DE2709554C2

DE2709554C2 - Graviervorrichtung

Info

Publication number: DE2709554C2
Application number: DE19772709554
Authority: DE
Inventors: Hans-Peter Thun Lörtscher; Jürg Dr. Sigriswil Steffen
Original assignee: Lasag AG
Current assignee: Asulab AG
Priority date: 1976-03-10
Filing date: 1977-03-04
Publication date: 1983-09-08
Also published as: DE2709554A1; CH612376A5; GB1567698A

Description

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Die Erfindung bezieht sich auf eine Graviervorrichtung der im Oberbegriff des Patentanspruchs 1 beschriebenen, aus der DE-OS ?? 41 850 bekannten Art

Bei der bekannten Graviervorrichtung ist der früher übliche mechanische Stichel d*~ch den Laserstrahl ersetzt Der Druckzylinder ist drehbar gelagert und dreht sich während der Gravur. Der Laserstrahl ist während der Gravur eines auf die Druckform zu gravierenden Näpfchens fortlaufend ablenkbar, so daß er dem sich bewegenden Näpfchen innerhalb enger Grenzen folgen kann. Hierdurch wird innerhalb der durch die Drehgeschwindigkeit des Druckzylinders vorgegebenen Grenzen eine längere Bearbeitung einer diskreten Stelle der Druckform ermöglicht.

Ebenso wie die einen mechanischen Stichel aufweisenden Graviervorrichtungen hat die bekannte Graviervorrichtung den Nachteil, daß die gesamte Druckform überfahren und abgetastet werden muß, so daß es nicht möglich ist, nicht zu gravierende Flächen zu überspringen. Hierdurch ist die Bearbeitungsdauer unabhängig von der Größe der zu gravierenden Fläche fest vorgegeben. Darüberhinaus ist die Bearbeitungsdauer eines diskreten Punktes auf der Druckform auf verhältnismäßig geringe Zeiten begrenzt.

Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, einen Gravierautomaten zu schaffen, der eine Beschleunigung des Graviervorganges bei beliebig langer Bearbeitungszeit eines diskreten Punktes auf der Druckform ermöglicht.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die im Patentanspruch 1 angegebenen Merkmale gelöst.

Bei der erfindungsgemäßen Graviervorrichtung kann der Druckzylinder während der Bearbeitung der Druckform stillstehen. Durch entsprechende Steuerung des Laserstrahls können nicht zu gravierende Flächen übersprungen werden, so daß die Bearbeitungszeit bei nicht zu gravierenden Flächen erheblich verkürzt werden kann. Schließlich kann der Laserstrahl beliebig

lange auf die Druckform fokussiert werden.

Eine bevorzugte Weiterbildung der erfindungsgemäßen Graviervorrichtung ist Gegenstand des Patentanspruchs 2.

Anhand der in der Zeichnung dargestellten Ausführungsbeispiele wird die Erfindung näher erläutert. Es zeigt

F i g. 1 die schematische Seitenansicht einer Graviervorrichtung,

Fig.2 die schematische Seitenansicht eines als Reflektor ausgebildeten Strahlerweiterungselements,

Fig.3 eine zweite Ausführungsform des Strahlerweiterungselements,

Fig.4 eine dritte Ausführungsform des Strahlerweiterungselements und

F i g. 5 den Bearbeitungsvorgang bei der Erzeugung eines Näpfchens.

F i g. 1 zeigt schematisch die Seitenansicht einer Graviervorrichtung. Der die zu bearbeitende Druckform tragende Druckzylinder 1 ist unbeweglich eingespannt Er ist von einem Umlenkelement 2 umschlossen, das in Zyünderachsensrichtung gleitend gelagert ist, z. B. auf Gleitschienen 3. Die axiale Position sowie das Fortschreiten von einer zur anderen Position wird durch eine Kontrolleinheit 4 über eine Signalleitung 5 gesteuert, welche die Kontrolleinheit 4 mit dem Umlenkelement 2. insbesondere mit d-^sen Antrieb und dessen Positionskontrolleinrichtung, verbindet. Die Laserlichtquelle 6 erzeugt einen gepulsten Lasterstrahl, dessen Weg mit 7,8,9, 10 bezeichnet ist Dieser Strahl durchläuft zuerM ein Verschlußelement 11 und wird dann durch ein Spiegelsystem 12 auf ein Ablenkelement

13 gerichtet Hier wird die Strahlrichtung in Abhängigkeit des von der Kontrolleinheit 4 über die Signalleitung

14 dem Ablenkelement 13 übermittelten Befehls abgelenkt Die möglichen Strahlrichtungen befinden sich in erster Näherung auf dem Kegel, dessen Spitze ungefähr im Ablenkelement 13 liegt. Sein öffnungswinkel ist sehr klein.

Auf demselben Kegel befindet bich Umlenkelement 2, das heißt, daß das Ablenkelement 13 in der Druckzylinderachse angebracht ist Durch das Umlenkelement 2 wird der Strahl auf die Zylinderoberfläche umgelenkt und konzentriert, wobei die Ablenkung durch das Ablenkelement 13 auf einen Kegel, einer Spur auf dem Umfang des Zylinders entspricht. Bei Änderung des öffnungswinkels des Kegels, d. h. des Ablenkwinkels zur Zylinderachse, wird eine andere Spur auf der Zylinderoberfläche angesteuert. Um den Abstand zwischen Fokussierkopf 2 und Ablenkelement 13 nicht unverhältnismäßig groß machen zu müssen, wie es wegen des kleinen öffnungswinkels eigentlich nötig wäre, wird in Jen Strahlengang ein den Strahl nach außen verlegender Reflektor 15 eingebaut.

Das Arbeiten der Anlage geht folgendermaßen vor sich. Die Laserlichtquelle 6 erzeugt eine Impulsfolge, wobei die Intensität und Dauer jedes Impulses sowie die Folgefrequenz konstant sind. Typische Werte sind:

Energie eines Einzelimpulses 1 mj

Dauer eines Einzelimpulses ca, 0,6 μδ

Frequenz der Impulsfolge 300 kHz

d. h. Periode 3'/3 μ5

Dies ergibt eine mittlere Ausgangsleistung von 300 W. Zur Bildung eines maximal tiefen Näpfchens werden ungefähr 30 Einzelimpulse benötigt. Die Anzahl der auf denselben Rasterpunkt der Druckformoberflä-

ehe wirkenden Einzelimpulse ergibt eine proportionale Näpfchentiefe oder ein proportionales abgetragenes Näpfchenvolumen. Der wesentliche Vorteil der neuen Anlage besteht nun darin, daß der Strahl, sobald die dem gewünschten Abtragvolumen entsprechende Anzahl 5 Einzelimpulse auf einen Punkt eingewirkt hat, auf den nächsten Rasterpunkt abgelenkt wird.

Die Bearbeitung eines Näpfchens mit z. B. 10 Einzelimpulsen ist in Fig.5 dargestellt. Die auf die Oberfläche 71 einfallende Laserstrahlung 72 besitzt eine radiale Intensitätsverteilung I (r) entsprechend einer Gauss'schen Kurve 73 und besteht aus einem regulären Pulszug 74. Der Durchmesser 0 des Näpfchens ist durch den Strahldurchmesser auf der Oberfläche 71 und durch das zu bearbeitende Material gegeben.

Der erste Impuls, welcher eine Energie F. besitze, verdampft ein Volumenelement 75 der Dicke Δ entsprechend der Beziehung

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wobei L, diejenige Energie bedeutet welche benötigt wird, um 1 mm³ des Materials zu verdampfen. Für Kupfer beträgt L_r=54 Ws/mm³. Jeder folgende Impuls verdampft ein weiteres Volumenelement des Materials, so daß der zeitlich aufgelöste Bohrvorgang 76 entsteht Die Intensität der Impulse muß einerseits hoch genug sein, um im Material einen Absorptionszustand zu erzeugen, d. h. um z. B. die starke Reflexion von Kupfer zu überwinden. Die Intensität darf aber nicht zu hoch sein, um störende Nebenwirkungen wie z. B. Gasdurchbruch in der Dampfwolke zu vermeiden. Typischer Wert für Metalle ist z.B. 10* W/cm². Die Dauer τ jedes Impulses wird kleiner gewählt als die Zeitkonstante der Wärmeleitung /vv-tdes Materials

t_H,

wobei K die Temperaturleitfähigkeit bedeutet; für Kupfer ist K=1.05cm²/s. Der von einem Impuls erzeugte Abs^rptionszustand (erwärmte Materialschicht) besteht während einer Dauer ta, welche hauptsächlich durch die Wärmeleitung des Materials bestimmt wird:

Der nächste Impuls muß somit inne-halb der Zeit ta auftreffen, um absorbiert zu werden ohne von neuem einen Absorptionszustand erzeugen zu müssen.

Der Abstand zweier Impulse fs muß andererseits größer sein als die für das verdampfte Material benötigte Zeit fo zum Entweichen aus dem sich bildenden Lc"h:

/o< ts< ta.

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to ist typischerweiae 03 μβ. Die Korrelation zwischen der Tiefe des sich bildenden Loches Zund der Z^it t in 76 erlaubt somit die Bestimmung der Lochtiefe durch die Anzahl einwirkender Impulse.

Die Änderung der Ablenkrichtung durch das Ablenkelement wird innerhalb der '.wischen zwei oder einigen wenigen Einzelimpülsen zur Verfügung stehenden Zeit vorgenommen. Dadurch sind fast alle erzeugten Impulse zur Bearbeitung verwendbar. Im allgemeinen ist durchschnittlich nur ca. 10% des Volumens abzutragen, das dem Produkt aus maximal großem Näpfchenvolumen χ Anzahl Rasterpunkte pro Fläche entspricht. Deshalb ist es möglich, mi· der neuen Anlage im Mittel 10⁵ Näpfchen pro Sekunde zu formen. Bei 40 bis 50 Millionen Näpfchen pro m², ergibt das folglich eine Gravierzeit von 0,1 bis 0,14 Stunden pro m² oder eine Graviergeschwindigkeit von 7,2 bis 9 m² Druckformoberfläche pro Stunde, mit einer Laserausgangsleistung von 300 W.

In einer bestimmten Position des Umlenkelements 2 kann also durch praktisch masseloses Ablenken des Strahls 9 mit dem Ablenkelement 13 der Strahl 10 in eine beliebige Winkellage (Azimut), bezogen auf eine zur Druckzylinderachse senkrecht stehende Ebene, gebracht werden. Dann wird er durch das Umlenkelement 2 in eine radiale Richtung abgelenkt und auf die Druckformoberfläche fokussiert Somit ist es möglich, mit der oben angeführten Frequenz auf sämtlichen zu bearbeitenden Rasterpunkten auf einer kreisförmigen Rasterlinie die entsprechenden Näpfchen zu erzeugen. Die Näpfchen, die auf einer anderen (vorzugsweise der nächsten) kreisförmigen Rasterlinie zu bilden sind, werden erzeugt, nachdem das Umlenkelement 2 parallel zur Zylinderachse um eine dem Abstand zweier oder mehrerer Rasterlinien entsprechenden Distanz verschoben wurde. Diese Verschiebebefehle, ebtaso wie die Ablenkbefehle an das Ablenkelement 13 werden durch die Kontrolleinheit 4 abgegeben. Sie entsprechen dem zu druckenden Bild und sind in aufbereiteter Form in der Kontrolle.,theit vermittels an sich bekannter Elemente gespeichert Es sind Vorrichtungen bekannt die es gestatten, Druckbildvorlagen auf elektronische Weise abzutasten und die gelesene Information in Form elektrischer Signale zur Verfügung zu stellen. Durch den Aufbau dieser Vorrichtungen, weiche den eingangs erwähnten Anlagen entsprechen, d. h. bei denen die Druckvorlage auf einem Zylinder aufgebracht ist, der mit konstanter Drehzahl rotiert, wobei auf einem schraubenförmigen Weg abgetastet wird, liegt die Information über die Größe eines Näpfchens in Form eines entsprechenden, elektrischen Signals vor und die Information über den Ort desselben Näpfchens im Zeitpunkt, an dem das genannte Signal erzeugt, resp. Übermittel oder gespeichert wird. Das Aufbereiten dieser Information zur Verwendung mit der beschriebenen Anlage besteht nun darin, daß zur Information über die Größe, die Information über den Ort des Näpfchens dieser beigeordnet wird und zwar in Form einer doppelten Adresse. Die erste Adresse entspricht einer Koordinatenangabe längs des Druckzylinders und die zweite Adresse der Winkellage (Azimut) zur Ansteuerung des Ablenkelementes. Rasterpunkte, bei denen kein Näpfchen gebildet werden soll, werden somit unterdrückt. Die Arbeitstoefehle an die Anlage erfolgen so, daß zuerst die beiden Adressen an das Umlenkelement 2 und das Ablenkelement 13 gegeben werden. Bis diese sich in den entsprechenden Stellungen befinden, werden die vom Laser ausgehenden Lichtimpulse unterdrückt, z. B. durch ein Auslenken durch das Verschlußelement Ii in ein Licht absorbierendes Element. Dann werden die der Näpfchengröße entsprechende Anzahl Lichtimpulse auf den eingestellten Rasterpunkt durchgelassen und so das Näpfchen geformt. Darauf erfolgt derselbe Zyklus für den nächsten zu bearbeitenden Rasterpunkt.

Die Verschiebung des Umlenkelements 2ö erfolgt also schrittweise in Abhängigkeit der ersten Adreßangabe. Dazu kann ein elektrischer oder hydraulischer Schrittmotor verwendet werden. Unter Annahme einer konstanten Beschleunigung und Verzögerung, einem Schritt von Ui mm und einer Verschiebungsdauer von

3 jis, erhall man Werte für die Beschleunigung und Verzögerung von der öfachen Erdbeschleunigung. Dies liegt im Rahmen üblicher Werte.

Die Anlage kann aber auch so betrieben werden, daß mehrere Raslerlinien in Umfangsrichtung mit ein und derselben Position des Umlenkelements 2 bearbeitet werden. Der Sprung von einer zur andern Linie erfolgt dann durch Ändern des öffnungswinkels des Ablenkkegels, d. h. durch eine Ablenkung um einen größeren Winkel mittels des Ablenkungselementes 13. Eine solche Winkeländerung ist allerdings nur in einem relativ schmalen Bereich, typisch 100 Linien, möglich, der begrenzt wird durch die optischen Eigenschaften des Umlenkelements 2. Deshalb wird das Umlenkelement 2 sobald dieser Bereich durchfahren ist, wiederum schrittweise dem Druckzylinder 1 entlang verschoben, diesmal aber um einen Weg, der einer ganzen Anzahl Rasterlinien-Abstände entspricht. Eine solche Arbeitsweise bedingt eine zusätzliche Steuerfunktion der Kontrolleinheit 4. Die einem bestimmten Näpfchen (d. h. der Information über seine Größe) zugeordnete erste Adresse, welche seiner Koordinate längs des Druckzylinders I entspricht, muß nun zuerst mit der Position des Umlenkelements 2 verglichen werden. Fällt sie in den mit dein Umlenkelement 13 erreichbaren Bereich, so wird das Umlenkelement 2 nicht verstellt. Andernfalls wird dieser zuerst um den oben erwähnten Betrag weitergeschoben. Dann wird von der Näpfchen-Koordinate die Koordinate des Umlenkelements 2 substrahiert und die so erhaltene relative Koordinate in einen öffnungswinkel umgerechnet und dem Ablenkelement 13 als Steuerbefehl zugeführt.

Es ist auch möglich, daß Umlenkelement 2 mit kontinuierlich variabler Geschwindigkeit zu verschieben. Die gespeicherten Befehlsdaten müssen dann vorerst so aufgearbeitet werden, daß zuerst bestimmt wird, wie lange das Umlenkelement 2 im Bereiche einer jeden Rasterlinie verbleiben muß. Dazu ist es nötig, die Anzahl der Impulse zur Bildung aller sich auf dieser Linie befindlichen Näpfchen zu ermitteln. Das ergibt die Bearbeitungszeit. Dazu gezählt wird nun die Schaltzeit. die nötig ist um das Ablenkelement 13 über alle diese Näpfchenpositionen zu schalten. Diese Gesamtzeit für eine Rasterlinie erlaubt es nun, die maximale Geschwindigkeit des Umlenkelements 2 im Bereich dieser Linie zu berechnen. Die Berechnung für alle aufeinanderfolgenden Rasterlinien gestattet schließlich, das Fahrprogramm für das Umlenkelement 2 zu erstellen. Dadurch wird es möglich, ohne die prinzipiellen Vorteile der neuen Druckzylinderbearbeitung aufzugeben, kleinere und schwächere Antriebsmotoren für das Umlenkelement zu verwenden und kleinere Kräfte auf dieses einwirken zu lassen.

Es ist natürlich auch möglich, die neue Anlage mit dem herkömmlichen Verfahren zu betreiben. Dann kann auf Datenspeicher verzichtet werden. Das Ablenkelement 13 lenkt dann den Strahl kreisförmig in Synchronismus mit der Rotation des Vorlage- und Ablesezylinders ab und das Umlenkelement 2 wird mit konstanter Geschwindigkeit verschoben. Ablesen und Gravieren erfolgen somit völlig synchron. Eine weitere Variante besteht darin, daß der Abtastvorgang schneller und gegenüber der Gravur im voraus arbeitet so daß nicht zu bearbeitende Flächen von der Graviervorrichtung übersprungen werden können. In diesem Fall wird ein kleinerer Datenspeicher notwendig. Diese Verfahren nützen nicht alle Vorteile der neuen Vorrichtung und werden wohl nur dann eingesetzt, wenn die Bearbeitungsdauer nicht von entscheidender Bedeutung ist, und wenn die Investition in Datenspeicher nicht möglich ist.

Die neue Vorrichtung bietet noch weitere Vorteile.

-, Anhand des aufbereiteten Programms kann die Bearbeitung.szeit, die zur Gravur einer Druckform nötig ist, zum voraus angegeben werden. Weiter ist sofort die Angabe des total abzutragenden Näpfchenvolumens erhältlich, welche ein direktes Maß ist für die zum

in Drucken nötige Druckfarbmenge. Durch die zeitliche und örtliche Trennung vom Ablesen der Druckvorlage und Gravur der Druckform ist es möglich, entweder im Satellitenbetrieb gleichzeitig an verschiedenen Orten gleiche Druckformen zu gravieren oder aber das

ρ, Befehlsprogramm an verschiedene Orte zu übermitteln, dort zu speichern und auf Abruf zur Gravur zu verwenden.

Der Reflektor 15 hat nicht nur die Aufgabe, die Baulänge der Anlage zu verkürzen, sondern vorteilhaf- >o terweise wird der Strahl auch so umgelenkt, daß er auf einer Zylinderfläche koaxial um den Druckzylinder 1 zu liegen kommt. Der Auftreffpunkt auf dem Umlenkelement 2 liegt dann auf einer Kreislinie, die nicht mehr von der Position des Umlenkelements 2 abhängt, d. h. von j-, dessen Abstand von der Kegelspitze.

Beim beschriebenen Betriebsverfahren, wo mehrere Rasterumfangslinien in einer Position des Umlenkelements 2 geschrieben werden, d. h. bei dem der öffnungswinkel des Kegels durch das Ablenkelement 13 jo verändert wird, kommt dann der Strahl nach Durchlaufen des Reflektors 15 auf eine Kegelfläche mit einem vom ursprünglichen Kegelöffnungswinkel abhängenden positiven oder negativen Öffnungswinkel.

Eine mögliche Ausführungsform des Reflektors 15 zeigt F i g. 2. Dieses rotationssymmetrische, optische Element besitzt eine Symmetrieachse 21, welche auf der Druckzylinderachse liegt. Der Strahl 25 ist der aus dem Ablenkelement Ii austretende Strahl, weicher in Fig. i mit der Referenznummer 9 bezeichnet ist. Der austretende Strahl 26 entspricht dem Strahl 10. Das Element besteht hauptsächlich aus einer Scheibe 22 aus optisch transparentem Material. Beide Scheibenflächen sind mit einem reflektierenden Überzug 23 bzw. 24 versehen, d. h. beschichtet. Auf der Strahleintrittsfläche fehlt dieser Überzug in der nächsten Umgebung des Scheibenzentrums, so daß der Strahl ins Element eintreten kann. Auf der Strahlaustrittsfläche ist gleichermaßen eine schmale Ringfläche 27 am Rande nicht reflektierend. Der eingefallene Strahl wird somit solange zwischen den beiden planparallelen Scheibenflächen hin- und herreflektiert, bis er auf die RinfTäche 27 auftrifft wo er aus dem Element austreten kann. Um nun die oben erwähnte zusätzliche Umlenkung auf eine der Zylinderachse parallele Richtung zu erhalten, wird diese Ringfläche 27 kegelförmig geschliffen. Der kompakten Bauart dieser Ausführungsform steht der Nachteil entgegen, daß der Strahl sehr viele Reflexionen erleidet welche nie ohne alle Verluste ausgeführt werden können. Dies kann zu erheblichen Strahllei- M stungsverlusten und zu thermischen Problemen führen. Dem Element vorgeschaltet ist noch eine Linse 28. Ihre Funktion ist eine Beeinflussung nicht nur der Richtung des Strahls, sondern dessen Divergenz, d. h. öffnungswinkel, zur Erreichung des gewünschten ,5 Näpfchendurchmessers auf der Druckzylinderoberfläche. Die Linse 28 erzeugt eine Strahitaiiie, die sich nach dem Umlenkelement 2 befindet Unter gewissen Umständen kann es nötig werden, an Stelle einer

einfachen Linse ein optisches System zu benutzen, welches die Divergenz des Strahls verändern kann und eine variable Brennweite aufweist. Die Brennweite muß dann in Abhängigkeit von der Weglänge des Strahls, d. h. von der Position des Umlenkelements 2, gesteuert werden. Diese Steuerung wird natürlich auch von der Kontrolleinheit 4 besorgt. Die Berechnung der Linse 28 oder de erwähnten optischen Systems kann anhand der Theorie über die Ausbreitung Gauss'scher Strahlen vorgenommen werden.

Die Ausführungsiorm der Fig.3 des Reflektors vermindert die Verluste. Er besteht hauptsächlich aus zwei asphärischen Ringspiegeln 33 und 34, welche wiederum bezüglich der Kegel-, resp. Druckzylinderachse 31 rotationssymmetrisch sind. Der eintretende Strahl 35 wird durch den inneren Spiegel 33 auf eine angenähert radiale Richtung umgelenkt, trifft dann auf den äußeren Spiegel 34 und wird durch diesen auf die zur Rotationsachse parallele Richtung 36 umgelenkt. Auch hier ist eine Linse 32 vorgeschaltet, die dieselbe Funktion hat wie 28 von F i g. 2.

Eine weitere Ausführungsform des Reflektors zeigt Fig. 4. Er erzeugt kleinere Verluste als der Reflektor der Fig. 2 und ist einfacher herzustellen als der der Fig.3. Er besteht aus einer sphärischen Konkav-konvex-Linse 62 aus optisch transparentem Material. Beide sphärischen Flächen 63 und 64 sind mit maximal reflektierenden Schichten versehen. Die Strahleintrittsfläche, in der Umgebung der Rotationsachse 61 und die Strahlaustrittsfläche 67 sind mit einer Antireflexschicht belegt. Wie in Fig.2 wird die Strahlaustrittsfläche 67 kegelförmig angeschliffen, um einen zur Zylinderachse ■"· parallelen Austrittsstrahl 66 zu erhalten. Der einfallende Strahl 65 wird durch die Anordnung nur einige wenige Male hin- und herreflektiert, sodaß der Verlust klein bleibt. Vorgeschaltet ist in Fig.4 eine Linse 68 mit derselben Funktion wie 28 der Fig. 2. Derselbe Effekt

ίο kann aber auch erreicht werden durch eine Abstandsänderung der sphärischen Spiegelflächen 63 und 64, wobei dann der Reflektor aus zwei einzelnen Spiegeln bestehen muß.

Das Umlenkelement 2 führt im wesentlichen eine

r> Ablenkfunktion aus. Eine mögliche Ausführungsform besteht aus einem asphärischen Ringspiegel analog dem Spiegel 34 der Fig.3. Es ist auch möglich, einen kegelförmigen Spiegel mit einer nachgeschalteten, torusförmigen, doppelkonvexen Linse zu verwenden.

Die beschriebene Anlage erlaubt mit dem Strahlablenksystem die Bearbeitung von Rasterlinien einer beliebigen Richtung bezüglich des Zylinderumfanges, womit im 4-Farbendruck Fehler wie Moire und »Colour-Shift« vermieden werden können. Mit dem beschriebenen System können ohne Bewegung des Umlenkelements 2 mittels des Strahlablenksystems 13 z. B. 100 Rasterlinien entsprechend ca. 40 000 Näpfchen oder ca. IO~² m² Fläche graviert werden.

Hierzu 3 Blatt Zeichnungen

Claims

Patentansprüche:

1. Graviervorrichtung mit einem Druckzylinder (1) zur Aufnahme einer zu bearbeitenden Druckform, und mit einem Ablenkelement (13) für den auf die Oberfläche der Druckform fokussierten, in Umfangsrichtung des Druckzylinders führbaren Laserstrahl (7, 8, 9, 10) einer Laserlichtquelle (6), gekennzeichnet durch einen längs des Druckzylinders (1) beweglichen Schlitten, der ein den Druckzylinder (1) zumindest teilweise umgebendes Umlenkelement (2) trägt, wobei der Laserstrahl so ablenkbar ist, daß er eine Kegelmantelfläche beschreibt, deren Spitze in Verlängerung der Achse ir» des Druckzylinders (1) und deren Grundlinie auf dem Umlenkelement (2) liegt, so daß der vom Ablenkelement (13) ausgehende Laserstrahl (J, 8, 9, 10) über das Umlenkelement (13) auf einen ringförmigen Bereich des Druckzylinders (1) fokussiert wird.

2. Graviervorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen dem Ablenkelement (13) und dem Umlenkelement (2) weitere Reflektoren angeordnet sind, die den Laserstrahl (7,8,9,10) ringförmig von der Achse des Druckzylinders (1) nach außen verlegen.