DE2838758A1

DE2838758A1 - Verfahren zur herstellung von sieben, insbesondere fuer kontinuierlich arbeitende zentrifugen

Info

Publication number: DE2838758A1
Application number: DE19782838758
Authority: DE
Inventors: Friedrich Erbacher; Herbert Glett; Ernst Ing Grad Heidborn; Walter Hoberg
Original assignee: Balco Filtertechnik GmbH
Current assignee: Balco Filtertechnik GmbH
Priority date: 1978-09-06
Filing date: 1978-09-06
Publication date: 1980-03-27

Description

~Verfahren zur Herstellung von Sieben, insbesondere
für kontinuierlich arbeitende Zentrifugen Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum galvanoplastischen Herstellen von Sieben, insbesondere für kontinuierlich arbeitende Zentrifugen mit einer Wanddicke von 220 bis 250 p und reihenförmig parallel sowie von Reihe zu Reihe gegeneinander versetzt angeordneten Schlitzen einer Breite von 50 bis 90 » vorzugsweise 60 bis 70 ji sowie Stegen etwa gleicher Breite zwischen den Längskanten benachbarter und den Querkanten der in den Reihen aufeinanderfolgender Schlitze, bei dem eine metallische Matritze verwendet wird.
Bei der Herstellung vorgenannter Siebe mit Hilfe metallischer Matritzengeht man im allgemeinen so vor, daß zur Herstellung der metallischen Matritze auf eine metallische Platte mittels einer fotoempfindlichen Lackschicht und einem Negativ-Siebmuster dieses Muster auf die metallische Platte übertragen wird und durch Ätzen sowie nachfolgendem Ausfüllen der Ätzvertiefungen eine Oberfläche geschaffen wird, welche in ihrer Struktur dem herzustellenden Sieb entspricht.
Beim Ätzvorgang erfolgt mit zunehmender Ätztiefe gleichzeitig eine parallel zu der Plattenoberfläche gerichtete Ausweitung der Vertief-ng, so daß sich nach dem erfolgten Ätzvorgang Stege der Matritze ergeben, die im Vergleich zu der Abdeckung durch den Fotolack erheblich schmaler sind. Es werden mit anderen Worten die von dem Fotolack abgedeckten Ränder der Stege von dem Ätzmittel angegriffen. Der Grad dieses Angriffes richtet sich in erheblichem Maße u.a. nach der Verbindung des Fotolackes mit den Stegen und danach ob die Stegränder scharfkonturig durch den Fotolack abgedeckt werden. Infolge der unterschiedlichen Abtragung der Stegränder durch die seitliche Ausdehnung der Ätzvertiefungen muß man die Breite der von dem Fotolack abgedeckten Stege so groß wählen, daß nach dem Ätzvorgang noch eine hinreichende Stegoberfläche verbleibt, auf der die Abscheidung des Siebwerkstoffes bei der galvanoplastischen Herstellung erfolgen kann. Bei dieser Abscheidung erfolgt gleichzeitig mit dem Dicken-Wachstum des Siebwerkstoffes ein Wachstum in Richtung parallel zur Oberfläche der Matritze, wodurch die zwischen den Stegen verbleibenden, mit dem elektrisch isolierenden Kunststoff ausgefüllten Ätzvertiefungen teilweise überdeckt werden. Die horizontale Ausdehnung der Atzvertiefungen und die horizontale Ausdehnung der Ablagerungen des Siebwerkstoffes bestimmen praktisch den erreichbaren minimalen Abstand der Siebschlitze voneinander bei vorgegebener Wandstärke des Siebes und vorgegebener Schlitzbreite. Dabei spielen die einzukalkulierenden Toleranzen bei der Ausbreitung der Ätzvertiefungen eine entscheidende Rolle, wobei sich diese Toleranzen mit zunehmender Ätztiefe in erhöhtem Maße bemerkbar machen.
Aufgrund der vorstehend geschilderten Gegebenheiten ist es bisher praktisch nur möglich, Siebe mit den eingangs beschriebenen Daten herzustellen, die eine maximale offene Sieb fläche von 6,o bis 6,5 % aufweisen.
Aufgabe vorliegender Erfindung ist es, ein Verfahren zur Herstellung galvanoplastischer Siebe zu schaffen bzw. das bekannte Verfahren so zu verbessern, daß es möglich wird, Siebe mit einer offenen Siebfläche in der Größenordnung von 9 bis lo % zu erhalten.
Gelöst wird vorstehende Aufgabe erfindungsgemäß durch die Verwendung einer Matritze, bei der die Breite der Stege nach der Ätzung 40 bis 60 P bei Stahlplatten bzw. 20 bis 40 p bei Messing- oder Kupferplatten und die Ätzvertiefungen 80 bis loo » bei Stahlplatten bzw. 140 bis 160 » bei Mes&ig- oder Kupferplatten betragen und durch Übertragung des Siebmusters auf die Platten unter Verwendung eines Fotolackes erzeugt werden der als Chrom6+-haltige Lackmischung auf der Basis von Polyvinylalkohol hergestellt und in einer Schichtdicke von 120 bis 150 u aufgetragen wird.
Durch die Verwendung vorgenannter Matritzen bei denen die relativ geringe Stegbreite durch die Übertragung des Siebmuster mittels der beschriebenen Fotolackmischung erfolgt, werden die Stegränder sehr konturenscharf und bei einer sehr festen Verbindung des Fotolackes mit der Metalloberfläche abgedeckt, wobei die Fotolackmischung sich durch eine sehr hohe Widerstands kraft auszeichnet, so daß die horizontal verlaufende Ausweitung der Ätzvertiefungen sehr diffiniert innerhalb eines äußerst engen Toleranzbereiches erfolgt. Auf diese Weise ist es möglich für die Stege ein engeres Rastermaß einzuhalten und auch die Stege länger auszubilden als dies bei den bisherigen Herstellunge ;-verfahren der hier in Betracht kommenden Siebe möglich ist.
So ist es möglich, Siebe herzustellen, die eine Schlitzbreite von 6o bis 70 Xu aufweisen, eine Stegbreite zwischen den Längskanten benachbarter Schlitze und den in der jeweiligen Reihe aufeinanderfolgenden Schlitze von etwa 600 bis 700 r sowie eine Schlitzlänge von etwa 2,4 bis 2,6 mm einzuhalten und auf diese Weise eine offene Siebfläche von 9 bis lo % zu erhalten.
Derartige Siebe führen bei einem Einsatz in kontinuierlichen Zuckerzentrifugen zu einer Leistungssteigerung des Durchsatzes durch die Zentrifuge von 30 bis 50 und mehr %.
Besonders zweckmäßig ist es, wenn die Herstellug des Siebes mittels einer Matritze erfolgt, auf der zur Übertragung des Siebmusters eine Fotolackmischung aus loo Teilen Polyvinylalkohol und 200 Teilen Wasser sowie einer 20 %-igen Chrom6+~ Lösung in einer Menge von 200 ml in lo 1 der Polyvinylalkohol-Wasser. Mischung aufgebracht wird. Eine solche Fotolackmischung hat sich bei Herstellung der Siebe bzw. für die Übertragung des Siebmusters auf die Matritze besonders bewährt. Dabei wird zweckmäßigerweise Polyvinylalkohol unterschiedlicher Viskosität in einer entsprechenden Mischung verwendet. Als besonders zweckmäßig hat sich eine Mischung bewährt, bei der 60 Teile eines höherviskosen Polyvinylalkohols, welcher beispielsweise unter der Bezeichnung Heliosal von der Firma Klimsch, Frankfurt, in Verkehr gebracht wird und 4o Teilen eines niedrigerviskosen Polyvinylalkohols besteht, welch letzterer von der Firma Klimsch unter der Bezeichnung "Clichosol" in Verkehr gebracht wird, bewährt, der mit 200 Teilen Wasser gemischt wird, so daß sich ein spezifisches Gewicht von 2,5 Be ergibt.
In lo 1 dieses Gemisches werden 200 ml der 20 %-igen Chrom6+-Lösung eingerührt und in der beschriebenen Schichtdicke auf die Metallplatte aufgetragen.

Claims

Ansprtlche 0 Verfahren zum galvanoplatischen Herstellen von Sieben, insbesondere fttr kontinuierlich arbeitende Zentrifugen mit einer Wanddicke von 220 bis 250 r und reihenförmig parallel sowie von Reihe zu Reihe gegeneinander versetzt angeordneten Schlitzen einer Breite von 50 bis 90 v vorzugsweise 60 bis 70 P sowie Stegen etwa gleicher Breite zwischen den Längskanten benachbarter und den Querkanten der in Reihen aufeinanderfolgender Schlitze bei dem auf eine metallische Platte mittels einer fotoempfindlichen Lackschicht und einem Negativ-Siebmuster sowie anschließendem Belichten und Ätzen der Plattenoberfläche mit nachfolgender Beseitigung der Lackschicht und Ausfüllen derAtSVertiefungen mit einem elektrisch isolierendem Kunststoff eine Matritze hergestellt wird, auf welcher der Siebwerkstoff galvanoplastisch abgeschieden und nachfolgend das Sieb von der Matritze entfernt wird g e k e n n z e i c h n e t d u r c h die Verwendung einer Matritze, bei der die Breite der Stege nach der - Ätzung 40 bis 60 r bei Stahlplatten bzw. 20 bis 40 » bei Messing- oder Kupferplatten und die Ätzvertiefungen 80 bis loo u bei Stahlplatten bzw. 140 bis 160 r bei Messing- oder Kupferplatten betragen und durch Übertragung des Siebrnusters auf die Platte unter Verwendung eines Fotolackes erzeugt Chrom6+ werden, der als eine Chrom 6+ -haltige Lackmischung auf der Basis von Polyvinylalkohol in einer Schichtdicke von 120 bis 150 p auf die Platten aufgetragen wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1 g e k e n n z e i c h n e t d u r c h die Verwendung einer Matritze auf die zur Übertragung des Siebmusters eine Fotolackmischung aus loo Teilen Polyvinylalkohol und 200 Teilen Wasser sowie einer 20 %-igen Chrom6+-Lösung in einer Menge von 200 ml in lo 1 der Polyvinylalkohol-Wasser-Mischung aufgetragen wurde.