DE2738405A1 - Tandemionenbeschleuniger mit materiefreiem ionenumladebereich - Google Patents
Tandemionenbeschleuniger mit materiefreiem ionenumladebereichInfo
- Publication number
- DE2738405A1 DE2738405A1 DE19772738405 DE2738405A DE2738405A1 DE 2738405 A1 DE2738405 A1 DE 2738405A1 DE 19772738405 DE19772738405 DE 19772738405 DE 2738405 A DE2738405 A DE 2738405A DE 2738405 A1 DE2738405 A1 DE 2738405A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- ion
- tandem
- accelerator according
- ions
- ion accelerator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H5/00—Direct voltage accelerators; Accelerators using single pulses
- H05H5/06—Multistage accelerators
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
- G21K1/14—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using charge exchange devices, e.g. for neutralising or changing the sign of the electrical charges of beams
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Particle Accelerators (AREA)
Description
AETIENGESELLSCHAfI1 ^ Unser Zeichen
Berlin und Minchen ^ TPA 77 P 7 1 0 6 BRO
Tandemionenbeschleuniger mit materiefreiem Ionenumladebereich.
Die Erfindung betrifft einen Tandemionenbeschleuniger mit materiefreiem Ionenumladebereich, wie er im Oberbegriff des
Patentanspruches 1 näher angegeben ist.
Zur Dotierung von Festkörpern mit Fremdelementen, zur Anwendung in der medizinischen Heilpraxis, zur Untersuchung von
Reaktionen zwischen energetischen Teilchen In den verschiedenen Aggregatzuständen u.s.w. werden in der Forschung und in
rapide steigendem MaBe auch in der Industrie schnelle, d.h.
hochenergetische Ionen angewendet. Nach dem heutigen Stand der Technik werden schnelle Ionen bevorzugt über Linearbeschleuniger,
Ringbeschleuniger und Elektronenringbeschleuniger gewonnen.
Industriell werden im mittleren Energiebereich Linearbeschleuniger
hauptsächlich auf dem Gebiet der Ionenimplantation eingesetzt. Einfache Linearbeschleuniger, z.B. nach dem Tan de
Graaff-Prinzip, finden die häufigste Anwendung. Diese Beschleuniger
bestehen aus einer einfachen, ein- oder mehrgliedrigen Beschleunigungsstrecke. Im allgemeinen liegt die Ionenquelle
auf Hochspannung, das Objekt auf Erdpotential und der Massen-Separator
entweder auf Erdpotential oder auf Hochspannung. Andere kompliziertere Betriebsweisen haben sich nicht durchgesetzt.
909809/0517 SIz 1 BIa / 18.8.1977
Werden Beschleunigungsspannungen Im MeY-Bereich benötigt, so
werden die auf Hochspannung liegenden Teile und die Beschleunigungsstrecke
in Hochdrucktenks betrieben, um die bei Atmosphärendruck sonst notwendigen großen und damit untragbaren
Sicherheitsabstände gegen Überschläge wesentlich zu verringern. Man nimmt dabei den Nachteil in Sauf, daß die Ionenquelle,,
die eine häufige Wartung benötigt, nur noch unter großem Aufwand zu erreichen ist. Eine oft erwünschte Yor«erlegung
des Ionenstrahles ist ebenfalls praktisch nicht mehr möglich. Hochstromionenquellen werden deshalb in solchen Anlagen
bis heute nicht eingesetzt.
Das Problem, daß die empfindlichen Teile einer Beschleunigungsanlage
auf Hochspannung liegen und in einem Drucktank angeordnet sind, kann durch Tandembeschleuniger umgangen werden.
Beim Tandembeschleuniger emittiert ein auf Erdpotential liegender Injektor (Ionenquelle und Massenseparator) negative
Ionen in eine Beschleunigungsstrecke, deren Ende also auf Hochspannung liegt. Im anschließenden Gas- oder Festkörpertarget
werden diese negativen Ionen durch Zusammenstöße mit den Targetatomen durch Elektronenentzug zu positiven Ionen
umgeladen. In einer zweiten anschließenden Beschleunigungsstrecke, deren Ende nun auf Erdpotential liegt, werden die
nun positiven Ionen nochmal beschleunigt und erhalten somit die doppelte Energie. Die Ionen können nochmal separiert
werden. Das Bestrahlungsobjekt liegt auf Erde.
Ein Nachteil dieser Anordnung besteht darin, daß die Ausbeute an negativen Ionen am Injektorausgang gering ist und daß
durch die Wechselwirkung der negativen Ionen mit dem Umladetarget verschiedene positive Ladungszustände mit einer Energieverbreitung
gegenüber dem einfallenden Strahl und mit einer Erhöhung der Strahldivergenz entstehen. Dies bedeutet
eine Reduktion der Strahlintensität. Tandembeschleuniger sind daher in vielen Dingen den einfachen Beschleunigern vorzuziehen,
liefern jedoch nur geringe Ionenströme.
909809/0517
ergeben sich daraus, daß durch die Wechselwirkung der ursprünglich
negativen Ionen mit den neutralen oder geladenen Atomen oder Molekülen der Materie des Umladetargets eine 7erteilung
über die verschiedenen möglichen positiven Ladungazustände
entsteht. Bei der Anwendung ist man Jedoch meist auf einen monoenergetischen Teilchenstrahl angewiesen, muß
also aus den Ionen verschiedener Ladungszustände Ionen eines
einzigen Ladungszustandes ausfiltern· Das Ausfiltern reduziert die Ionenausbeute· Durch die Wechselwirkung der Ionen
im Umladetarget treten Streuprozesse auf, so daß die Teilchen aus ihrer ursprünglichen Bahn abgelenkt werden. Dadurch
weitet sich das Ursprungsstrahlenbündel auf. Diese Aufweitung vermindert ebenfalls die Strahlintensität. Ebenso
kann unter Umständen die durch den Streuprozeß bewirkte normale Verbreiterung der Ionenenergie stören. Feste Umladetargets bestehen aus dünnen Folien, die schnell unbrauchbar
werden, so daß die Druckkammer zum Folienwechsel häufig geöffnet werden muß. Gastargets bringen Yakuumprobleme, d.h.
Evakuierungsprobleme mit sich, die sich auch durch die unerwünschte
Entstehung von durch Sekundärelektronen hervorgerufener intensiver Röntgenstrahlung äußert.
Aufgabe der Erfindung ist es, einen Tandembeschleuniger mit einem Umladebereich anzugeben, in dem im wesentlichen nur
Ionen eines positiven, frei wählbaren Ladungszustandes mit einem Ionenstrahlbündel geringer Divergenz hergestellt werden.
Diese Aufgabe wird durch einen wie im Oberbegriff des Patentanspruches
1 angegebenen Tandembeschleuniger gelöst, der erfindungsgemäß nach der im kennzeichnenden Teil des Patentanspruches
1 angegebenen Weise ausgestattet ist.
Bevorzugte Ausgestaltungen des erfindungsgemäßen Tandembeschleunigers
sind in den Unteransprüchen angegeben.
909809/0517
Gemäß der Erfindung werden die zuvor genannten Nachteile der
Entstehung verschiedener Ladungszustände, der Strahlverbreiterung
u.s.w. vermieden, indem der Umladebereich materiefrei bleibt und die Umladung der negativen Ionen durch deren optische
Anregung die Absorption elektromagnetischer Strahlung mit Frequenzen bevorzugt in den zugehörigen Resonanzbereichen erfolgt.
Als Quelle für die elektromagnetischen Strahlen werden bevorzugt Laser verwendet, weil diese eine besonders hohe Bestrahlungsdichte
im Umladebereich herzustellen gestatten. Durch Einsatz ein oder mehrerer Laser geeigneter Emissionsfrequenzen
kann entsprechend der Anregungswahrscheinlichkeit der Ionen dann ein gewünschter spezieller Ladungszustand mit hohem Anteil
erzeugt werden. Der Vorteil der Verwendung elektromagnetischer Strahlung zur Umladung liegt auch darin, da6 die als Lichtquellen
verwendeten Laser außerhalb des Drucktankes und damit auf Erdpotential liegen können. Die elektromagnetische Strahlung
wird dem Umladebereich durch Fenster und über Spiegel zugeführt.
Im folgenden wanden der erfindungsgemäße Tandemionenbeschleuniger
und seine Wirkungsweise anhand eines in den Figuren dargestellten Ausführungsbeispieles näher erläutert.
Fig.1 zeigt schematisch den allgemeinen Aufbau des Tandemionenbeschleunigen,
Fig. 2 stellt ausschnittsweise den Umladebereich des in Fig.1 erläuterten Tandemionenbeschleunigers dar.
An einer Ionenquelle 1 für negative Ionen ist ein Eztraktionssystem
2 zum Extrahieren und Beschleunigen negativer Ionen auf Energie von einigen keV, z.B. von 20 keV, angebracht. Der Ausgang
3 des Extraktionssystems 2 liegt auf Erdpotential, die Ionenquelle liegt dementsprechend auf negativem Potential.
Dieses Potential ist so gering, daß keine besonderen Maßnahmen,
wie z.B. ein Drucktank, erforderlich sind. Die Ionenquelle
909809/0517
Κτ 77Ρ7 106 BRO
ist also problemlos zugänglich. An den Ausgang 3 des Extrak-. tionssystems 2 achlleBt sich unmittelbar ein auf Erdpotential
liegender Separator 4 an, der z.B. ein magnetischer Massenseparator ist. Diese vorgenannten Teile 1 bis 4 sind zum Schutz
gegen Berührung mit einem geerdeten Gehäuse 5 umgeben. Die Teile 1 bis 5 zusammengenommen werden im folgenden auch als Injektor
bezeichnet. An den Injektor ist eine erste Hochspannungsbeschleunigungsstrecke
7 zur Beschleunigung negativer Ionen angeschlossen. Anschließend an die erste Beschleunigungsstrecke
7 schließt sich ein Umladebereich 8 an, in dem negative Ionen in positive Ionen umgeladen werden. Dieser Bereich 8 befindet
sich im Innern eines Rohres 18, das auf dem gleichen Potential liegt wie die Austrittselektrode der ersten Beschleunigungsstrecke und die Eingangselektrode der zweiten Beschleunigungs-
strecke. Das Rohr 18 liegt somit ebenfalls auf hoher positiver Spannung, z.B. 3 MeV. Auf diesen Umladeberelch 8 folgt eine
zweite Hochspannungsbeschleunigungsstrecke 9 für positive Ionen. Der Ausgang dieser zweiten Beschleunigungsstrecke 9
liegt wieder auf Erdpotential. An die zweite Beschleunigungsstrecke 9 schließt sich ein Massenseparator 10 an, der gleichzeitig als Ionenweiche dient. Der so gebildete Strahl positiver
Ionen trifft in verschiedenen Bestrahlungskammern 21, 22,
23 auf die darin befindlichen, zu bestrahlenden Objekte 24,
25 und 26. Die Beschleunigungsstrecke 7, der Umladebereich 8 und die zweite Beschleunigungsstrecke 9 sind zur Verminderung
der Oberschlagsabstände in einem Hochdrucktank 27 eingebaut.
Dieser Hochdrucktank 27 ist z.B. mit SFg mit einem Druck von
20 bar gefüllt. Die zum Evakuieren des Injektors der Beschleunigungsstrecken 7 und 8 und der Bestrahlungskammern 21 und 23
nötigen Hochvakuumpumpen sind nicht eingezeichnet. Die Achse des Strahles der negativen Ionen ist mit411, die der positiven
Ionen mit 112 bezeichnet.
In der Ausschnittszeichnung Fig.2 ist die P'^htung des Strahles
negativer Ionen 11 und die der positiven Ionen 12 durch die
909809/0517
Pfeile angedeutet. Hit 31 ist ein Umlenkkondensator für den
Strahl111 bezeichnet und mit 32 ein Umlenkkondensator für den
Strahl H2 positiver Ionen. Der umlenkkondensator 32 dient
gleichzeitig zur Massen- und Ladungsvorzerlegung des Strahles
> 12 der positiven Ionen. Bei der Verwendung von zwei Lasern als
Lichtquellen sind Fenster 34 und 38 vorhanden, durch die das
Laserlicht aus den Laserlichtquellen 35 und 39 ins Innere der Umladestrecke 8 eintreten kann. Die Laserlichtbündel werden
durch die Umlenkspiegel 33 und 37 koaxial auf die Ionenstrahl-
O achse 111,112 zwischen den Umlenkkondensatoren 31 und 32 ausgerichtet.
Mit 36 und 40 sind die zugehörigen Brennpunkte gekennzeichnet.
das Extraktionssystem 2 aus der Quelle 1 abgezogen und auf den Auetrittsspalt 41 des Massenseparators 4 abgebildet. Das Magnetfeld
des Massenseparators 4 wird so gewählt, daß nur die gewünschte Ionensorte 11 den AustrittsspaIt 41 passiert. In der
Hochspannungsbeschleunigungsstrecke 7 mit der Spannung U werden
!O die negativen Ionen 11 der Ladung η auf die Energie En = neU gebrecht,
wobei η eine ganze Zahl ist, e die Elementarladung und U die Beschleunigungsspannung. Im Umladebereich 8 werden die
Ionen 11 durch den Umlenkkondensator 31 so umgelenkt, daβ das
von der Laserlichtquelle 33 emittierte Laserlichtbündel über den
Spiegel 33 entlang der lonenstrahlachse zwischen den Umlenkkondensatoren
31 und 32 geführt werden kann. Die Frequenz V des Laserlxhtes wird so gewählt, daß das Ion angeregt wird und sich
infolgedessen umlädt. Sind zum vollständigen Umladen auf einen gewünschten positiven Ionenladungszustand mehrere einzelne
Anregungsprozesse nötig, so werden durch weitere Laserquellensysteme entsprechend dem eben beschriebenen diese Prozesse bewerkstelligt.
Als Beispiel ist in der Fig. 2 ein zweites System 39, 38, 37 skizziert. Die auf positive Ladung gebrachten Ionen
12 mit der Ladung m (m = ganze Zahl) werden durch den Umlenkkondensator 32 auf die endgültige Bahn gebracht, in der zweiten Be-
909809/0517
77Ρ7 106 BRD
schleunigungastrecke 9 noch einmal beschleunigt, ao daß aie .
schließlich mit der Energie E = (n+m)eU den auf Erdpotential liegenden Maasenseparator 10 durchlaufen und je nach Wahl von
dessen Magnetfeld auf eines der Objekte 24, 25 oder 26 auftreffen. Anstelle von Umlenkkondensatoren 31 und 32 können auch
Umlenkmagnete -verwendet werden.
8 Patentansprüche
2 Figuren
2 Figuren
909809/0517
Claims (8)
- Patentansprüche( 1JTandemlonenbeschleunlger mit einer Vorrichtung zur Umladung negativer Ionen in positive Ionen, dadurch gekennzeichnet , da8 der Bereich, in dem die Umladung erfolgt, materiefrei ist und daß als Vorrichtung zur Umladung der negativen Ionen in positive Ionen eine Lichtquelle (35, 39) hoher Leuchtdichte vorhanden ist.
- 2. Tandemlonenbeschleunlger nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß die Lichtquelle mit einer den Jeweiligen Anregungsenergien der Ionen entsprechenden, Insbesondere gleichen Quantenenergie emittiert.
- 3. Tandemionenbeschleuniger nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet , daß die Vorrichtung als Lichtquelle einen Laser (35, 39) aufweist.
- 4. Tandemionenbeschleuniger nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet , daß er eine Umlenkeinrichtung aufweist, durch die die Ionenbahn 011,112) verschoben wird, und daβ die Lichtquelle (35, 39) so angebracht ist, daß die Bahn des von der Lichtquelle (35, 39) emittierten Lichtes wenigstens mit einem Teilstück der Ionenbahn (111,112) zusammenfällt.
- 5« Tandemlonenbeschleunlger nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet , daß die Umlenkeinrichtung (31, 32) einen Kondensator aufweist.
- 6. Tandemlonenbeschleunlger nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet , daß die Umlenkeinrichtung (31, 32) einen Elektromagnet aufweist.909809/0517ORIGINAL INSPECTED
- 7. Tandemionenbeschleuniger nach einem der Ansprüche 4 bis 6, dadurch gekennzeichnet , daβ entlang der Ionenbahn (Π1,112) mehrere Umlenkeinrichtungen (31, 32) und eine entsprechende Anzahl von Lichtquellen (33, 39) vorhanden sind.
- 8. Tandemionenbeschleuniger nach einem der Ansprüche 4 bis 7, dadurch gekennzeichnet , daß das von den Lichtquellen (35, 39) emittierte Licht auf punktfSrmige, in der Ionenbahn liegende Bereiche (40, 36) fokussiert wird.909809/0517
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19772738405 DE2738405A1 (de) | 1977-08-25 | 1977-08-25 | Tandemionenbeschleuniger mit materiefreiem ionenumladebereich |
US05/933,411 US4209704A (en) | 1977-08-25 | 1978-08-14 | Tandem ion acceleration having a matter-free ion charge reversed zone |
DK373178A DK373178A (da) | 1977-08-25 | 1978-08-24 | Tandemionaccelerator med materiefrit ionomladningsomraade |
GB7834398A GB2003318B (en) | 1977-08-25 | 1978-08-24 | Tandem ion accelerators |
JP10337678A JPS5445496A (en) | 1977-08-25 | 1978-08-24 | Tandeum ion accelerator |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19772738405 DE2738405A1 (de) | 1977-08-25 | 1977-08-25 | Tandemionenbeschleuniger mit materiefreiem ionenumladebereich |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2738405A1 true DE2738405A1 (de) | 1979-03-01 |
Family
ID=6017313
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19772738405 Withdrawn DE2738405A1 (de) | 1977-08-25 | 1977-08-25 | Tandemionenbeschleuniger mit materiefreiem ionenumladebereich |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4209704A (de) |
JP (1) | JPS5445496A (de) |
DE (1) | DE2738405A1 (de) |
DK (1) | DK373178A (de) |
GB (1) | GB2003318B (de) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4812775A (en) * | 1986-04-30 | 1989-03-14 | Science Research Laboratory, Inc. | Electrostatic ion accelerator |
USRE34575E (en) * | 1986-04-30 | 1994-04-05 | Science Reseach Corporation | Electrostatic ion accelerator |
US5031503A (en) * | 1989-12-06 | 1991-07-16 | The Boeing Company | Electrostatic projectile accelerator apparatus and related method |
US5019705A (en) * | 1990-01-03 | 1991-05-28 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | High brilliance negative ion and neutral beam source |
JPH0668984A (ja) * | 1992-08-21 | 1994-03-11 | Agency Of Ind Science & Technol | タンデム型静電加速器 |
US5267289A (en) * | 1992-09-25 | 1993-11-30 | Combustion Engineering, Inc. | Ion implantation of nuclear fuel assembly components using cathodic vacuum arc source |
US5280174A (en) * | 1993-01-25 | 1994-01-18 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Method and apparatus for producing a thermal atomic oxygen beam |
US5306922A (en) * | 1993-03-16 | 1994-04-26 | Genus, Inc. | Production of high beam currents at low energies for use in ion implantation systems |
JP2687310B2 (ja) * | 1994-12-26 | 1997-12-08 | 工業技術院長 | タンデム型静電加速器における荷電粒子の発生方法 |
JP2921500B2 (ja) * | 1996-07-30 | 1999-07-19 | 日本電気株式会社 | イオン注入装置 |
US6459089B1 (en) * | 2000-03-03 | 2002-10-01 | Steris Inc. | Single accelerator/two-treatment vault system |
EP1764132A1 (de) * | 2005-09-16 | 2007-03-21 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren und Vorrichtung zur Einstellung eines Strahlpfades einer Partikeltherapieanlage |
US7498588B1 (en) | 2008-05-07 | 2009-03-03 | International Business Machines Corporation | Tandem accelerator having low-energy static voltage injection and method of operation thereof |
DE102010008991A1 (de) * | 2010-02-24 | 2011-08-25 | Siemens Aktiengesellschaft, 80333 | Beschleuniger für geladene Teilchen |
DE102010008992A1 (de) | 2010-02-24 | 2011-08-25 | Siemens Aktiengesellschaft, 80333 | Gleichspannungs-Hochspannungsquelle und Teilchenbeschleuniger |
DE102010008995A1 (de) | 2010-02-24 | 2011-08-25 | Siemens Aktiengesellschaft, 80333 | Gleichspannungs-Hochspannungsquelle und Teilchenbeschleuniger |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2816243A (en) * | 1956-04-09 | 1957-12-10 | High Voltage Engineering Corp | Negative ion source |
US3914655A (en) * | 1973-06-28 | 1975-10-21 | Ibm | High brightness ion source |
-
1977
- 1977-08-25 DE DE19772738405 patent/DE2738405A1/de not_active Withdrawn
-
1978
- 1978-08-14 US US05/933,411 patent/US4209704A/en not_active Expired - Lifetime
- 1978-08-24 GB GB7834398A patent/GB2003318B/en not_active Expired
- 1978-08-24 DK DK373178A patent/DK373178A/da unknown
- 1978-08-24 JP JP10337678A patent/JPS5445496A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB2003318A (en) | 1979-03-07 |
GB2003318B (en) | 1982-03-10 |
US4209704A (en) | 1980-06-24 |
JPS5445496A (en) | 1979-04-10 |
DK373178A (da) | 1979-02-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2738405A1 (de) | Tandemionenbeschleuniger mit materiefreiem ionenumladebereich | |
DE2235903C2 (de) | Verfahren zum Betrieb eines Feldemissions-Raster-Korpuskularstrahlmikroskops und Feldemissions-Raster-Korpuskularstrahlmikroskop zur Durchführung des Verfahrens | |
DE19681165C2 (de) | Ionenimplantationsanlage mit Massenselektion und anschließender Abbremsung | |
DE3875257T2 (de) | Massenspektrometer fuer positive und negative ionen. | |
EP1070960B1 (de) | Ionisationskammer mit einer nichtradioaktiven Ionisationsquelle | |
DE69634125T2 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung von überlagerten statischen und zeitlich-veränderlichen Magnetfeldern | |
DE882769C (de) | Verfahren und Einrichtung zur Trennung geladener Teilchen von verschiedenem e/m-Verhaeltnis | |
DE2425184A1 (de) | Verfahren und anordnung zur erzeugung von ionen | |
DE2842527A1 (de) | Elektrostatische emissionslinse | |
DE2151167C3 (de) | Elektronenstrahl-Mikroanalysator mit Auger-Elektronen-Nachweis | |
DE3328423A1 (de) | Negative ionenquelle | |
DE2937004A1 (de) | Chromatisch korrigierte ablenkvorrichtung fuer korpuskularstrahlgeraete | |
DE69608277T2 (de) | Probenanalysegerät | |
DE102013209447A1 (de) | Röntgenquelle und Verfahren zur Erzeugung von Röntgenstrahlung | |
JPS60207237A (ja) | イオンをエネルギ選択法により分離し所望のイオンを生成する装置 | |
DE2332118A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur minimisierung der querkomponenten der geschwindigkeit in einem elektronenstrahl | |
DE69212951T2 (de) | Verfahren und vorrichtung zur verbesserung der effizienz eines zyklotrons | |
DE1922871A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Ionenerzeugung | |
DE3616879A1 (de) | Optisch gepulster elektronenbeschleuniger | |
DE2520530A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur ionisation einer isotopenart | |
DE68911741T2 (de) | Abgedichtete Hochfluss-Neutronenröhre. | |
DE2608958A1 (de) | Vorrichtung zum erzeugen von strahlen aus geladenen teilchen | |
DE69229702T2 (de) | Geräte zur Energieanalyse von Ladungsträgerpartikeln | |
DE2540505A1 (de) | Flugzeit-massenspektrometer fuer ionen mit unterschiedlichen energien | |
DE112010005188T5 (de) | Vorrichtung zum Bestrahlen mit geladenen Teilchen |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OAM | Search report available | ||
OC | Search report available | ||
8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |