DE2706792A1 - Einrichtung zum abtasten eines ziels mit einem strahl von geladenen teilchen - Google Patents

Einrichtung zum abtasten eines ziels mit einem strahl von geladenen teilchen

Info

Publication number
DE2706792A1
DE2706792A1 DE19772706792 DE2706792A DE2706792A1 DE 2706792 A1 DE2706792 A1 DE 2706792A1 DE 19772706792 DE19772706792 DE 19772706792 DE 2706792 A DE2706792 A DE 2706792A DE 2706792 A1 DE2706792 A1 DE 2706792A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
quadrupole
signals
main
windings
pole
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE19772706792
Other languages
English (en)
Inventor
Guy Azam
Claude Perraudin
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
CGR MEV SA
Original Assignee
CGR MEV SA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by CGR MEV SA filed Critical CGR MEV SA
Publication of DE2706792A1 publication Critical patent/DE2706792A1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K1/00Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
    • G21K1/08Deviation, concentration or focusing of the beam by electric or magnetic means
    • G21K1/093Deviation, concentration or focusing of the beam by electric or magnetic means by magnetic means
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/147Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path
    • H01J37/1472Deflecting along given lines
    • H01J37/1474Scanning means
    • H01J37/1475Scanning means magnetic

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Radiation-Therapy Devices (AREA)
  • Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)

Description

C.G.R. MeV 17. Februar 1977
Route de Guyancourt
78530 BUC / Frankreich
Unser Zeichen; C 3123
Einrichtung zum Abtasten eines Ziels mit einem Strahl von geladenen Teilchen
Die Erfindung betrifft eine Einrichtung zum Abtasten eines Ziels mit einem Strahl von geladenen Teilchen, die gestattet, in vorbestimmter Weise die Bestrahlungsdosis zu beeinflussen, die von dem Ziel empfangen wird, das eine bestimmte Position und bestimmte Abmessungen hat.
Man erhält einen Abtaststrahl, indem ein Strahl von geladenen Teilchen der Wirkung eines elektrischen
709833/0744
Feldes oder eines magnetischen Feldes mit in Abhängigkeit von der Zeit veränderlicher Amplitude ausgesetzt wird, wobei diese Änderungen im allgemeinen periodisch sind (zum Beispiel ein sinusförmiges Wechselfeld oder ein Feld mit sägezahnförmigen Änderungen). Wenn der Teilchenstrahl einem Magnetfeld ausgesetzt ist, das von einem zweipoligen Elektromagneten erzeugt wird, erfolgt die Abtastung auf einer Geraden. Wenn dagegen der Elektromagnet ein Quadrupol ist, kann der Strahl eine Fläche abtasten. Es sei angemerkt, daß die von dem Teilchenstrahl am Eingang des Quadrupole in bezug auf dessen Achse eingenommene Position die Verteilung des Wertes der von dem Ziel empfangenen Bestrahlungsdosis festlegt. Eine Dezentrierung des Strahls an dem Eingang des Ablenkquadrupols bewirkt nämlich eine Modulation der Dosisdichte von einem Rand des Ziels zu dem anderen, wenn dieses Ziel senkrecht zu der Achse des Quadrupole und in bezug auf denselben mittig angeordnet ist.
Es ist somit möglich, in vorbestimmter Weise die durch ein Ziel empfangene Bestrahlungsdosis zu modulieren, indem der Strahl an dem Eingang des Ablenkquadrupols dezentriert wird.
Gemäß der Erfindung ist eine Einrichtung zum Abtasten eines Ziels mit einem Strahl von geladenen Teilchen, der eine mittlere Bahn mit einer Achse
709833/07A4
ZZ an dem Eingang der Einrichtung hat, die ein mehrpoliges magnetisches Hauptablenksystem mit der Achse ZZ aufweist, dessen Polschuhe Wicklungen zugeordnet sind, dadurch gekennzeichnet, daß ein sekundäres mehrpoliges Magnetsystem mit der Achse ZZ dem Hauptablenksystem vorgeschaltet ist und den Strahl vor seinem Eintritt in das Hauptablenksystem abzulenken gestattet, und daß Schaltungen vorgesehen sind, mittels welchen an jede der Wicklungen, die den Polschuhen des mehrpoligen Hauptablenksystems und des mehrpoligen sekundären Ablenksystems zugeordnet sind, elektrische Signale mit vorbestimmten Kenndaten anlegbar sind.
Mehrere Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den Zeichnungen dargestellt und werden im folgenden näher beschrieben. Es zeigen:
die Fig. 1 und 2 die Abtastdarstellung eines
zentrierten Strahls und eines in bezug auf die Achse ZZ eines herkömmlichen Ablenksystems dezentrierten Strahls sowie die Änderung der Bestrahlungsdosis, die mit dem einen und mit dem anderen dieser Strahlen auf einem Ziel erhalten wird, welches senkrecht zu der Achse des Ablenksystems angeordnet ist,
709833/0744
Fig. 3 im Schnitt ein Ausführungs-
beispiel einer Abtasteinrichtung nach der Erfindung,
Fig. 4 schematisch Schaltungen zur
Versorgung des Hauptquadrupols und des sekundären Quadrupols der Abtasteinrichtung nach der Erfindung,
Fig. 5 ein Beispiel von zwei elektri
schen Signalen, die gleichzeitig angelegt werden können, und zwar das eine an die Wicklungen des Hauptquadrupols und das andere an die Wicklungen des sekundären Quadrupole,
Fig. 6 zeigt die Änderung der Bestrah
lungsdosis, die auf dem Ziel erhalten wird, wenn elektrische Signale der in Fig. 5 dargestellten Art benutzt werden,
die Fig. 7 und 9 zwei weitere Paare von Signalen,
die an den Hauptquadrupol und den sekundären Quadrupol angelegt werden können, und die
709833/0744
Fig. 8 und 10 die Bestrahlungsdosismodulationen, die mit den in Fig. 7 und 9 gezeigten Signalen erhalten werden.
Fig. 1 zeigt eine Quelle S geladener Teilchen, die einen Teilchenstrahl F emittiert, der der Wirkung eines veränderlichen Magnetfeldes ausgesetzt ist, welches zwischen des Polschuhen A und B eines Elektromagneten erzeugt wird. Diese Polschuhe sind Wicklungen a bzw. b zugeordnet, welche mit einer Spannungsquelle V verbunden sind, die ein Signal mit vorbestimmter Form liefert.
Wenn der Strahl F in der Achse ZZ der Abtasteinrichtung zentriert ist, kann er ein Ziel K, das senkrecht zu der Achse ZZ angeordnet ist, auf einer Geraden XX abtasten, wobei die Verteilung der Bestrahlungsdosisdichte im wesentlichen konstant ist. Wenn an dem Eingang des Abtastsystems der Strahl F in bezug auf die Achse ZZ dezentriert ist, wird die Verteilung der Dichte auf der Geraden XX moduliert, wobei diese Modulation von der Abweichung des Strahls F von der Zentrierungslage abhängig ist.
Der Abtaststrahl, der mit einem Strahl F erhalten wird, welcher in der Achse ZZ zentriert ist, ist in Fig. 1 mit ausgezogenen Linien dargestellt, während der Abtaststrahl, der mit einem dezentrierten Strahl erhalten wird, mit gestrichelten Linien dargestellt ist
709833/0744
* 40
(Strahlen u bzw. v).
Fig. 2 zeigt die Dichteverteilung d und d , die auf dem Ziel K für jeden der Strahlen u und ν erhalten wird.
Wenn der Strahl F eine Dezentrierung aufweist, die zu der oben angegebenen symmetrisch ist, wird sich eine Dichteverteilung d ergeben, die zu der Dichte-
Vr
verteilung d symmetrisch ist.
Die Abtasteinrichtung nach der Erfindung, die in Fig. 3 im Schnitt gezeigt ist, gestattet, eine vorbestimmte Modulation der durch das Ziel K empfangenen Bestrahlungsdichte vorzunehmen, indem eine im Wert veränderliche Dezentrierung des Bestrahlungsstrahls verursacht wird, bevor er den eigentlichen Ablenksignalen ausgesetzt wird. In diesem Ausführungsbeispiel enthält die Abtasteinrichtung nach der Erfindung ein Hauptablenksystem Q, mit vier Polschuhen A1, B., C1 und D1, die mit Wicklungen a. bzw. b.. bzw. C, bzw. d. versehen sind, welche paarweise (a,, b- und C,, d1 ) mittels einer Spannungsquelle V gespeist werden. Diesem Hauptquadrupol Q. ist ein sekundäres Magnetsystem Q« mit vier Polschuhen A_, B2, C2, D. zugeordnet, welche mit Wicklungen a« bzw. b» bzw. c« bzw. d2 versehen sind (wobei in Fig. 3 lediglich die Polschuhe A1, B. und A., B2 mit ihren Wicklungen a., b. bzw. a., b. sichtbar sind).Ein Beispiel des
709833/07U
Versorgungssystems dieser Wicklungen a., b1; c. , d. und a_, b_; c_, d~ ist schematisch in Fig. 4 dargestellt. Dieses Versorgungssystem enthält eine SteuerSpannungsquelle V , welcher zugeordnet sind:
- ein Generator G1 für den Kanal X1 des Haupt-
Xl
quadrupole Q1, wobei der Kanal X, den Polschuhen A- und B- entspricht, die auf der Achse X1X1 des Quadrupole Q1 angeordnet sind,
- ein Generator G-, der den Polschuhen C.und D1 zugeordnet ist (für den Kanal Y1, der auf der Achse Y-Y1 des Hauptquadrupols Q angeordnet ist),
- zwei Verstärker*A^1 und Αγ.,
- ein Generator G „, der dem Polschuhpaar A-, B_ zugeordnet ist, welches dem Kanal X_ entspricht, der auf der Achse X~X~ des sekundären Quadrupole Q_ angeordnet ist,
- ein Generator GY?, der dem Polschuhpaar C„, D zugeordnet ist, das dem Kanal Y2 entspricht, der auf der Achse Y9Y7 des sekundären Quadrupole Q~ angeordnet ist, und
- zwei Verstärker A^ und
Im Betrieb erzeugen die beiden Generatoren G^1 und Gy- zwei Signale Sx-. und SY- (beispielsweise Sägezahnsignale), deren Amplituden proportional zu der Steuerspannung V sind. Die Schwingungsperioden der Kanäle X. und Y. können unterschiedlich sein und in einem bestimmten Verhältnis stehen. Die Sig-
709833/0744
nale S„.. und Syl werden an die Wicklungen a.., b^ bzw. C,, d. angelegt, nachdem sie durch die Verstärker /l.. und Ay1 verstärkt worden sind. Gleichzeitig erzeugen die Generatoren Gx„ und Gv- zwei Signale Svo und Sv0 (beispielsweise Rechtecksignale), die nach Verstärkung in den Verstärkern A^_ und Ay7 an die Wicklungen a_, b_ bzw. c-, rides sekundären Quadrupole O_ angelegt werden. Fig. 5 zeigt als nicht als Einschränkung zu verstehendes Beispiel Signale Sxl und Sx-, die an die Wicklungspaare a^ b., bzw. a^, ^2 angelsgfc werden können. Den Signalen Sx- und Sx2 ähnliche Signale Svl bzw. Sv_ werden an die anderen Wicklungspaare c,, d.. bzw. c- , d. angelegt. In Fig. 6 ist die Verteilung der von einem Ziel K empfangenen Bestrahlungsdichte dargestellt, wobei der Bestrahlungsstrahl F dem Magnetfeld ausgesetzt ist, das von den Signalen SYO, Sv-, die an den sekundären Quadrupol Q- angelegt sind, geliefert wird, und anschließend dem Ablenkmagnetfeld, das von den Signalen Syl und Svl geliefert wird.
In einem anderen Ausführungsbeispiel können der Hauptquadrupol und der sekundäre Quadrupol in Reihe geschaltet und durch eine einzige Versorgung sschaltung gespeist werden. Fig. 7 zeigt die Signale Sx-. und S „, die an die Quadrupole Q- bzw. Q2 in diesem Ausführungsbeispiel angelegt werden können, und Fig. 8 zeigt die entsprechende Dichte-
709833/07U
•η.
modulation (mit ausgezogener Linie dargestellte Kurve). Die mit gestrichelter Linie dargestellte Kurve von Fig. 8 zeigt die Dichtemodulation, die sich ergibt, wenn die Signale S.._ und Sv_ Null sind.
Eine Dichtemodulation, die in der Mitte der Verteilungskurve ein Maximum aufweist, wie es Fig. 10 zeigt, kann erhalten werden, indem die Signale SY1 und Sy-, die an den Quadrupolen Q1 bzw. Q« (Fig. 9) anliegen, um 180 phasenverschoben werden.
Eine solche Abtasteinrichtung kann vorteilhafterweise zum Kompensieren der Homogenitätsfehler bei der Bestrahlung eines Ziels durch einen Strahl von geladenen Teilchen benutzt werden (Randfehler, die sich beispielsweise durch Abtaststrahlen mit Elektronen geringer Energie ergeben, oder Fehler, die von dem Kollimationssystem des Strahls herrühren).
Diese einfach aufgebaute Einrichtung ist hinsichtlich ihrer Einstellung sehr anpassungsfähig und arbeitet sehr zuverlässig.
709833/0744
Leerseite

Claims (10)

PaiontanwälloRoute de GuyancourtPrankreichDipl.-lngDipl.-lngUipl.-Chem78530 BUC /G. LeiserE. PrinzDr. G. HäuserErnsbergerstras se 198 München 6017.C.G.R. MeV 17. Februar 1977 Unser Zeichen: C 3123 PATENTANSPRÜCHE
1.!Einrichtung zur Abtastung eines Ziels mit einem Strahl von geladenen Teilchen, der eine mittlere Bahn mit einer Achse ZZ an dem Eingang der Einrichtung hat, die ein mehrpoliges magnetisches Hauptablenksystem mit der Achse ZZ aufweist, von welchem jeder Pol einer Wicklung zugeordnet ist, dadurch gekennzeichnet, daß ein mehrpoliges sekundäres Magnetsystem (Q2) m^ der Achse ZZ dem Hauptablenksystem (Q,) vorgeschaltet ist und das Ablenken des Strahls vor seinem Eintritt in das Hauptablenksystem (Q1) gestattet, wobei jeder Polschuh des sekundären Magnetsystems (Q2) einer Wicklung zugeordnet ist, und daß Schaltungen das Anlegen von elektrischen Signalen mit vorbestimmten Kenndaten an jede der Wicklungen gestatten, die den Polschuhen des mehrpoligen Hauptablenksystems und des mehrpoligen sekundären Ablenksystems zugeordnet sind.
2. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Hauptablenksystem (Q,) ein Hauptquadrupol ist und daß das sekundäre Magnetsystem (Q2) ein sekundärer
709833/074*
ORIGINAL INSPECTED
Quadrupol ist.
3. Einrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeich net, daß die Wicklungen (a , b-, c,, d. und a , b„, C2, d2) der Polschuhe (A1, B1, C1, D1 und A2, B3, C9, D) des Hauptquadrupols (Q,) und des sekundären Quadrupols (Q~) paarweise in Reihe durch eine Versorgungsschaltung gespeist werden.
4. Einrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Wicklungen (a,, b.., C1, d. und a„, b_, C2, d2) der Polschuhe (A1, B1, C1, D1, und A3, B2, C_, D) des Hauptquadrupols (Q1) und des sekundären Quadrupols (Q„) durc
gen gespeist werden.
Quadrupols (Q„) durch getrennte Versorgungsschaltun
5. Einrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Versorgungsschaltung des Hauptquadrupols (Q1) zwei Spannungsgeneratoren (Gy1, Gyl) mit zwei nachgeschalteten Verstärkern (Ay1, ^γτ) enthält, welche die beiden Wicklungspaare (a.., b. bzw. C1, d.. ) der Polschuhe (A1, B1 bzw. C1, D1) speisen, die einander gegenüber liegen und den beiden Kanälen X1 bzw. Y1 entsprechen, und daß die Versorgungsschaltung des sekundären Quadrupols (Q2) zwei weitere Generatoren (Gy2, Gy2) mit zwei nachgeschalteten Verstärkern (Ay_, Ay2) enthält, welche die beiden Wicklungspaare (a„, b2 bzw. C2, d2) der Polschuhe (A3, B3 bzw. C2, D2) speisen, die einander gegenüber liegen und zwei
709833/0744
Kanälen X0 bzw. Y0 entsprechen.
6. Einrichttmg nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden Versorgungsschaltungen Signale S„, und Syl in den Kanälen X. bzw. Y, und Signale S„o und Sy? in den Kanälen X_ bzw.
Y0 liefern, wobei die Signale Svl und Sv. Säge- L Xl Y1
zahnsignale und die Signale Sv_ und Svo Rechtecksignale derselben Periode sind.
7. Einrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Signale Syo und S„o mit den Signalen S.... bzw. Sy, in Phase sind.
8. Einrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Signale Svo und S-.o mit den Signalen S„. bzw. Sy- in Gegenphase sind.
9. Einrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Versorgungsschaltung Sägezahnsignale liefert, welche an den Wicklungen der Polschuhe (A1, B1, C1, D1 und A2, B2, C3, D2), die einander gegenüber liegen und zu dem Hauptquadrupol (Q1) bzw. zu dem sekundären Quadrupol (Q0) gehören, anliegen und in Phase sind.
10. Einrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Versorgungsschaltung Sägezahnsignale liefert, welche an den Wicklungen der Polschuhe
709833/0744
(A1, B1; C1, D1 und A3, B2; C3 , D2), die einander gegenüber liegen und zu dem Hauptquadrupol (Q1) bzw. zu dem sekundären Quadrupol (Q9) gehören, anliegen und in Gegenphase sind.
709833/0744
DE19772706792 1976-02-17 1977-02-17 Einrichtung zum abtasten eines ziels mit einem strahl von geladenen teilchen Pending DE2706792A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR7604346A FR2341922A1 (fr) 1976-02-17 1976-02-17 Perfectionnement a un dispositif de balayage d'une cible par un faisceau de particules chargees

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE2706792A1 true DE2706792A1 (de) 1977-08-18

Family

ID=9169224

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19772706792 Pending DE2706792A1 (de) 1976-02-17 1977-02-17 Einrichtung zum abtasten eines ziels mit einem strahl von geladenen teilchen

Country Status (6)

Country Link
US (1) US4110623A (de)
JP (1) JPS52100255A (de)
CA (1) CA1073561A (de)
DE (1) DE2706792A1 (de)
FR (1) FR2341922A1 (de)
GB (1) GB1570314A (de)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55121259A (en) * 1979-03-14 1980-09-18 Hitachi Ltd Elelctron microscope
US4465934A (en) * 1981-01-23 1984-08-14 Veeco Instruments Inc. Parallel charged particle beam exposure system
WO1982002990A1 (en) * 1981-02-23 1982-09-02 Oleg Aleksandrovich Gusev Device for irradiation of objects with electrons
JPS60112236A (ja) * 1983-11-21 1985-06-18 Hitachi Ltd パルスビ−ム発生装置
DE3705294A1 (de) * 1987-02-19 1988-09-01 Kernforschungsz Karlsruhe Magnetisches ablenksystem fuer geladene teilchen
US4767930A (en) * 1987-03-31 1988-08-30 Siemens Medical Laboratories, Inc. Method and apparatus for enlarging a charged particle beam
GB2216714B (en) * 1988-03-11 1992-10-14 Ulvac Corp Ion implanter system
JPH078300B2 (ja) * 1988-06-21 1995-02-01 三菱電機株式会社 荷電粒子ビームの照射装置
US4922196A (en) * 1988-09-02 1990-05-01 Amray, Inc. Beam-blanking apparatus for stroboscopic electron beam instruments
US5521388A (en) * 1995-06-07 1996-05-28 Raychem Corporation Selective crosslink scanning system
JP4158931B2 (ja) * 2005-04-13 2008-10-01 三菱電機株式会社 粒子線治療装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2602751A (en) * 1950-08-17 1952-07-08 High Voltage Engineering Corp Method for sterilizing substances or materials such as food and drugs
US2816231A (en) * 1953-09-29 1957-12-10 High Voltage Engineering Corp Method and apparatus for imparting a scanning movement to a beam of charged particles
US2858442A (en) * 1954-03-18 1958-10-28 High Voltage Engineering Corp Apparatus for increasing the uniformity of dose distribution produced by electron irradiation
US3371206A (en) * 1964-02-04 1968-02-27 Jeol Ltd Electron beam apparatus having compensating means for triangular beam distortion

Also Published As

Publication number Publication date
FR2341922B1 (de) 1982-07-02
FR2341922A1 (fr) 1977-09-16
GB1570314A (en) 1980-06-25
CA1073561A (en) 1980-03-11
US4110623A (en) 1978-08-29
JPS52100255A (en) 1977-08-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3524536A1 (de) Flugzeit-massenspektrometer mit einem ionenreflektor
DE2730985C2 (de) Bestrahlungsvorrichtung unter Verwendung geladener Teilchen
DE2706792A1 (de) Einrichtung zum abtasten eines ziels mit einem strahl von geladenen teilchen
DE3842044A1 (de) Flugzeit(massen)spektrometer mit hoher aufloesung und transmission
EP0025579B1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur schnellen Ablenkung eines Korpuskularstrahles
DE2301260A1 (de) Impulsgenerator mit integratorstufe
DE3923345A1 (de) Ionenimplantationssystem
DE968666C (de) Halbleiterkristallverstaerker
DE2918390A1 (de) Vorrichtung zum richten elektrisch geladener teilchen auf eine auftreffplatte
EP0515352A1 (de) Ionenquelle
DE2642599A1 (de) Verfahren zur herstellung von implantierten gebieten in einem substrat
DE2246294A1 (de) Lasergenerator
DE1177850B (de) Verfahren und Einrichtung zum Trennen elektrisch geladener Teilchen mit Hilfe von Massenspektrometern
DE2629416A1 (de) Hochfrequenzfokussierungseinrichtung fuer einen strahl von geladenen teilchen
DE2533347B2 (de) Magnetischer Reflektor
DE940418C (de) Mischroehre mit eingebautem Sekundaerelektronenvervielfacher
DE896231C (de) Anordnung zur traegheitslosen Ablenkung von Korpuskularstrahlen
AT235998B (de) Verfahren und Schaltungsanordnung zum Bohren runder Löcher mittels eines Ladungsträgerstrahles
AT205778B (de) Verfahren zum Trennen elektrisch geladener Teilchen
DE726362C (de) Verfahren zur piezoelektrischen Messung von Druckvorgaengen
DE709187C (de) Verfahren zur Erzeugung modulierter ultrakurzwelliger Schwingungen mittels eines Magnetrons
DE3243033A1 (de) Verfahren und anordnung zum bearbeiten eines werkstuecks mittels eines fokussierten elektronenstrahls
DE413622C (de) Einrichtung, um entgegengesetzte mechanische oder elektrische Wirkungen auszuloesen, wenn die Frequenz eines Wechselstromes eine Normalfrequenz ueber- oder unterschreitet
DE939390C (de) Verfahren zur Erzeugung von negativen Vorspannungen beim Betrieb von Laufzeitroehren, insbesondere geschwindigkeitsgesteuerten Laufzeitroehren
Meyer Method for determination of the radiation energy coming out of the accelerator tube of an electron accelerator and a set-up for performing it

Legal Events

Date Code Title Description
OHN Withdrawal