschnitt 22 ist mit einer Inspektionsklappe 80 versehen. In diesem Leitungsabschnitt 22 wird das Ende des Leitungskanales 82 von einer T-förmigen Halterung 88 gehalten und gestützt. Weil durch die Düsen 86 und deren Haltekonstruktion der Strömungsquerschnitts-Bereich beträchtlich verringert wird, und zwar innerhalb des bereits erwähnten Leitungsabschntites 22, wird der Gasstrom Sp dann stark beschleunigt, wenn der zweite Gasstrom A₂ eingeführt wird.

Wenn auch die gegenströmige Einführung oder die gleichstrom!ge Einführung bevorzugt werden, so kann ein Auffangen der Partikel durch Äufprailwirkung je-

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doch auch dann erzielt werden, wenn die Einführung von mehreren über den Umfang verteilten Stellen aus radial erfolgt, wenn auch mit geringerem Wirkungsgrad und geringerer Leistung, wie dies bei dem Ausführungsbeispiel vier nach Fig. 9 der Fall ist. Nach Fig. 9 wird der zweite Gasstrom Ap mit den in ihm in Dispersion enthaltenen Zielpartikel oder Auffangpartikel P durch die Leitung 18 in einen Hing- _; verteiler 92 transμortiert, der ringsum die Wandung des Leitungsabschnittes 22 angeordnet ist. Der Rinyverteiler 92 steht mit einer Reihe von Öffnungen 94 in Verbindung, die in die Wandung des Leitungsabschnittes 22 eingearbeitet sind, und dies vorzugsweise in gleichmäßiger Verteilung über den Umfang des Leitungsabschnittes 22. Erforderlich sind: eine relativ hohe Strömungsgeschwindigkeit für den zweiten Gasstrom Ap und eine relativ gleichmäßige Strömungsverteilung durch die Öffnungen 94.

Fig. 1 zeigt nunmehr, daß nach dem Passieren des Flansches 26 die Gasströme S-und A^ als ein vereinigter Gasstrom S^ zur Gasreinigungsvorrichtung 14 fließen und in diese Gasreinigungsvorrichtung 14 gelangen. Das abströmende Gas S-j ist durch die Zumischung des Luftstromes A₂ gekühlt worden, desgleichen auch durch die Zuführung irgendeiner Kühlflüssigkeit in der Abkühlungskammer 10. Ist eine weitere Abkühlung gewünscht, dann kann ein weiterer und zusätzlicher Luftstrom A-, der von einer konventionellen (und hier nicht dargestellten ) Luftklappe aus gesteuert wird, noch vor dem Zugang in

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in die Gasreinigungsvorrichtung 14 üher den Leitungskanal 100 zugeführt werden.

Wenn auch ohne Verwendung einer elektrostatischen Aufladung der Zielpartikel oder Auffangpartikel P gute Resultate erzielt werden konnten, so kann in manchen Anwendungsfällen die Austragungsleistung jedoch dadurch erhöht werden, daß man eine elektrostatische Aufladung jeder Polarität aufschaltet. Dies Kißt sich dadurch bewerkstelligen, daß der Luftstrom A~ mit den in ihm enthaltenen Zielpartikeln oder Auffangpartikeln innerhalb der Leitung 18 zwischen den beiden Elektroden 102 und 104 hindurchgeführt wird. Andererseits wiederum können die Zielpartikel oder Auffangpartikel dadurch reibungselektrisch aufgeladen werden, daß man sie reibungselektrisches Material - beispielsweise Glas oder dergleichen mehr - passieren läßt, das als Auskleidung der Leitung 18 verwendet wird, ober aber als Auskleidung von einer oder mehreren Muffen. Eine Venturi-Düse mit einer derartigen Verkleidung kann zur Erhöhung der Reibung verwendet werden. Die im Gasstrom S, enthaltenen Verschmutzungspartikel benötigen keine elektrostatische Auflasung, sie können aber, falls dies gewänscht werden sollte, mit der entgegengesetzten Polarität entsprechend aufgeladen werden.

BEISPIEL 1

Diese Erfindung ist in einer Pilotanlage getestet worden_s die mit einer Nachstrom-Abgas aus einem Schmelzofen für die Herstellung von Gläsfasern

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arbeitet. Verwendet worden ist die mit Fi j. I bis Fig. 5 dargestellte Anlage. Neuzig Prozent Jer Verschmutzungspartikel hatten eine Größe von weniger als I Mikron (,um). Als durchschnittliche Partikelgröße wurden 1/2 Mikron (,um) angenommen. Es handelte sich dabei um ganz txpische Partikel, die aus den nachstehend angeführten Sazen bestai.den:- Natriumfluorid, Kalziumfluorid, Kalziumoxide, Si- ; liziumoxid, Natriumsulfat und Bor-Oxide. Im Abgas enthalten waren auch sauere Gasanteile, insbesondere die Oxide von Schwefel sowie Wasserstoff-Fluorid, wie der nachstehend gegebenen Tabelle 1 entnommen werden kann. Zwischen 10 pounds/h bis 35 pounds/h an Nephelin Syenit (nepheline syenite) mit einer durchschnittlichen Partikelgröße von rund 10 Mikron (/um) bis 20 Mikron (,um) sind in den zweiten Gasstrom (Luftstrom) A£ hineindosiert worden. Das hereinkommende Gas S-, ist in der Kühlkammer 10 mit einer Flüssigkeitsmenge von 2.5 Galonen je Minute abgekühlt worden, und dies bei einem Kaiizumhydroxid-Schlämmenanteil von 2.5 % Gewichtsanteilen. Die Testresultate sind in der nachstehend gegebenen Tabelle 1 angeführt, in der die Abkürzung ACFM für tatsächliche Mengen in Kubikfuß/Minute steht, die Abkürzung PPM für Teile je Million und die Abkürzung gr./SCF für Körner je Standard-Kubikfuß.

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TABELLE I	Sl	100-200	S2	A2	A3	S4
		90
Gasvolumen:	7000	0.25	5600	1000	1400	7000
ACFM:
Temperatur 0F:	700	0.2	235	Umgebung	Umgebung	170
Trockenthermometer	95		134	Umgebung	Umgebung	117
Feuchtthermometer	Strömungsgeschwindigkeiten	fps: cn	+
	SOx, ppm				20-30
F", ppm				1
B~, ppm				0.003
Sonstiges:
Partikel · gr./SCF				0.01

bei der Einspritzung in S₂.

Das Auffangen der feinen Verschmutzungspartikel im abströmenden Abgasstrom durch die injizierten, und zwar mit dem zweiten Gasstrom A₂ injizierten, Zielpartikel oder Auffangpartikel ist mit Gasschlämmproben nachgewiesen worden. Ein Muster der abgeschiedenen Partikelmischung-j.ausgeschüttelt aus den Sieben der Siebkammer, ist,in eine Kolonne eingesetzt worden. Ein Luftstrom mit unterschiedlich starken Strömungsgesc hwindigkeiten ist nach aufsteigend durch die Pratikelprobe geführt worden. Die von der Luft mitgerissenen Partikel sind abgeschieden, geprüft und mit ähnlichen Tests am Originalmaterial verglichen worden. Die Tests zeigten im wesentlichen , daß die feinen Partikel an die schwereren Zielpartikel oder Auffangpartikel gebunden wurden.

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BUSPIEL 2 " ■ ^V

Ein für städtische Müllverbrennungsanlagen typisches Rauchgas das ein Gemisch an Feststoffpartikeln aus Oxiden und Salzen enthält und unter Anwendung des Verfahrens und der Anlage nach Fig. 2 bis Fig. 4 behandelt worden ist, zeigt die die nachstehend angeführten Resultate dann, wenn es in der Abkühlungskammer 10 mit 60 Galonen Flüssigkeit in der Minute abgekühlt wird und wenn die Zielpartikel oder Auffangpartikel - Nephelin Syenit (nepheline syenite) - in dem zweiten Gasstrom Ap eine Größe von 3 Mikron (/Um) bis 15 Mikron (,um) haben und in einer Menge von 100 pounds/h bis 150 pounds/h zugegeben werden.

TABELLE II

S₁ S₂ A₂

Gasvolumen ACFM

(OOO's) 250 150 5 156

Temperatur ⁰F

Trockenthermometer 1600 400 80 380 Feuchtthermometer 100 164 60 162

Strömungsgeschwindigkeit

fps rund: 50-80 50-80

Partikel gr./SCF 2.0 ~ 0.03

HCl, ppm 200 5

HF, ppm ■ 10

⁺bei der Einspritzung.

In diesem Zusammenhange sei darauf hingewiesen, daß die Beschreibung und die Beispiele nur als Erläuterungsbeispiele zu betrachten sind, daß die Erfindung alle Modifikationsmaglichkeiten und Äquivalente erfassen soll, die in den umfang der Patentansprüche fallen. 909841/0515.

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Claims (1)

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   Verfahren und Anlage zur Trockenbehandlung von ausströmenden Gasen

   Patentansprüche:-

   1. Verfahren zur Behandlung eines in einer Leitung strömenden ersten Gasstromes zwecks Ent- '. fernung der Feststoff-Schmutzpa! iikel, die sich in diesem Gas befinden. Dieses Verfahren dadurch gekennzeichnet, daß in einen zweiten Gasstrom hinein Festpartikel als Zielpartikel oder Auffangpartikel dispergiert werden; daß dieser zweite Gasstrom von mehreren Stellen aus, die ringsum die Mittellinie der Leitung angeordnet sind, in den ersten Gaststrom hineingeführt wird; daß dabei die relative Geschwindigkeit zwischen dem ausströmenden ersten Gasstrom und zwischen dem ausströmenden zweiten Gasstrom bei der Einführung des zweiten Gasstromes so groß ist, daß die Schmutzpartikel auf die Zielpartikel oder die Auffangpartikel auftreffen und' dabei von den Zielpartikeln oder Auffangpartikeln mitgerissen werden. ·

   2. Verfahren nach Anspruch 1,
   dadurch gekennzeichnet, daß ein Teil der varerwähnten Schmutzpartikeln eine Grlße von Mikron (Mikrometern ,u) hat; daß

   "' die bereits angeführten Zielpartikel oder Auffangpartikel eine Größe von mindestens 3 Mikron ( ,um) haben; daß die relative Geschwindigkeit parallel zur Längsachse des zuvor angesprochenen

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   ersten Gasstromes rund 20 Feet/Sekundt bis 200 Fett/Sekunde beträgt.

   3. Verfahren nach Anspruch 2,
   dadurch gekennzeichnet, daß die relative Geschwindigkeit größer als 50 Fett/Sekunde ist.

   4. Verfahren nach Anspruch 1 oder Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß zu ihm noch ein weiterer Schritt gehört, der darin besteht, daß die nunmehr vereinigten Gasströme mit den in ihnen enthaltenen aufgenommenen Partikel'und Zielpartikel durch eine Vorrichtung geführt werden, in dem die Partikel vom Gas getrennt werden.

   5. Verfahren nach Anspruch 1 oder Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der erste Gaststrom dann eine Beschleunigung erfährt, wenn der vorerwähnte zweite Gasstrom eingeführt wird.

   6. Verfahren nach irgendeinem der Ansprüche 1 - 5, dadurch ^gekennzeichnet, daß der zweite Gasstrom mit dem in ihm dispersierten Zielparfikel oder Auffangpartikel gegenströmig zum abströmenden Gasstrom eingeführt wird.

   7: Verfahren nach irgendeinem der Ansprüche 1 - 5, dadurch gekennzeichnet, daß der zweite Gasstrom mit den in ihm enthaltenen und diespersierten Zielpartikeln oder Auffangpartikeln in Gleiströmung mit dem abströmenden

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   Gasstrom eingeführt wird.

   8. Verfahren nach Anspruch 2,
   dadurch gekennzeichnet, daß während des Zuführens des zweiten Gasstromes in den abströmenden Gasstrom die beiden Gasströme aus ihrer jeweiligen Strömungsachse heraus nach außen hin und zur Leitungswandung , abgelenkt werden.

   9. Verfahren nach Anspruch 2,
   dadurch gekennzeichnet, daßwährend der Zuführung des zweiten Gasstromes in den abfließenden ersten Gasstrom die beiden Gasströme aus ihrer jeweiligen Strömungsachse heraus nach innen und zur Längsachse der Leitung hin abgelenkt werden.

   10. Verfahren zur Behandlung eines in einer Leitung fließenden Gasstromes, in dem feste Schmutzpartikel in Suspension enthalten sind. Dieses Verfahren

   dadurch gekennzeichnet, daß zu ihm gehört : das Zuführen und in Dispersionbringen eines zweiten Gasstromes, in dem feste Zielpartikel - oder Auffangpartikel in Dispersion enthalten sind, deren Größe im Durchschnitt gleich 3 Mikron { ,um) bis 50 Miron (,um) ist, wobei die relative Geschwindigkeit zum Zeitpunkt der Einführung zwischen dem vorerwähnten .-. zweiten Gasstrom und dem bereits angeführten abströmenden ersten Gasstrom so groß ist, daß die Verschmutzungspartikel van den Zielpartikeln

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   oder Auffangpartikeln durch Trägheitsaufprall aufgefangen und festgehalten werden, wordurch dann wiederum auch das Entfernen der aufgenommenen Partikel aus dem Gas erleichtert wird.

   11. Verfahren nach Anspruch 2 oder Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß als Zi el partikel/Auffangpartikel Nephelin-Syenit )nepheline syenite) oder Phonolit (phonolite) verwendet werden; daß der bereits angeführte zweite Gasstrom als Gegenstom oder als G ι ei chi aufstrom in den bereits erwähnten ersten Gasstrom eingeführt wird; daß schließlich der zuvor genannte erste Gasstrom durch die Einführung des vorerwähnten zweiten Gasstromes eine Beschleunigung erfährt.

   12. Anlage zur Behandlung eines abströmenden Gasstromes zwecks leichterer Entfernung von festen Verschmutzungspartikeln aus diesem Gasstrom. Diese Gasbehandlungsanlage

   dadurch gekennzeichnet, daß zu ihr gehören:- eine erste Leitung, die den abströmenden Gasstrom entlang einem ersten Transportweg zu transportieren hat; eine zweite Leitung; eine Vorrichtung zur Erzeugung und Herbeiführung eines zweiten Gasstromes in der vorerwähnten zweiten Leitung; eine Vorrichtung zum Injizieren und Hereinbringen der festen Zielpartikel oder Auffangpartikel in die vorerwähn-.. te zweite Leitung; eine Verteilervorrichtung am Austrittsende der zweiten Leitung, die das vor-

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   erwähnte zweite Gas als zweite Gasströmung an mehreren Stellen, die ringsum die Längsachse der bereits genannten ersten Leitung angeordnet sind, in den ersten Gasstrom einzuführen und. zu injizieren hat, und zwar mit einer relativen Geschwindigkeit, die so groß ist, daß die Verschmutzungspartikel auf dem Wege der Stoßwirkung von den bereits angeführten Zielpartikeln oder Auffangpartikeln aufgefangen und mitgerissen werden können.

   13. Anlage nach Anspruch 12,

   dadurch gekennzeichnet, daß zu ihr weiterhin auch noch eine Beschleunigungsvorrichtung gehört, durch die der abströmende erste Gasstrom während des Einfühtens des zweiten Gasstromes in der Strömungsgeschwindigkeit eine Beschleunigung erfährt.

   14. Anlage nach Anspruch 12,

   ; dadurch gekennzeich.net, daß die bereits genannte Verteilervorrichtung mit Düsen versehen ist, die den zweiten Gasstrom in mehrere Teilströme unterteilen, welche dann gegenströmig oder gleichströmig in den abströmenden ersten Gasstrom eingeführt werden.

   15. Anlage nach Anspruch 12,

   dadurch gekennzeichnet, daß die vorerwähnte Verteilervorrichtungen mit ,Vorrichtungen versehen ist, die als Ringdüsenvorrichtungen definiert sind und durch die der bereits genannte zweite Gasstrom in das Innere

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   des abströmenden Gasstromes eingeführt wird.

   16. Anlage nach Anspruch 15*

   dadurch gekennzeichnet, daß der vorerwähnte zweite Gasstrom aus den bereites zuvor angeführten Ringdüsen im Gleichstrom mit dem abströmenden ersten Gasstrom austritt.

   17. Anlage nach Anspruch 15,

   dadurch gekennzeichnet, daß der vorerwähnte zweite Gasstrom im Gegenstrom zu dem abströmenden ersten Gasstrom aus den bereits zuvor genannten Ringdüsen austritt,

   18. Anlage nach Anspruch 17,

   dadurch gekennzeichnet, daß zu ihr weiterhin auch noch eine Beschleunigervorrichtung gehört, die den bereits angeführten abströmenden ersten Gasstrom in eine Strömungsbahn ablenkt und in dieser Strömungsbahn beschleunigt, die quer zu der vorerwähnten Ringdüse verläuft und damit auch quer zur Strömungsbahn des aus den Düsen austretenden zweiten Gasstromes.

   19. Anlage nach Anspruch 18,

   dadurch gekennzeichnet, daß die bereits zuvor angeführte Ablenkvorrichtung aus einem rechten kreisförmigen Konus besteht, der koaxial zur ersten Leitung angenordnet ist, wobei der Apex dieses rechten kreisförmigen Konus, von der Strömungsrichtung des abströmenden ersten Gasstromes auf die Zufluß-

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   richtung ausgerichtet ist.

   20. Anlage nach Anspruch 20,

   dadurch gekennzeichnet, daß zur Düsenringvorrichtung ein kegelstumpfartiger erster Konus gehört, der koaxial von der bereits erwähnten ersten Leitung gehalten wird; daß das bei diesem ersten Konus das Ende ■·. mit dem kleineren Durchmesser an der '\usgangsseite der bereits angeführten zweiten Leitung angeordnet ist, wohingegen das Basis-Ende des ersten Konus von der Strömungsrichtung aus betrachtet, auf die Zuflußseite des abströmenden ersten Gasstromes ausgerichtet ist; daß in dem ersten Konus ein zweiter Konus derart angeordnet ist, daß er von dem ersten Konus,auf den er entsprechend ausgerichtet ist, gehalten wird; daß der Spitzenteil des vorerwähnten zweiten Konus,von der Ströt.iungsrichtung aus betrachtet, auf die Zuführungsseite des zweiten Gas-

   ^: Stromes ausgerichtet ist; daß die zu dem ersten Konus und zu dem zweiten Konus jeweils gehörenden Basis-Teile zueinander in einer radial ausgerichteten Zuordnung angeordnet sind und dabei die Ringdüsenvorrichtung bilden, durch die der zweite Gasstrom geg'enströmig in den abströmenden ersten Gasstrom eingeführt wird; daß weiterhin auch noch eine Ablenkvorrichtung vorhanden ist, die den abströmende ersten Gasstrom in eine Strömungsbahn ablenkt, die quer über den Bereich der Ringdüse und quer zur Strömungsbahn

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   des aus der Düse austretenden zweiten Gasstromes ausgerichtet ist; daß diese Ablenkvorrichtung aus einem dritten Konus besteht, dessen Basis-Teil mit dem Basis-Teil des zweiten Konus., verbunden ist, und dessen Spitzenteil, von der Strömungsrichtung aus betrachtet, auf die Zuflußseite ausgerichtet ist.

   21. Anlage zur Behandlung eines abströmenden Gasstromes zwecks leichterer Entfernung von festen Verschmutzungspartikeln. Diese Anlage dadurch gekennzeichnet, daß zu dieser Anlage gehören:- eine erste Leitung, durch die der abströmende erste Gasstrom auf einer ersten Strömungsbahn fließt; eine zweite Leitung, die durch die Wandung der ersten Leitung geführt ist und eine Austrittsöffnung hat, welche mit dem Inneren der ersten Leitung in Verbindung steht, wobei diese zweite Leitung die Strömungsbahn für den zweiten Gasstrom darstellt, der im Gegenstrom oder im Gleichstrom mit der ersten Strömungsbahn aus der vorerwähnten Austrittsöffnung, austritt; eine Vorrichtung, die in der zweiten Leitung einen zweiten Gasstrom zu erzeugen und herbeizuführen hat; schließlich auch noch eine Vorrichtung, welche in dem zweiten Gasstrom, der in der zweiten Leitung fließt, die festen Zielpartikel oder Auffangpartikel eingibt, wobei gerade diese Anlage so ausgelegt ist, daß sie

   ϊ· zwischen dem abströmenden ersten Gasstrom und

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   und dem zweiten Gasstrom eine Relativgeschwindigkeit erzeugt, die so groß ist, daß durch Aufschlagwirkung die bereits angesprochenen Verschmutzungspartikel an die bereits erwähnten Zielpartikel oder Auffangparti-kel gebunden und von diesen Partikeln mitgerissen werden.

   22. Anlage nach Anspruch 21,

   dadurch gekennzeichnet, daß zu ihr auch noch eine Verteilervorrichtung am Austrittsende der bereits genannten zweiten Leitung gehört, die den zweiten Gasstrom in den abströmenden ersten Gasstrom an mehreren Stellen, die ringsum die Längsachse der ersten Leitung verteilt angeordnet sind, in den ersten abströmenden Gasstrom einzuführen hat; daß schließlich in der Nähe der Verteilervorrichtung auch noch eine Beschleunigungsvorrichtung angeordnet ist, die den vorerwähnten abströmenden Gasstrom dann zu beschleunigen hat, wenn der vorerwähnte zweite Gasstrom zugeführt und eingeführt wird.

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