DE2712519A1 - Vorrichtung fuer elastische oberflaechenwellen - Google Patents
Vorrichtung fuer elastische oberflaechenwellenInfo
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Description
Tokyo Shibaura Electric Co., Ltd., Möhlstraße 37
D-8000 München 80
Kawasaki-shi, Japan
Tel.: 089/982085-87 Telex: 0529802 hnkld Telegramme: ellipsoid
Vorrichtung für elastische Oberflächenwellen
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung für elastische Oberflächenwellen
mit einem X-Schnitt-Substrat aus Lithiumtantalat (LiTaO,).
Als Substrat für eine Vorrichtung für elastische Oberflächenwellen
kann nach den Normen des IRE (Institute of Radio Engineering) ein (längs der Y-Achse geschnittenes) Y-Schnitt-LiNbO,-Substrat
mit Z-Ausbreltung, ein um I300 gedrehtes
Y-Schnitt-LiNbO,-Substrat, ein piezoelektrisches Keramikelement, ein Y-Schnitt-LiTaO,-Substrat mit Z-Ausbreitung,
eine ST-Schnitt-Quarzvorrichtung o.dgl. verwendet werden.
Die vorstehend angegebenen, bisher verwendeten piezoelektrischen Vorrichtungen sind mit folgenden Nachteilen behaftet:
Die Y-Schnitt-, Z-Ausbreitung-LiNbO,-Vorrichtung besitzt
einen ausreichend großen piezoelektrischen Kopplungskoeffizienten und eine vergleichsweise kleine Dielektrizitäts-
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-t-
• erkonstante, und eine solche Vorrichtung wird allgemein angewandt.
Die Temperaturdrift der Oberflächenwellengeschwindigkeit
besitzt jedoch einen hohen Wert von etwa 80 ppm/0C,
wodurch die Temperaturkennlinie stark verringert wird. Eine auf der Empfangsseite angeordnete, fingerartig verschachtelte
bzw. Kammelektrode empfängt eine Haupt- oder Gesamtwelle (bulk wave), und wenn eine solche LiNbO^-Vorrichtung beispielsweise
als Filter benutzt wird, tritt im oberen Bereich ihres Bandpasses ein starkes Gesamt-Nebenansprechen auf.
Obgleich die um I3I0 gedrehte Y-Schnitt-LiNbO -Vorrichtung
einen besseren Kopplungskoeffizienten, eine bessere Dielektrizitätskonstante
und eine bessere Gesamt-Streucharakteristik bietet, besitzt ihr Temperaturkoeffizient immer noch einen
hohen Wert von etwa 80 ppm/°C.
Zur Verbesserung der Temperaturcharakteristik wurde eine piezoelektrische Keramikvorrichtung entwickelt. Diese besitzt
jedoch eine hohe Dielektrizitätskonstante und eine große Variation der Oberflächenwellengeschwindigkeit. Die Y-Schnitt-,
Z-Ausbreitung-LlTaO,-Vorrichtung besitzt einen hohen Temperaturkoeffizienten
.
Die St-Schnitt-Quarzvorrichtung bietet zwar einen besseren
Temperaturkoeffizienten, jedoch einen niedrigeren Kopplungskoeffizienten.
Aus den vorstehenden Ausführungen geht hervor, daß die erwähnten, bisher benutzten piezoelektrischen Körper verschiedene
Vor- und Nachteile besitzen. Bisher konnte noch keine Vorrichtung für elastische Oberflächenwellen zur Verfügung
gestellt werden, die vorteilhafte Gesamteigenschaften besitzt.
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Aufgabe der Erfindung ist damit die Schaffung einer Vorrichtung für elastische Oberflächenwellen, die aus LiTaO,
hergestellt ist und eine bessere Temperaturcharakteristik sowie eine bessere Gesamt-Nebenansprechcharakteristik
bietet als die bisher verwendeten Vorrichtungen dieser Art.
Diese Aufgabe wird bei einer Vorrichtung für elastische Oberflächenwellen erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß sie
mindestens einen Wandler aufweist, bei dem sich eine elastische Oberflächenwelle in einer Richtung von 75 - 133°
oder von (75 + I8o)° - (13j5 + I8o)° zu einer Y-Achse auf
einem X-Schnitt-Lithiumtantalat- bzw.-LiTaO,-Substrat ausbreitet, und daß der LiTaO,-Kristall gemäß der IRE-Norm
+ o senkrecht längs der X-Achse unter einem Winkel von -1o
zum Substrat geschnitten und die Y-Achse gemäß der IRE-Norm eine auf das X-Schnitt-Substrat projizierte Achse ist.
Im folgenden ist eine bevorzugte Ausführungsform der Erfindung anhand der beigefügten Zeichnung näher erläutert.
Es zeigen:
Fig. 1 eine schematische Darstellung einer Vorrichtung für elastische Oberflächenwellen gemäß einer Ausführungsform
der Erfindung,
Fig. 2 eine perspektivische Darstellung der Vorrichtung zur Erläuterung des Anwendungsbereichs der Erfindung,
Flg. j5 eine graphische Darstellung der Beziehung zwischen
der Oberflächenwellen-Ausbreitungsrichtung bei der Vorrichtung gemäß Fig. 1 und dem Temperatur-
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koeffizienten der Verzögerungszeit bei der Vorrichtung für elastische Oberflächenwellen,
Fig. 4 eine Frequenzgangkurve der Vorrichtung gemäß Fig. 1,
Fig. 5 bis 1o graphische Darstellungen jeweils der Beziehung
zwischen einer Frequenz und der Dämpfungsgröße
bei verschiedenen Oberflächenwellen-Ausbreitungsrichtungen,
Fig. 11 eine graphische Darstellung der Beziehung zwischen der Oberflächenwellen-Ausbreitungsrichtung und dem
Gesamt-Nebenansprechpegel,
Fig. 12 eine graphische Darstellung der Beziehung zwischen der Oberflächenwellen-Ausbreitungsrichtung und
dem piezoelektrischen Kopplungskoeffizienten bei
der Vorrichtung gemäß Fig. 1 und
dem piezoelektrischen Kopplungskoeffizienten bei
der Vorrichtung gemäß Fig. 1 und
Fig. 15 eine graphische Darstellung der Beziehung zwischen
der Temperatur und dem Filterdurchlaßbereich bei
der Vorrichtung gemäß Fig. 1.
der Vorrichtung gemäß Fig. 1.
In Fig. 1 ist ein piezoelektrisches Substrat 11 aus Lithiumtantalat
(LiTaO-) dargestellt, dessen Oberfläche senkrecht
zu einer X-Achse des LiTaO,-Kristalls geschnitten ist. In
Fig. 1 sind auch eine Y-Achse und eine Z-Achse an der Oberfläche des Substrats 11 dargestellt. Das so hergestellte
Substrat wird im folgenden als X-Schnitt-LLTaO,-Substrat bezeichnet. Die Fingerelektroden 12a und 1^a zweier Paare von
zu einer X-Achse des LiTaO,-Kristalls geschnitten ist. In
Fig. 1 sind auch eine Y-Achse und eine Z-Achse an der Oberfläche des Substrats 11 dargestellt. Das so hergestellte
Substrat wird im folgenden als X-Schnitt-LLTaO,-Substrat bezeichnet. Die Fingerelektroden 12a und 1^a zweier Paare von
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fingerartig verschachtelten Kammelektroden 12, I3 sind auf
der Oberfläche des Substrats 11 unter einem rechten Winkel
zu einer Geraden 17 angeordnet, die in einer Richtung θ von 112,2° zur Y-Achse verläuft, so daß eine Oberflächenwelle
in einer Richtung θ von 112,2° zur Y-Achse angeregt werden kann. Die Kammelektrode 12 ist hierbei ein vorbestimmtes
Stück s von der anderen Kammelektrode \~$ entfernt. Folglich
kann das piezoelektrische Substrat 11 längs der gestrichelten Linie 16 in Fig. 1 geschnitten werden, wobei
die Gerade I7 die Längsrichtung der resultierenden, geschnittenen Konstruktion bestimmt. Das angegebene LiTaO., kann
in reiner Form vorliegen oder z.B. I00 - j5°° Ppm (Teile pro
Million Teile) Al, 1o - 30 ppm Ca, 1o ppm Cr, 3 - 1o ppm Cu,
1o - 30 ppm Fe, I000 ppm K, J>
- 1o ppm Mg, 1o - 30 ppm Mn,
300 ppm Na, 1o ppm Nb sowie 1o - J>o ppm Si allein oder in jeder
beliebigen Kombination als Fremdatom enthalten. Die gleiche Wirkung kann erzielt werden, wenn Rh, Pt, Mo, W usw., von
außen zugesetzt oder aus dem Tiegelmaterial beim Herstellungsverfahren gebildet, jeweils allein oder in Kombination
als Fremdatom dem LiTaO, zugemischt werden. Die Gesamtmenge an Verunreinigungen bzw. Fremdatomen sollte vorzugsweise
unter 24oo ppm liegen.Das angegebene LiTaO, ist also ein solches mit diesen Fremdatomen.
Der genannte Ausdruck "X-Schnitt" bezieht sich auf alle Fälle,
in denen die X-Achse nach der IRE-Norm senkrecht unter einem Winkel von 9°° *1o° zur Ebene des gemäß Fig. 1 geschnittenen
Substrats verläuft. Im Fall der nach der IRE-Norm mit X, Y
und Z angegebenen Achsen wird das Substrat, genauer gesagt, gemäß Fig.2 innerhalb eines Kegels 14 geschnitten, der einen
Winkel von -1o° zur X-Achse auf der XYZ-Koordinate beschreibt, wobei der Schnittpunkt der X-, Y- und Z-Achsen als Mittelpunkt
dient. Bei dem senkrecht gegenüber der im Kegel 14
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vorhandenen X'-Achse geschnittenen Substrat 11 wird beispielsweise
eine Verlagerung zu einer Ebene Y1Z vorgenommen. Die genannte Y-Achse ist in diesem Fall die echte Y-Achse,
projiziert auf die X-Schnitt-Substratebene. Bezüglich der
von der X-Achse verschobenen X1-Achse wird eine durch Projektion
der entsprechenden Y'-Achse auf die Ebene des Substrats 11 erhaltene Achse Y11 als die echte Y-Achse ausgedrückt.
Fig. 3 zeigt eine durch Versuche erhaltene Kennlinie der
Beziehung zwischen dem Temperaturkoeffizienten der Verzöge rungs- oder Verzugszeit und der Ausbreitungsrichtung (d.h.
der Oberflächenwellen-Ausbreitungsrichtung θ entsprechend
dem Winkel der Linie 17 relativ zur Y-Achse) einer elastischen Oberflächenwelle auf dem X-Schnitt-LiTaO^-Substrat
Gemäß Fig. 3 zeigt der Temperaturkoeffizient die kleinsten
Werte, wenn die Oberflächenwellen-Ausbreitungsrichtung unter 112,2° (vergl. Fig. 1) und 147,8° zur Y-Achse liegt. Anhand
der Kurve von Fig. 3 läßt sich feststellen, daß dann, wenn sich eine elastische Oberflächenwelle in einer Richtung θ
von 112,2° und 147,8° zur Y-Achse ausbreitet, eine Vorrichtung für elastische Oberflächenwellen mit guten Temperatureigenschaften
erzielt werden kann.
Fig. 1 zeigt eine solche Vorrichtung mit auf 112,2 eingestellter Oberflächenwellen-Ausbreitungsrichtung, bei welcher
der Temperaturkoeffizient klein ist. Eine Messung des Frequenzgangs lieferte die ausgezeichneten Ergebnisse gemäß
Fig. 4. Hierbei bedeutet die Oberflächenwellen-Ausbreitungsrichtung
(Θ = 112,2°), daß sich die elastische Oberflächenwelle
vom Kammelektrodenpaar 12 zum Kammelektrodenpaar 13
ausbreitet. Das gleiche Ergebnis wird auch erzielt, wenn sich eine Oberflächenwelle vom Kammelektrodenpaar 13 zum
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Kammelektrodenpaar 12 ausbreitet. In diesem Fall liegt die Ausbreitungsrichtung bei θ = 112,2° + 18o° = 292,2°. Die
ausgezogene Kurve gemäß Fig. 4 ist eine Auswertung des Pegels eines elektrischen Signals, das am Kammelektrodenpaar
13 erscheint, wenn ein Signal mit einer Frequenz von 44 66
MHz an das Kammelektrodenpaar 12 auf der Vorrichtung gemäß Fig. 1 angelegt wird. Die Vorrichtung für elastische
Oberflächenwellen besitzt einen Durchlaßbereich von etwa 52 - 57 MHz mit einer außerhalb des Bandpasses bzw. Durchlaßbereiches
liegenden Dämpfungsbereich.Aus der Kurve gemäß Fig. 4 geht hervor, daß Neben- oder Streuwellen im Dämpfungsbereich klein sind und innerhalb praktischer Grenzwerte
liegen. Die gestrichelte Kurve gemäß Fig. 4 gibt den Frequenzgang für den Fall an,daß ein OberfIachenweIlen-Dämpfungsmaterial
in kleiner Menge auf den vom Kammelektrodenpaar 12 zum Kammelektrodenpaar I3 verlaufenden Oberflächenwellen-Ausbreitungspfad
aufgebracht wird. Im Hinblick darauf, daß das Ansprechen durch lediglich das Oberflachen-Dämpfungsverfahren
innerhalb und außerhalb des Durchlaßbereiches praktisch im gleichen Ausmaß gedämpft wird, ist es denkbar,
daß das Ansprechverhalten außerhalb des Durchlaßbereichs sowie dasjenige innerhalb des Durchlaßbereichs hauptsächlich
für die Ansprechcharakteristik der Oberflächenwelle verantwortlich
sind. Ersichtlicherweise besitzt somit die AusfUhrungsform
gemäß Fig. 1 nicht nur einen kleinen Temperaturkoeffizienten, sondern auch eine gute Gesamt-Nebenansprechcharakterlstik.
Die Fig. 5 bis 1o veranschaulichen den Frequenzgang bei
verschiedenartiger Änderung der Oberflächenwellen-Ausbreitungsrichtung
θ innerhalb eines praktischen Bereichs, so daß der Temperaturkoeffizient (Fig. 3) beispielsweise unter etwa
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J54 ppm'°C gehalten wird. Hierbei ist zu beachten, daß,
wie in Verbindung mit Flg. 4 erläutert, dasselbe Ergebnis dann erzielt wird, wenn anstelle des Winkels θ der Winkel
θ + I8o° zur Y-Achse angewandt wird. Der Einfachheit halber bezieht sich jedoch die folgende Beschreibung lediglich
auf den Winkel Θ. Ähnliches gilt aber auch für den Winkel 0 + I8o°.
Für θ = 67,8° ist der Frequenzgang der Vorrichtung für elastische Oberflächenwellen als ausgezogene Linie in Fig.
eingezeichnet, während die gestrichelte Linie den Frequenzgang für den Fall angibt, daß eine kleine Menge eines die
Oberflächenwellen dämpfenden Materials auf die Oberflächenwellen-Ausbreitungsstrecke
aufgebracht wird. Als Dämpf ungsmaterial kann beispielsweise ein gummiartiges Klebmittel
benutzt werden, wie es im Handel unter der Bezeichnung "Cemedine Contact" erhältlich ist. Das Dämpfungsmaterial
wird mit Hilfe eines dünnen, mit Baumwolle (Watte) belegten Stäbchens aufgestrichen. Bei kontinuierlicher Änderung der
Frequenz von 48 MHz auf 68 MHz ist die Dämpfung derart, daß ein Durchlaßbereich im Bereich von etwa 5° - 55 MHz bei
unter etwa 50 dB vorhanden ist. Wenn hierbei das die Oberflächenwelle
absorbierende Material zwischen den Elektrodenpaaren 12 und 13 aufgestrichen wird, um die Oberflächenwelle
geringfügig zu dämpfen, wird die Kennlinie gemäß den gestrichelten Linien in Fig. 5 erhalten, wobei ein Nebenansprechen
aufgrund der Gesamtwelle bei -2o dB vorhanden ist, Bei θ = 67,8° hat es sich gezeigt, daß die Vorrichtung eine mangelhafte
Nebenansprechcharakteristik unabhängig davon besitzt, daß der Temperaturkoeffizient der Verzögerungszeit einen
für praktische Zwecke ausreichend kleinen Wert besitzt.
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Fig. 6 zeigt den Frequenzgang der Vorrichtung beim Winkel
θ = 8o°. Bei kontinuierlicher Änderung der Frequenz im Bereich von 51 - Jo MHz ist die Dämpfung derart, daß ein
Bandpaß bzw. Durchlaßbereich in einem Bereich von etwa 53 - 57 MHz unterhalb von etwa 5o dB vorhanden ist, während
das Nebenansprechen, wie dargestellt, in diesem Bereich unter J>o dB liegt. Die gestrichelte Linie zeigt den
Frequenzgang bei Dämpfung der Oberflächenwelle um einen kleinen Betrag. Aus den Fig. 5 und 6 ist ersichtlich, daß
bei einem Winkel von θ = 8o eine Vorrichtung für elastische Oberflächenwellen mit besserer Dämpfungscharakteristik
als bei θ = 67,8° erhalten wird.
Flg. 7 zeigt den Frequenzgang von Oberflächenwelle und
Gesamtwelle (bulk wave) bei einem Winkel θ von 11o,2°. Bei kontinuierlicher Änderung der Frequenz im Bereich von 51 7o
MHz ist die Oberflächenwellendämpfung derart, daß ein
Durchlaßbereich im Bereich von etwa 53 - 57 MHz unter 50 dB
vorhanden und das Nebenansprechen ausreichend klein ist. Der Pegel des Gesamt-Nebenwellenansprechens ist unter -J>o dB
gegenüber dem Oberflächenwe1lenansprechen vorhanden. Ersichtlicherweise
wird somit bei einem Winkel θ = 11 ο,2 eine
Vorrichtung für elastische Oberflächenwellen mit besserer
Charakteristik erhalten.
Fig. 8 zeigt den Frequenzgang der Vorrichtung beim Winkel O = 142°. Die Dämpfung der Oberflächenwelle bei kontinuierlicher
Änderung im Bereich von 50 - 70 MHz ist dabei derart,
daß ein Durchlaßbereich im Bereich von etwa 52-57 MHz unter etwa 50 dB vorhanden ist. Die in Fig. 8 in gestrichelter
Linie dargestellte Kennlinie wird bei Dämpfung der Oberflächenwelle auf vorher beschriebene Weise erhalten, und
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diese Kennlinie zeigt an, daß ein von jedem Einfluß des Oberflächenwellen-Absorptionselements freier Ansprechabschnitt
an der Hochfrequenzseite in unmittelbarer Nähe des Durchlaßbereichs vorhanden ist. Dies bedeutet, daß das
Nebenansprechen an der Hochfrequenzseite des Durchlaßbereichs hoch ist. Vom Standpunkt des Frequenzgangs erhöht
sich das Nebenansprechen bei einem Winkel θ von 142 auf
einen praktisch nicht zulässigen Wert. Bei Vergrößerung des Winke
zu" hoch.
zu" hoch.
des Winkels θ über 142° ist das Nebenansprechen ebenfalls
Die Zunahme des Nebenansprechens bei einem Winkel θ von mehr als 142° geht aus den Frequenzkurven gemäß den Fig. 9
und 1o noch deutlicher hervor. Fig. 9 gilt für den Fall θ =
147,8°, und Fig. 1o gilt für 0 = I780. In jedem Fall erhöht
sich das Gesamtwellen-Nebenansprechen an der Hochfrequenzseite des Oberflächenwellenansprechens übermäßig stark, so daß
die praktische Anwendung als Vorrichtung für elastische Oberflächenwellen unmöglich wird.
Fig. 11 ist eine graphische Darstellung des Frequenzgangs einer in Form einer Kombination der Fig. 4 bis 1o erhaltenen
Vorrichtung für elastische Oberflächenwellen, wobei in Fig.
die Oberflächenwellen-Ausbreitungsrichtung θ auf der Abszisse und der Gesamt-Nebenansprechpegel (relativer Pegel in bezug
auf den Durchlaßbereichpegel) auf der Ordinate aufgetragen sind. Eine Betrachtung von Fig. 11 zeigt, daß der Bereich
der Ausbreitungsrichtung 9 für relative Streusignal- bzw. Nebensignalpegel von weniger als 4o dB von etwa 75° bis etwa
133° reicht. Wenn die Ausbreitungsrichtung θ in diesem Bereich
festgelegt wird, kann eine Vorrichtung für elastische Oberflächenwellen mit besserem Frequenzgang (Nebenwellen-Unterdrückungscharakteristik)
erhalten werden. Das gleiche Ergebnis
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kann bei θ = 75° + I8o° bis θ = 153° + I8o° erzielt werden.
Im Fall von 75° < θ < 133° besitzt die Temperaturcharakteristik
oder -kennlinie der Verzögerungszeit gemäß Fig. 3 einen ausreichend kleinen Wert, nämlich von unter }4 ppm ' C,
bei welchem vom praktischen Standpunkt eine bessere Charakteristik erreicht wird.
Die graphische Darstellung von Fig. 12 zeigt die Beziehung zwischen dem piezoelektrischen Kopplungswirkungsgrad der
Oberflächenwellenvorrichtung und der Ausbreitungsrichtung
θ auf dem X-Schnitt-LiTaO,-Substrat. Der Kopplungskoeffizient
liegt in einem Maximalbereich von θ zwischen etwa 72° und I4o°. Der Bereich von 72°<
9<i4o°, bei dem maximaler Kopplungswirkungsgrad erreicht wird, entspricht vom
Standpunkt des Frequenzgangs (Fig. 11) praktisch dem Winkelbereich von 75°<θ<
133°. Durch Wahl des Winkels 0 im
Bereich von 75 < Θ-<Γ 133 kann ersichtlicherweise eine
Vorrichtung für elastische Oberflächenwellen erzielt werden,
die verbesserte Charakteristika bezüglich des Nebenansprechens, der Temperaturkennlinie und des Kopplungskoeffizienten
(d.h. des Kopplungswirkungsgrads) besitzt.
Fig. 13 zeigt die Temperaturdrift-Kennlinie der als Durchlaßbereich
(54,6 - 54,7 MHz) gewählten Mittelfrequenz eines Zwischenfrequenz- bzw. IF-Filters für einen Farbfernsehempfänger,
wobei dieses Filter aus einer Vorrichtung für elastische Oberflächenwellen gebildet ist, bei welcher der
Winkel θ gemäß Fig. 1 mit Q = 112,2° gewählt ist. Wie aus Fig. 13 hervorgeht, variiert die Mittelfrequenz auch bei
einer Temperaturänderung im Bereich von -2o° bis 800C in
einem Bereich von etwa -0,38 MHz, so daß eine ausgezeichnete
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Teraperaturdriftcharakteristik erzielt wird.
Bei der Ausführungsform gemäß Fig. 1 besitzt die Vorrichtung die folgenden, in Fig. 1 und 2 angegebenen, typischen
Abmessungen:
S | = 1,2 nun |
1 | 1 5 nun |
W | = 2,5 mm |
t | o, 37 mm |
s den Abstand zwischen den Kammelektroden,
1 die Länge der geschnittenen Vorrichtung,
w die Breite der geschnittenen Vorrichtung und
t die Dicke der Vorrichtung
bedeuten.
Bei der erfindungsgemäßen Vorrichtung für elastische Oberflächenwellen
breitet sich die elastische Oberflächenwelle in einer Richtung von 75°<
θ < 1JJ0 und (75 + i8o)°<T θ <
(133 + I8o)° zur Y-Achse auf dem X-Schnitt-UTaO^-Substrat
aus, so daß eine ausgezeichnete Vorrichtung für elastische Oberflächenwellen mit hoher Leistung erzielt werden kann,
die einen hohen piezoelektrischen Kopplungskoeffizienten, eine geringe Temperaturdrift der Oberflächenwellen-Mittelfrequenz,
ein geringes Neben ansprechen und einen kleinen Temperaturkoeffizienten der Verzögerungszeit besitzt.
Zur allgemeinen Information in Hinblick auf den Erfindungsgegenstand
sei auf die Arbeiten "Physical Acoustics", herausgegeben von Warren P. Mason, Band 1 - Teil A, 1964,
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Academic Press, und "Design of Resonant Piezoelectric Devices", Richard Holland und E.P. EerNisse, Research Monograph
Nr. 56, The M.I.T. Press, I969, verwiesen.
Obgleich die Erfindung vorstehend in einer speziellen Ausführungsform
offenbart ist, sind dem Fachmann selbstverständlich verschiedene Änderungen und Abwandlungen möglich,
ohne daß vom Erfindungsrahmen abgewichen wird.
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Claims (1)
- Henkel, Kern, Feuer £r Hänzel Patentanwälter,-. u , τ.- Möhlstraße37Tokyo Shibaura Electric Co., Ltd., D-8000 München 80Kawasaki -shi, Japan Tel.-089/982085-87Telex: 0529802 hnkld Telegramme: ellipsoidPATENTANSPRÜCHEVorrichtung für elastische Oberflächenwellen, dadurch gekennzeichnet , daß sie mindestens einen Wandler aufweist, bei dem sich eine elastische Oberflächenwelle in einer Richtung von 75 - 133 oder von (75 + 18o)° - (133 + 18o)° zu einer Y-Achse auf einem X-Schnitt-Lithiumtantalat- bzw. -LiTaO-,-Substrat ausbreitet, und daß der LiTaO,-Kristall gemäß der IRE-Norm senkrecht längs der X-Achse unter einem Winkel von
+1o zum Substrat geschnitten und die Y-Achse gemäß
der IRE-Norm eine auf das X-Schnitt-Substrat projizierte Achse ist.Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß sie eine Ausbreitungsrichtung der elastischen Oberflächenwelle von etwa 112,2 zur Y-Achse des X-Schnitt-Lithiumtantalatsubstrats besitzt.Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch g ek e η η zeichnet, daß die Ausbreitungsrichtung der
elastischen Oberflächenwelle im Bereich von 11o,2
bis 112,2° liegt.709839/1000Bl egORIGINAL INSPECTEDVorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie eine Ausbreitungsrichtung der elastischen Oberflächenwelle von etwa 292,2° zur Y-Achse des X-Schnitt-Lithiumtantalatsubstrats besitzt.5· Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Ausbreitungsrichtung der elastischen Oberflächenwelle im Bereich von 290,2 292,2° liegt.6. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß auf dem Substrat zwei auf Abstand voneinander angeordnete und in der Ausbreitungsrichtung aufeinander ausgerichtete Elektroden angeordnet sind.7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Elektroden fingerartig verschachtelte bzw. Kammelektroden sind.8. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Kammelektroden jeweils mehrere langgestreckte Finger- bzw. Kammelektroden umfassen, die praktisch senkrecht zur Ausbreitungsrichtung angeordnet sind.9· Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung für elastische Oberflächenwellen, dadurch gekennzeichnet, daß zunächst ein X-Schnltt-Lithiumtantalat- bzw. LiTaO -Substrat hergestellt wird, das nach der IRE-Norm senkrecht unter einem Winkel von -1ο zum Substrat längs der X-Achse geschnitten ist, und daß auf709839/1000dem Substrat zwei Abstand voneinander besitzende Elektroden angeordnet werden, die längs einer Ausbreitungsrichtung von 75 - 1^0° oder von (75 + I8o)° bis (153 + 18o)° zu einer Y-Achse auf dem X-Schnitt-Substrat ausgerichtet sind, wobei die Y-Achse nach der IRE-Norm eine auf das X-Schnitt-Substrat projizierte Achse ist.1o. Verfahren nach Anspruch 9» dadurch gekennzeichnet, daß die beiden Elektroden längs einer Ausbreitungsrichtung von etwa 112,2° zur Y-Achse des X-Schnitt-Substrats angeordnet werden.11. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet , daß die beiden Elektroden längs einer Ausbreitungsrichtung im Bereich von 11o,2 - 112,2° angeordnet werden.12. Verfahren nach Anspruch 9» dadurch gekennzeichnet , daß die beiden Elektroden längs einer Ausbreitungsrichtung von etwa 292,2° zur Y-Achse des X-Schnitt-Substrats angeordnet werden.Verfahren nach Anspruch 9» dadurch gekennzeichnet, daß die beiden Elektroden längs einer Ausbreitungsrichtung im Bereich von 29o,2 - 292,2° angeordnet werden.709839/ 1000
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