CH643941A5 - Method and device for producing optical scales, and scale produced according to the method - Google Patents

Method and device for producing optical scales, and scale produced according to the method Download PDF

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CH643941A5 CH1023579A CH1023579A CH643941A5 CH 643941 A5 CH643941 A5 CH 643941A5 CH 1023579 A CH1023579 A CH 1023579A CH 1023579 A CH1023579 A CH 1023579A CH 643941 A5 CH643941 A5 CH 643941A5
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Elesta Ag Elektronik Bad Ragaz
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Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Herstellen von optischen Massstäben. The present invention relates to a method and an apparatus for producing optical scales.

Optische Massstäbe werden vielfach zur Steuerung von Werkzeugmaschinen verwendet. Optical standards are widely used to control machine tools. Bei einem bekannten Verfahren zur Herstellung von optischen Massstäben wird das in der Regel aus Glas bestehende, durchsichtige Substrat mit einer säureresistenten Schicht bedeckt. In a known method for producing optical scales the existing usually made of glass, transparent substrate is covered with an acid-resistant layer. Die einzelnen Teilstriche werden dann in diese Schicht eingeritzt, worauf dann durch The individual marks are then carved into this layer, after which by

Ätzen der eigentliche Messstrich auf der Glasoberfläche gebildet wird. Etching the actual measuring line is formed on the glass surface. Dieses Verfahren hat unter anderem den Nachteil, dass beim Ritzen feine Späne entstehen, die unter Umständen auf dem Teilstrich liegen bleiben und damit ein Ätzen ver-5 hindern. This method has inter alia the disadvantage that fine shavings produced during scribing, the lie may appear on the tick and thus prevent etching ver-fifth

Wenn es gelingt, einen solchen Massstab von hoher Genauigkeit und mit praktisch fehlerfreien Teilstrichen zu erzeugen, kann dieser als Original zur Herstellung von weiteren Massstäben auf optischem Wege dienen. If it is possible to create such a scale of high accuracy and virtually error-free graduations, this can serve as a stock for the production of other scales optically. Bei sogenannten io Kontaktverfahren wird der Originalmassstab auf ein weiteres Substrat, das eine lichtempfindliche Schicht aufweist, aufgelegt, worauf dann die Belichtung erfolgt und somit das Strichmuster auf das Substrat fotografisch übertragen wird. In so-called contact method io the original scale is on another substrate having a light-sensitive layer, applied, after which the exposure is carried out, and thus the bar pattern on the substrate is transferred photographically. Durch die anschliessenden Entwicklungsvorgänge wird dann ein 15 Massstab erzeugt, der eine Kopie des Originals darstellt. Through the subsequent development operations, a scale 15 is generated, which is a copy of the original.

Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung ein Verfahren zur Herstellung eines optischen Massstabes zu schaffen, It is an object of the present invention to provide a method for producing an optical measuring scale,

durch welches ein Massstab mit sauberen und genauen Teilstrichen rationell erzeugbar ist. through which a scale with clean and precise graduation lines is efficiently generated.

20 Gemäss der Erfindung wird dies dadurch erreicht, dass auf ein Substrat eine Beschichtung aufgetragen wird und dass dann mittels eines Laser- oder Elektronenstrahls eine Markierung durch lokales Verdampfen oder Umwandeln der Schicht erzeugt wird. 20 According to the invention this is achieved in that a coating is applied to a substrate and that generated by locally evaporating or converting the layer by means of a laser or electron beam, a mark. Die Verwendung eines Laser- oder Elektronen-25 Strahls hat den Vorteil, dass das Beschichtungsmaterial in der Gegend der Markierung verdampft und somit keine störenden Späne oder dergleichen übrig bleiben. The use of a laser or electron beam 25 has the advantage that the coating material is vaporized in the area of ​​the marking and thus no disturbing chips or the like left the advantage. Bei der Verwendung einer geeigneten Beschichtung kann nachher die Markierung durch Ätzen auf die Substratoberfläche direkt über-30 tragen werden. When using a suitable coating, the marking may be subsequently discharged through etching to the substrate surface directly over-thirtieth Es kann aber auch eine optisch wirksame Schicht verwendet werden, zB eine lichtundurchlässige Schicht, so dass die Strichmarkierungen dann als lichtdurchlässige Stellen erscheinen. but it can also be an optically active layer may be used, for example, an opaque layer so that the line markings then appear as translucent bodies. In diesem Falle ist der Massstab grundsätzlich ohne weitere Fertigungsvorgänge verwendbar. In this case, the scale can generally be used without further manufacturing operations. 35 Statt einer lichtundurchlässigen Beschichtung ist es auch möglich, eine lichtstreuende oder eine polarisierende Beschichtung zu verwenden. 35 instead of an opaque coating, it is also possible to use a light-scattering or a polarizing coating to be used. Es ist dann lediglich darauf zu achten, dass bei der Verwendung des Massstabes das optische Abtastorgan entsprechend ausgebildet ist, um die Markierun-40 gen festzustellen. It is then only necessary to ensure that in the use of the scale, the optical scanning element is formed according to the gen-40 Markierun determine.

Vorteilhaft wird die Beschichtung aus Wismut und Selen im Mischungsverhältnis zwischen 2,5 zu 1 und 3,5 zu 1 aufgedampft. the coating of bismuth and selenium is advantageously vapor-deposited in a mixing ratio between 2.5: 1 and 3.5: 1. Bei einer solchen Beschichtung liegt die Verdampfungstemperatur sehr günstig, so dass ein Laser mit relativ 45 kleiner Leistung Anwendung finden kann. In such a coating, the evaporation temperature is very low, so that a laser can be applied with a relatively small power 45. Die bei der Verdampfung entstehende Wärme ist dabei so gering, dass die Genauigkeit des Massstabes dadurch nicht beeinträchtigt wird. The resulting in the heat of evaporation is so low that the accuracy of the scale is not affected. Auch können hohe Herstellungsgeschwindigkeiten erzielt werden. Also high production speeds can be achieved.

50 Der zur Herstellung des Massstabes verwendete Laseroder Elektronenstrahl ist vorteilhaft fokussiert. 50. The laser or electron beam used for the preparation of the scale is advantageously focused. Dies ist beispielsweise zur Erzielung der notwendigen Energiedichte im Bereich der zu bearbeitenden Beschichtung von Vorteil. This is, for example, to achieve the necessary energy density in the range of the coating to be processed is advantageous.

Die Erfindung betrifft auch eine Vorrichtung zur Durch-55 führung des Verfahrens, welche gekennzeichnet ist durch eine Einrichtung zur Erzeugung eines Laser- oder Elektronenstrahls, dessen optische Achse auf die Beschichtung des Substrats gerichtet ist, eine Fokussiereinrichtung, und einer Vorschubvorrichtung zur Erzeugung einer Relativbewegung zwi-60 sehen dem eine Beschichtung aufweisenden Substrat und der optischen Achse. The invention also relates to an apparatus for through-55 carrying out the method, which is characterized interim by a device for generating a laser or electron beam whose optical axis is directed onto the coating of the substrate, a focusing device, and a feed device for generating a relative movement see -60 which a coating having the substrate and the optical axis. Mit einer solchen Vorrichtung lässt sich ein optischer Massstab auf verhältnismässig einfache Weise herstellen. With such a device, an optical scale on relatively easily be produced.

Es ist möglich, dass die Vorschubvorrichtung aus opti-65 sehen Mitteln besteht, mit welchen die optische Achse relativ zum Substrat verschoben wird. It is possible that the feed device of opti-65 consists see means by which the optical axis is shifted relative to the substrate. Dies hat den Vorteil, dass keine oder nur kleine mechanische Bewegungen notwendig sind. This has the advantage that no or only small mechanical movements are necessary.

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Zweckmässigerweise weist die Vorschubvorrichtung einen Schlitten zur Aufnahme des beschichteten Substrats auf und ist über eine Kugelrohrspindel von einem Motor antreibbar. Conveniently, the feed device comprises a carriage for receiving the coated substrate and can be driven via a Kugelrohr spindle by a motor. Bei dieser Ausgestaltung kann die Einrichtung zur Erzeugung eines Laser- oder Elektronenstrahls stationär bleiben, was für die Erzielung hoher Präzision von Vorteil ist. In this embodiment the means for generating a laser or electron beam may remain stationary, which is for achieving high precision beneficial.

Die Fokussiereinrichtung weist vorteilhaft eine Zylinderlinse auf. The focusing device advantageously has a cylindrical lens. Dies hat den Vorteil, dass bei der Herstellung der Markierung keine Bewegungen ausgeführt werden müssen, wie dies beispielsweise bei der Herstellung eines Teilstriches mit einer Nadel bei herkömmlichen Verfahren der Fall ist. This has the advantage that in the production of the marking no movements have to be carried out, as is the case for example in the manufacture of a partial stroke with a needle in conventional processes. Auch dies trägt zur Erhöhung der Präzision bei, denn die ganze Vorrichtung bleibt bei der Herstellung erschütterungsfrei. This also contributes to increase the precision, because the whole device remains free from vibrations during production.

Gemäss einem Ausführungsbeispiel der Erfindung ist ein Quervorschub vorgesehen, mit welchem eine weitere, zur ersten Relativbewegung quer gerichtete Relativbewegung zwischen dem beschichteten Substrat und der optischen Achse erzeugbar ist. According to an embodiment of the invention, a cross-feed is provided, with which a further, transversely directed to the first relative motion relative movement between the coated substrate and the optical axis can be generated. Diese Ausbildung ist zweckmässig, wenn aus ir- This training is practical, if for ir-

derlinse 27 wird ein Lichtstrahl erzeugt, der nach dem Fokus-sierung durch die Linse 31 einen strichförmigen Querschnitt besitzt. the lens 27, a light beam is generated which has by the focus-tion through the lens 31 has a dot-shaped cross section. Beim Einschalten des Lasers 11 wird daher durch den Laserstrahl eine strichförmige Markierung durch lokales Ver-5 dampfen oder Umwandeln der auf dem Substrat 15 angebrachten Schicht 16 erzeugt. Therefore, when turning on the laser 11 is a dot-shaped mark by local evaporation Ver-5 or produced converting the mounted on the substrate 15 layer 16 by the laser beam. Nach der Erzeugung eines Striches macht der Schrittschaltmotor 19 einen Schritt, so dass über die Spindel 21 der Schlitten 17 um den Teilabstand zwischen zwei Strichen bewegt wird. After the generation of a line of the stepper motor 19 takes a step, so that the carriage is moved by the pitch distance between two bars 17 via the spindle 21st In solcher Weise wird ein 10 Teilstrich nach dem andern auf dem Substrat 15 erzeugt und eine optischer Massstab hergestellt, wie er beispielsweise in Figur 4 dargestellt ist, wo auch die als Teilstriche ausgebildeten Markierungen 14 ersichtlich sind. In such a manner, a part 10 bar is formed on the substrate 15 to another, and an optical scale produced, as is for example shown in Figure 4, where the marks 14 formed as part of strokes are visible.

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Die Markierungen 14 können sich, wie in Figur 5 gezeigt wird, in einem Hohlraum 18 des Massstabes befinden. The markers 14 can, as shown in Figure 5, are located in a cavity 18 of the scale. Zu diesem Zweck ist auf dem Substrat 15 ein Deckel 20, zB durch Kleben, luftdicht angebracht. For this purpose, on the substrate 15, a cover 20, for example by gluing, mounted airtight. Durch diesen Deckel 20 wird ein Verschmutzen oder Verstauben der Teilstriche 14 vermie- By this cover 20 soiling or dusting of graduations 14 is avoided

gendwelchen Gründen keine Zylinderlinse zur Herstellung ei- 2o den. quietly reason no cylindrical lens for making egg 2o to. Der Deckel 20 kann sich bereits bei der Herstellung der nes Teilstriches verwendet werden kann. The cover 20 can be used in the manufacture of nes partial stroke already. Da aber keine starken mechanischen Einwirkungen auf das Substrat erfolgen, wie dies das Wegkratzen einer Schicht durch eine Nadel darstellt, werden dennoch Vorteile gegenüber dem herkömmlichen Verfahren erzielt. Since, however, be no strong mechanical effects on the substrate, as is the scraping away a layer by a needle, yet advantages over the conventional method can be obtained.

Es können aber auch Mittel zur Ablenkung des Laseroder Elektronenstrahls quer zur ersten Relativbewegung vorgesehen werden. but it is also means for deflecting the laser or electron beam are provided transversely to the first relative movement. Als solche Mittel kommen Spiegel bzw. elek-tro- oder elektronenoptische Mittel in Frage, wobei letztere besonders vorteilhaft sind, weil dann keinerlei mechanische Bewegungen notwendig sind. As such agents are mirrors or elec-TRO or electron-optical means in question, the latter being particularly advantageous because no mechanical movements are necessary then.

Mit Vorteil wird eine Anzahl von Einrichtungen zur Erzeugung eines Laser- oder Elektronenstrahls längs des Substrats angeordnet. Advantageously, a number of devices is arranged for generating a laser or electron beam along the substrate. Auf diese Weise ist es möglich, an mehreren Stellen des Massstabes gleichzeitig Markierungen anzubringen, so dass die Herstellungsgeschwindigkeit erheblich erhöht wird. In this way, it is possible to attach at several points of the scale marks at the same time, so that the production speed is significantly increased.

Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird nun unter Bezugnahme auf die Zeichnung beschrieben. An embodiment of the invention will now be described with reference to the drawings. Es zeigt: It shows:

Fig. 1 ein erstes Ausführungsbeispiel einer Vorrichtung zum Herstellen von optischen Massstäben, wobei eine Zylinderlinse verwendet wird, um einen im Querschnitt strichförmigen Strahl zu erzeugen, Fig. 1 shows a first embodiment of an apparatus for producing optical scales, wherein a cylindrical lens is used to produce a line-shaped in cross-section beam,

Fig. 2 ein zweites Ausführungsbeispiel einer Vorrichtung zur Herstellung von optischen Massstäben, bei welcher zur Herstellung eines Teilstriches der Laserstrahl verschoben wird, Fig. 2 shows a second embodiment of an apparatus for producing optical scales, wherein for the preparation of a partial stroke, the laser beam is moved,

Fig. 3 ein drittes Ausführungsbeispiel einer Vorichtung zur Herstellung von optischen Massstäben, bei welcher ein Spiegel bewegt wird, um eine Auslenkung des Laserstrahls zu bewirken, Fig. 3 shows a third embodiment of a Vorichtung for producing optical scales, in which a mirror is moved, to cause a deflection of the laser beam,

Fig. 4 einen mit dem erfindungsgemässen Verfahren hergestellten optischen Massstab und Fig. 4 shows an optical scale produced using the inventive method and

Teilstriche auf dem Substrat 15 befinden, in welchem Falle der Laserstrahl 13 entweder durch den Deckel 20 oder das Substrat 15 hindurch auf die Schicht 16 gelenkt wird, um durch lokales Verdampfen oder Umwandeln dieser Schicht 25 eine Markierung 14 zu erzeugen. Tick ​​marks on the substrate 15 are located, in which case the laser beam is directed 13 either through the lid 20 or the substrate 15 through the layer 16 to form a marker 14 by locally evaporating or converting this layer 25th

Je nach der Art der Schicht 16 stellt der entfernte Teil 14 der Schicht die endgültige Markierung dar oder ermöglicht die Ausbildung einer Markierung durch eine nachfolgende 30 Behandlung, zB Ätzen. Depending on the nature of the layer 16, the removed portion 14 of the layer is the final marker or enables the formation of a mark by a subsequent 30 treatment, for example etching. Wenn ein Ätzen vorgesehen wird, wird die Beschichtung 16 säurefest ausgeführt. If etching is provided, the coating is carried out 16 acid-resistant.

Bei der in Figur 5 dargestellten Ausführungsform des Massstabes besteht die Schicht 16 vorteilhaft aus einer optisch undurchsichtigen Schicht aus Wismut und Selen. In the illustrated embodiment in Figure 5 of the scale, the layer 16 is advantageously made of an optically opaque layer of bismuth and selenium. Die beiden 35 Stoffe Wismut und Selen werden vorteilhaft gleichzeitig als amorphe Schicht in einem Mischungsverhältnis zwischen 2,5 zu 1 und 3,5 zu 1 aufgedampft. The two fabrics 35 bismuth and selenium are advantageously vapor-deposited as an amorphous layer at the same time in a mixing ratio between 2.5: 1 and 3.5: 1. Bei einer solchen Schicht liegt die Verdampfungstemperatur sehr günstig, so dass ein Laser mit relativ kleiner Leistung Anwendung finden kann und 40 durch die bei der Verdampfung entstehenden Wärme die Genauigkeit des Massstabes nicht beeinträchtigt wird. With such a layer, the vaporization temperature is very low, so that a laser can be found with a relatively low power application, and the accuracy of the scale 40 is not affected by the heat generated during the evaporation.

Die V orrichtung von Figur 2 ist ähnlich aufgebaut wie jene von Figur 1, wobei aber Mittel vorgesehen sind, um ei-45 nen Teil des optischen Systems seitlich zu verschieben. The V orrichtung of Figure 2 is similar to that of Figure 1, but means are provided to move ei-45 NEN part of the optical system sideways. Es findet somit nicht nur eine Relativbewegung zwischen dem eine Beschichtung aufweisenden Substrat und der optischen Achse in Längsrichtung des Massstabes statt, sondern auch eine quergerichtete Relativbewegung zwischen dem beschichteten so Substrat und der optischen Achse. Thus, there is not only a relative movement between a coating having the substrate and the optical axis in the longitudinal direction of the scale instead, but also a transverse relative movement between the coated substrate and so the optical axis. Währenddem die erstgenannte Relativbewegung durch einen in Figur 1 dargestellten Vorschubmechanismus bestehend aus Schrittschaltmotor 19 und Spindel 21 erzeugt wird, erfolgt die zweitgenannte Relativbewegung, nämlich die Querbewegung zur Erzeugung ei- During which the first-mentioned relative movement is generated by a feed mechanism shown in Figure 1 consisting of stepping motor 19 and spindle 21, the second said relative movement, namely the transverse movement takes place to produce egg

Fig. 5 einen Querschnitt durch den Massstab von Figur 4, 55 nes Striches 14, durch einen Motor 33, der über eine Spindel wobei noch eine mit dem Massstab luftdicht verbundene Abdeckung vorgesehen ist. Fig. 5 shows a cross section through the scale of Figure 4, 55 nes stroke 14, by a motor 33, which while still a hermetically connected to the scale cover is provided with a spindle.

Die in Figur 1 dargestellte Vorrichtung zum Herstellen von optischen Massstäben besitzt einen Laser 11, der über ein optisches System einen Laserstrahl 13 auf ein Substrat 15, zB aus Glas, lenkt, das an der Oberfläche eine Beschichtung 16 aufweist. The apparatus shown in Figure 1 for making optical scales has a laser 11, a laser beam 13 onto a substrate 15, for example, deflected via an optical system of glass, which has on the surface a coating sixteenth Das Substrat 15 ist auf einem Schlitten 17 befestigt, der mit einem Schrittschaltmotor 19 und einer Kugelrollspindel 21 auf einer Führung 23 in Längsrichtung des Massstabs verschoben werden kann. The substrate 15 is mounted on a carriage 17, of a ball screw 21 can be moved on a guide 23 in the longitudinal direction of the scale with a stepping motor 19 and. Das optische System besteht aus einer Kollimatorlinse 25, einer Zylinderlinse 27, einem Spiegel 29 und einer Fokussierlinse 31. Durch die Zylin- The optical system comprises a collimator lens 25, a cylindrical lens 27, a mirror 29 and a focusing lens 31 through the cylinder

35 die Linse 31 und gegebenenfalls auch den Spiegel 29 verschiebt. 35, the lens 31 moves and possibly also the mirror 29th Bei genügend grossem Spiegel 29 ist jedoch dessen Bewegung nicht notwendig. With a sufficiently large mirror 29, however, the movement is not necessary.

Bei einer weiteren Ausführungsform der Vorrichtung, die 60 in Figur 3 gezeigt ist, wird die Querbewegung der optischen Achse 30 durch die Bewegung des Spiegels 29 erreicht. In a further embodiment of the device shown in Figure 3. 60, the transverse movement of the optical axis 30 is achieved by the movement of the mirror 29th Zu diesem Zweck wirkt der Motor 33 mit der Spindel 35 auf den Spiegel 29, der dann um die Achse 37 verschwenkt wird. For this purpose the motor 33 to the spindle 35 on the mirror 29, which is then pivoted about the axis 37 acts.

Es ist dem Fachmann ersichtlich, dass verschiedene Modi-65 fikationen durchgeführt werden können, ohne vom Erfindungsgedanken abzuweichen. It is apparent to one skilled in the art that various modes 65-fications may be made without departing from the inventive idea. So kann beispielsweise bei der Vorrichtung von Figur 1 der Spiegel 29 entfallen, wenn der For example, omitted in the apparatus of Figure 1, the mirror 29 when the

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Laser 11 senkrecht angeordnet wird. Laser is arranged vertically. 11 Dasselbe trifft auch für der Linse 31 durch den Quervorschub 33,35 bewegbar ange-die Vorrichtung gemäss Figur 2 zu, wenn der Laser 11 entwe- ordnet wird. The same applies also for the lens 31 to traverse through the 33,35-movably the device according to Figure 2, when the laser 11 is arranged either.

der einen genügend breiten Strahl erzeugt oder zusammen mit generates or a sufficiently broad beam, together with

Claims (16)

643941 PATENTANSPRÜCHE 643941 CLAIMS
1. Verfahren zum Herstellen von optischen Massstäben, dadurch gekennzeichnet, dass auf ein Substrat (15) eine Be-schichtung aufgetragen wird und dass dann mittels eines Laser* oder Elektronenstrahls (13) eine Markierung (14) durch lokales Verdampfen oder Umwandeln der Beschichtung (16) erzeugt wird. 1. A method for making optical scales, characterized in that on a substrate (15) a coating is applied, and that then by means of a laser or electron beam * (13) a marking (14) by locally evaporating or converting the coating ( 16) is generated.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Beschichtung aus Wismut und Selen im Mischungsverhältnis zwischen 2,5 zu 1 und 3,5 zu 1 aufgedampft wird. 2. The method according to claim 1, characterized in that the coating of bismuth and selenium is evaporated in a mixing ratio between 2.5: 1 and 3.5: 1.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Beschichtung (16) optisch wirksam ist. 3. The method of claim 1 or 2, characterized in that the coating (16) is optically active.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Beschichtung (16) lichtundurchlässig ist. 4. The method according to claim 3, characterized in that the coating (16) is opaque.
5. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Beschichtung (16) lichtstreuend ist. 5. The method according to claim 3, characterized in that the coating (16) is light-scattering.
6. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Beschichtung (16) polarisierend ist. 6. The method according to claim 3, characterized in that the coating (16) is polarizing.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass der Laser- oder Elektronenstrahl (13) fokussiertist. 7. The method according to any one of claims 1 to 6, characterized in that the laser or electron beam (13) fokussiertist.
8. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch eine Einrichtung (11) zur Erzeugung eines Laser- oder Elektronenstrahls (13), dessen optische Achse (30) auf die Beschichtung (16) des Substrats (15) gerichtet ist, eine Fokussiereinrichtung (31) und eine Vorschubvorrichtung (17,19,21) zur Erzeugung einer Relativbewegung zwischen dem eine Beschichtung (16) aufweisenden Substrat (15) und der optischen Achse (30). 8. Apparatus for carrying out the method according to claim 1, characterized by means (11) for generating a laser or electron beam (13) whose optical axis (30) to the coating (16) of the substrate (15) is directed, a focusing means (31) and a feed mechanism (17,19,21) for generating a relative movement between having a coating (16) substrate (15) and the optical axis (30).
9. Vorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorschubvorrichtung aus optischen Mitteln besteht, mit welchen die optische Achse verschoben wird. 9. The device according to claim 8, characterized in that the feed device consists of optical means with which the optical axis is shifted.
10. Vorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeich- . 10. Apparatus according to claim 8, characterized gekennzeich-. net, dass die Vorschubvorrichtung einen Schlitten (17) zur Aufnahme des beschichteten Substrats (15) aufweist und über eine Kugelrollspindel (21) mit einem Motor (19) antreibbar ist. net, that the feed device comprises a carriage (17) for receiving the coated substrate (15) and a ball screw (21) having a motor (19) is drivable.
11. Vorrichtung nach Anspruch 9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Fokussiereinrichtung eine Zylinderlinse (27) aufweist. 11. The apparatus of claim 9 or 10, characterized in that the focusing means comprises a cylindrical lens (27).
12. Vorrichtung nach Anspruch 9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, dass ein Quervorschub (33,35) vorgesehen ist, mit welchem eine weitere, zur ersten Relativbewegung quer gerichtete Relativbewegung zwischen dem beschichteten Substrat (15) und der optischen Achse (30) erzeugbar ist. 12. The device according to claim 9 or 10, characterized in that a cross feed (33,35) is provided, with which a further, transversely directed to the first relative motion relative movement between the coated substrate (15) and the optical axis (30) can be generated ,
13. Vorrichtung nach Anspruch 9 oder 10, gekennzeichnet durch Mittel (33,35) zur Ablenkung des Laser- oder Elektronenstrahls quer zur ersten Relativbewegung. 13. The apparatus of claim 9 or 10, characterized by means (33,35) for deflecting the laser or electron beam transverse to the first relative movement.
14. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 8 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass eine Anzahl von Einrichtungen (11) zur Erzeugung eines Laser- oder Elektronenstrahls längs des Substrats angeordnet ist. 14. Device according to one of claims 8 to 13, characterized in that a number of devices (11) for generating a laser or electron beam along the substrate is arranged.
15. Massstab, hergestellt nach dem Verfahren nach Anspruch 1. 15. scale, prepared by the method of claim. 1
16. Massstab nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass sich die Markierungen (14) in einem Hohlraum (18) im Innern des Massstabes befinden. 16. ruler according to claim 15, characterized in that the markings (14) in a cavity (18) in the interior of the scale located.
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