DE2842605A1 - Verfahren zum herstellen von kristallen hoher kristallguete - Google Patents
Verfahren zum herstellen von kristallen hoher kristallgueteInfo
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Description
Dr. G. Müller, Unser Zeichen
Birkenstraße 17, 8521 Langensendelbach VPA 78 P 8 (H 3 BRD
Prof. Dr. H. Weiß,
Normannenstraße 26, 8000 München 81
Normannenstraße 26, 8000 München 81
Die vorliegende Patentanmeldung "betrifft ein Verfahren zum
Herstellen von Kristallen hoher Kristallgüte, insbesondere von für elektronische oder elektrooptische Halbleiterbauelemente,
als Ausgangsmaterialien verwendbare Einkristalle, durch Ziehen der Kristalle aus der Schmelze oder durch
Aufwachsen der Kristalle aus der, das Kristallmaterial enthaltenden Gasphase und eine Vorrichtung zur Durchführung
des Verfahrens.
An die Einkristalle, die als Ausgangsmaterial für elektronische oder elektrooptische Bauelemente Verwendung finden,
werden sehr hohe Anforderungen in Bezug auf ihre Reinheit, Homogenität und Kristallqualität gestellt. Bei der Herstellung
dieser Kristalle muß deshalb ein besonderes Augenmerk auf die für ihre Entstehung erforderliche Stabilität
der Lage der Phasengrenzfläche fest-flüssig gerichtet
werden. Desweiteren ist heterogene Keimbildung zu ver-
Edt 1 Plr/26.9.1978
030019/0OU
1^0
meiden. Dies erfordert die Einhaltung von definierten
Material- and Wärmeflüssen, die durch Gradienten von Temperatur und Zusammensetzung eingestellt werden. Als
Folge dieser Gradienten treten in der Schmelze Dichtegradienten auf, die aufgrund der Schwerkraft zu Eonvektionsströmungen
führen können. Solche Konvektionsströraungen
können stationär (laminar) oder instationär (oszillatorisch bis turbulent) sein. Analoge Betrachtungen
gelten auch für die Kristallzüchtung aus der Gasphase.
Für das Kristallwachstum wirken sich die stationären Strömungen positiv aus, da sie sowohl die Wachstumsgeschwindigkeit
als auch die makroskopische Form der Phasengrenze stabilisieren. Außerdem erhöhen sie den Stoff
transport, was für Dotierstoffverteilungen und Geschwindig keiten von Kristallwachstum aus Schmelzen oder Lösungen
außerordentlich wichtig ist. Instationäre Konvektion dagegen führt stets zu einer zeitlichen Variation der
Wachstumsgeschwindigkeit, sowie der Dicke der Diffusionsgrenzschicht. Dies hat zwangsläufig inhomogenes Kristallwachstum
zur Folge.
Die Aufgabe, die der Erfindung zugrundeliegt, besteht in der Herstellung von Kristallen hoher Kristallgüte aus
Schmelzen und aus der Gasphase, bei der eine starke, gut definierte, konvektive Strömung angeregt und zeitlich
konstant gehalten wird.
Diese Aufgabe wird durch ein Verfahren der eingangs genannten Art gelöst, welches erfindungsgemäß dadurch gekennzeichnet
ist, daß während des Kristallwachstums das für die. Kristallbildung vorliegende Kristallzüchtungssystem
mit einer, die Ausbildung einer zeitlich konstanten, stark stationären Konvektionsströmung unterstützenden
Schwerebeschleunigung beaufschlagt wird.
030019/OOU
VPA 78P 8 0 43 BRD Dabei liegt es im Rahmen des Erfindungsgedankens, die
Schwerebeschleunigung sowohl senkrecht zum Temperaturgradienten des Kristallzüchtungssystems als auch parallel
dazu zu erzeugen.
5
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Gemäß einem besonders günstigen Ausführungsbeispiel nach der Lehre der Erfindung wird dazu eine Zentrifuge verwendet,
an bzw. auf deren Arm das Kristallzüchtungssystem angeordnet wird.
10
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Zur Durchführung des Verfahrens wird eine Anordnung benutzt, wie sie im Prinzip in Figur 1 dargestellt ist.
Figur 2 zeigt im Schnittbild ein Kristallzüchtungssystem, bei dem die resultierende Beschleunigung parallel zur
Rohrachse wirkt.
Auf dem horizontal betriebenen Arm 1 einer Zentrifuge wird als Kristallzüchtungssystem wahlweise ein Mehrzonenofen
- wie in Figur 1 dargestellt - oder eine Zonenziehvorrichtung montiert. Das Kristallzüchtungssystem kann mit
seiner Rohrachse entweder parallel, wie in Figur 1 und abgebildet, oder senkrecht zur Richtung der Zentrifugalkraft
angebracht sein. Symmetrisch zum Drehpunkt wird eine, in der Figur 1 nicht dargestellte Ofenattrape so
angebracht, daß die dynamische TJmwucht möglichst gering
ist.
Zur stufenlosen Drehzahländerung und ruckfreien Kraftübertragung wird über eine Regeleinheit 3 ein elektronisch
geregelter Nebenschlußmotor 4 verwendet, der die Zentrifuge (1) über Keil- oder Zahnriemen antreibt (siehe
Pfeile 5). Die Drehzahlmessung 6 erfolgt berührungslos mit einem elektromagnetischen Näherungsschalter 7. Der
Strom 8 zur Versorgung der Kristallziehvorrichtung 2 wird mit einem Schleifringsystem 9 übertragen, so daß die
030019/OOU
VPA T8 ρ 8 ο 4 3 8RD
Leistungsversorgung im Labor angeordnet werden kann. Die erforderlichen Regel (10) - und Meßsignale (11) zur
Temperaturregelung werden von Thermoelementen geliefert. Die Thermospannnngen verden mit beschleunigungsfesten 7erstärkern
10, 11 auf dem Zentrifugenarm 1 in den Voltbereich verstärkt und dann auch über Schleifringe (9) in
die Eingänge von Regel- 12 und Datenerfassungseinheiten 13 übertragen· Mittels automatischer Programmsteuerung
kann ein im Ofen eingestellter Temperaturgradient in axialer Richtung "verschoben" werden. Mit den Bezugszeichen 15 ist die Wasserkühlung der Anordnung bezeichnet,
die dafür sorgt, daß der Rohrofen 2 unbeeinflußt vom, durch die Rotation erzeugten Luftstrom bleibt. Die
Pfeile 16 markieren die- Durchlaufrichtung des Kühlwassers.
Mit der Vorrichtung nach der Lehre der Erfindung können
Kristalle von 25 mm Durchmesser und 200 mm Länge bis zu 10000C bei einer 1 bis 36-fachen Erdbeschleunigung (g )
gezüchtet werden. Dies gilt sowohl für die Ofenanordnung, bei der der Temperaturgradient senkrecht zur Schwerkraft
ausgerichtet ist, als auch für die in F^gur 1 und 2 beschriebene Anordnung, bei der der Temperaturgradient
parallel zur resultierenden Beschleunigungskraft eingestellt wird.
In Figur 2 ist im Schnittbild ein solches Kristallzüchtungssystem dargestellt, bei der die resultierende
Beschleunigung parallel zur Rohrachse wirkt. Der Temperaturgradient ist der Beschleunigung entgegengesetzt
gerichtet. Für einen gegebenen Temperaturgradienten im Ofen gibt es einen Bereich der Beschleunigung, in dem
eine stabile Konvektion existiert. Dieser kann für das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung hochperfektionierter
Kristalle ausgenutzt werden. In Figur 2 wird das Kristallmaterial, das beispielsweise aus Indium
20 besteht, in einem einseitig geschlossenen Quarzrohr
030019/OOU
aufgeschmolzen und mit Stearinsäure 22 überschichtet. Das
Quarzrohr 21 befindet sich, unterstützt durch ein Quarzwollepodest
23 und mit Abstandshaltern 24 aus Quarzwolle versehen, in einem weiteren Quarzrohr 25, über dessen
Länge sich die drei Ofenzonen 26, 27, 28 erstrecken. Die Beheizung erfolgt durch eine Widerstandsheizwicklung 29.
In der Indiumschmelze 20 befinden sich in einer koaxialen Quarzkapilare 30 in unterschiedlicher Höhe und im Abstand
von ca. 10 mm voneinander zur Messung des Temperaturgradienten, der stets parallel zur Zentrifugalkraft ausgerichtet
ist, zwei Mantelthermoelemente 31 aus Nickel/ Nickelchrom, die durch den das Quarzrohr 20 abschließenden
Stopfen 32 nach außen geführt sind.
Die Zentrifuge wird zunächst mit langsamer Drehzahl betrieben. Dabei wird das Indium aufgeschmolzen und ein bestimmter
Temperaturgradient mit der Ofenheizung eingestellt.
Sodann wird die Drehzahl der Zentrifuge in Schritten von
—1 *
10 g erhöht. Bei zunehmender Beschleunigung können grundsätzlich zwei Fälle auftreten:
10 g erhöht. Bei zunehmender Beschleunigung können grundsätzlich zwei Fälle auftreten:
1. Der Temperaturgradient nimmt stetig mit steigender Beschleunigung
ab, ohne daß kurzzeitige Temperaturschwankungen, z. B. Oszillationen auftreten.
2. Der Temperaturgradient nimmt kontinuierlich ab bis
zu einer gewissen Beschleunigung. Bei weiterer Zunahme der Beschleunigung beobachtet man Temperaturschwankungen.
In beiden Fällen kippt bei noch höherer Beschleunigung der Temperaturgradient um, er wird negativ;
dabei verschwinden die Temperaturschwankungen·
Ist der Temperaturgradient antiparallel zur Zentrifugalst
beschleunigung, so finden sich im gesamten Bereich 1 g < B ^36 g keinerlei Anzeichen eines instationären Temperaturverlaufs.
Der Temperaturgradient bleibt unabhängig von
Ö30019/OOU
der Beschleunigung B stabil.
Daraus ergibt sich, daß durch den Abbau des Temperaturgradienten mit zunehmender Zentrifugalbeschleunigung der
konvektive Wärmetransport ansteigt. Da bei der Verwendung dotierter Halbleiterschmelzen (z. B. von Indiumantiomonid
mit Tellur dotiert) keine Dotierungsstreifen (striations) in den erstarrten Kristallen bei metallographischen Untersuchungen
gefunden werden, kann angenommen werden, daß die Beschleunigung auf die Ausbildung der Phasengrenzfläche
flüssig/fest und damit auch auf den radialen Temperaturgradienten stabilisierend einwirkt. Außerdem treten mit
zunehmender Beschleunigung größere einkristalline Bereiche auf.
Als weiteres Beispiel sei das Problem der Kristallisationsgeschwindigkeit bei LSsungszüchtungen genannt. Durch die
Verfahren nach der Lehre der Erfindung ergeben sich insbesondere auch für Weltraumversuche wichtige Voraussagen.
Auf der Erde sind die Geschwindigkeiten bei der Herstellung von z. B. Galliumarsenid - oder Kadmiumtellurid-Kristallen
nach der sogenannten Travelling-Heater-Hethode in der Größenordnung von einigen Millimeter/Tag. Das ist wirtschaftlich
uninteressant. Durch das erfindungsgemäße Verfahren ist es jedoch möglich, infolge erhöhter Konvektion
eine wesentlich höhere Wachstumsgeschwindigkeit mit einer hohen Perfektion des Kristallgitters zu erhalten. Das
gleiche gilt auch für Gasphasenzüchtungen und für Lösungs-Züchtungen.
15 Patentansprüche
2 Figuren
2 Figuren
030019/OOU
Claims (15)
1. Verfahren zum Herstellen von Kristallen hoher Kristallgüte, insbesondere von für elektronische oder elektrooptische
Halbleiterbauelemente als Ausgangsmaterialien verwendbaren Einkristallen, durch Ziehen der Kristalle
aus der Schmelze oder durch Aufwachsen der Kristalle aus der, das Kristallmaterial enthaltenden Gasphase, dadurch gekennzeichnet, daß während
des Kristallwachstums das für die Kristallbildung vorliegende Kristallzüchtungssystem mit einer, die Ausbildung
einer zeitlich konstanten, stark stationären Konvektionsströmung unterstützenden Schwerebeschleunigung
beaufschlagt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß die Schwerebeschleunigung
senkrecht zum Temperaturgradienten des Kristallzüchtungssystems erzeugt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß die Schwerebeschleunigung
parallel zum Temperatürgradienten des Kristallzüchtungssystems erzeugt wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1 bis 3, dadurch ge
kennzeichnet , daß zur Erzeugung der Schwerebeschleunigung eine Zentrifuge verwendet wird, an bzw.
auf deren Arm das Kristallzüchtungssystem angeordnet wird.
5. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß als
Kristallzüchtungsmethode das Czochralski-Verfahren verwendet wird, bei dem der Kristall mit Hilfe eines Keimkristalles
aus der in einem Tiegel gehaltenen Schmelze gezogen wird.
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-2- VPA 7BP 8 0 43 BRO
6. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß als
Kristallzüchtungsmethode das horizontale Zonenschmelzen verwendet wird, bei dem der Kristall durch einen mit der
Schmelze in Berührung stehenden Keimkristall aus der Schmelzzone durch Herausziehen des die Schmelze enthaltenden
Behälters aus dem Schmelzofen erhalten wird.
7. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 4,
dadurch gekennzeichnet, daß als Kristallzüchtungsmethode das vertikale Zonenschmelzen verwendet
wird, bei dem der Kristall durch einen mit der Schmelze in Berührung stehenden Keimkristall aus der
Schmelzzone durch Herausziehen des die Schmelze enthaltenden Behälters aus dem Schmelzofen erhalten wird.
8. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß als
Kristallzüchtungsmethode das Bridgman-Verfahren verwendet wird, bei dem mittels eines Mehrzonenofens eine gerichtete
Erstarrung des Kristalls bewirkt wird.
9. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß als
Kristallzüchtungsmethode das Epitaxie-Verfahren verwendet
wird, bei dem auf einem einkristallinen, auf die Abscheidetemperatur erhitzten Trägermaterial das aus der
Gasphase anfallende Material zum einkristallinen Aufwachsen veranlaßt wird.
10. Verfahren nach Anspruch 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet , daß die Schwerebeschleunigung
auf Werte oberhalb 1g (= Erdbeschleunigung) eingestellt wird.
11. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach
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-3- VPA 78P 8043 BRO
mindestens einem der Ansprüche 1 bis 10, gekennzeichnet
durch
a) eine Zentrifuge mit horizontal betriebenen Arm (1),
b) einen auf dem Arm (1) dreh- und kippbar angeordneten
Heizofen (2),
c) einer symmetrisch zum Drehpunkt angebrachten Ofenattrappe,
d) einen die Zentrifuge (1) über Keil- oder Zahnriemen
antreibenden Nebenschlußmotor (4),
e) einem als Drehzahlmessgerät dienenden elektromagnetischen Näherungsschalter (10),
f) einer, mit Schleifringsystem (9) gekoppelten Stromversorgung (8) für den Ofen (2),
g) Thermoelemente zum Regeln und Messen der Ofentemperatur,
h) auf den Zentrifugenarm (1) angeordneten beschleunigungsfesten Verstärkern (10, 11) für die Thermospannungen,
i) Schleifringsysteme (9) zur Übertragung der verstärkten Thermo spannungen.
12. Vorrichtung nach Anspruch 11, gekennzeichnet durch einen Dreizonenrohrofen (2), mit
Wasserkühlung (15).
13. Vorrichtung nach Anspruch 11, gekennzeichnet
durch eine Zonenziehvorrichtung.
14. Vorrichtung nach Anspruch 11 bis 13, dadurch
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- 4 - VPA
78 P δ 0 4 3 BRO
gekennzeichnet , daß ein Datenerfassungsgerät
(15), sowie ein Regler (12) mit einem Programmgeber (14) vorgesehen sind, die mit der Zentrifuge (1)
verbunden sind.
15. Verwendung des Verfahrens und der Vorrichtung nach Anspruch 1 bis 14, zur Herstellung von kristallinen
Substanzen, insbesondere Halbleiterkristallen.
030019/OOU
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US6481368B1 (en) | 1999-10-13 | 2002-11-19 | Abb Research Ltd | Device and a method for heat treatment of an object in a susceptor |
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Publication number | Publication date |
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US4267154A (en) | 1981-05-12 |
DE2842605C2 (de) | 1983-12-08 |
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