JPS60112236A - パルスビ−ム発生装置 - Google Patents
パルスビ−ム発生装置Info
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- JPS60112236A JPS60112236A JP58217724A JP21772483A JPS60112236A JP S60112236 A JPS60112236 A JP S60112236A JP 58217724 A JP58217724 A JP 58217724A JP 21772483 A JP21772483 A JP 21772483A JP S60112236 A JPS60112236 A JP S60112236A
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- JP
- Japan
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- voltage
- delay
- pulse
- high frequency
- time
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/045—Beam blanking or chopping, i.e. arrangements for momentarily interrupting exposure to the discharge
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、パルスビーム発生装置に係り、特にストロボ
走査形電子顕微鏡に好適なパルスビーム発生装置に関す
る。
走査形電子顕微鏡に好適なパルスビーム発生装置に関す
る。
ストロボ走食形巾；子顕微鏡は、通常の走査形電子顕倣
廓にビームのパルス化装置と同期回路を付加して構成さ
れる。以下、図を用いて説明する。
廓にビームのパルス化装置と同期回路を付加して構成さ
れる。以下、図を用いて説明する。
第１図は、ストロボ走葺形電子顕微鏡の基本構成図であ
る。電子銃１から出射された電子ビーム２を電子レンズ
６を用いて検鏡試料１０上に焦点を結ばせ、かつ走査コ
イル８でテレビジョンの撮像管と同じ要領で矩形状に走
査させる。電子ビームは固体に衝突すると、そこから二
次電子又は反射電子を放出させる。この二次電子あるい
は反射電子を検出器９で検知し、この信号強度で、走査
コイル８と同期して動作しているディスプレイ装置７上
に試料像を表示する。これが走査形電子顕微鏡の基本原
理である。
る。電子銃１から出射された電子ビーム２を電子レンズ
６を用いて検鏡試料１０上に焦点を結ばせ、かつ走査コ
イル８でテレビジョンの撮像管と同じ要領で矩形状に走
査させる。電子ビームは固体に衝突すると、そこから二
次電子又は反射電子を放出させる。この二次電子あるい
は反射電子を検出器９で検知し、この信号強度で、走査
コイル８と同期して動作しているディスプレイ装置７上
に試料像を表示する。これが走査形電子顕微鏡の基本原
理である。
ところが、この走査形電子顕微鋭で高速変化する試料（
レリえば、集積回路ＩＣなど）を観察すると、走査速度
が試料の変化速度に追従できず、試料の全変化が重複し
て表示されてしまう。そこで、試料変化（１タリえば、
第１図において位置がＡ、 Ｂ。
レリえば、集積回路ＩＣなど）を観察すると、走査速度
が試料の変化速度に追従できず、試料の全変化が重複し
て表示されてしまう。そこで、試料変化（１タリえば、
第１図において位置がＡ、 Ｂ。
Ｃと変化）を与えている駆動装置１１と同期したパルス
回路１２の出力を偏向板３に与えて電子ビームを偏向さ
せる。・電子ビームがアパーチャ４の開孔上に一同され
たときのみ下方に通過するので、ここで電子ビームはパ
ルス化される。このパルス化した電子ビームで試料上を
走査すると、試料変化のある一定の位相のときのみ電子
照射されているので、全動作が重なることなく、試料状
態のある時点（位相）の像のみを選択表示できる。これ
がストロボ走査形電子顕微鏡である。
回路１２の出力を偏向板３に与えて電子ビームを偏向さ
せる。・電子ビームがアパーチャ４の開孔上に一同され
たときのみ下方に通過するので、ここで電子ビームはパ
ルス化される。このパルス化した電子ビームで試料上を
走査すると、試料変化のある一定の位相のときのみ電子
照射されているので、全動作が重なることなく、試料状
態のある時点（位相）の像のみを選択表示できる。これ
がストロボ走査形電子顕微鏡である。
上記の方式を用いて、試料変化の全貌を観察するだめの
、遅延回路５を発振器１２と駆動装置１１の間に挿入す
る。第２図は最も一般に用いられている遅延の発生回路
である。端子１６に駆動回路１１からのトリカーパルス
が入力される。このトリガーパルスによシ鋸耐状波発振
器１３は駆動回路１１に同期した鋸歯状波を発生する。
、遅延回路５を発振器１２と駆動装置１１の間に挿入す
る。第２図は最も一般に用いられている遅延の発生回路
である。端子１６に駆動回路１１からのトリカーパルス
が入力される。このトリガーパルスによシ鋸耐状波発振
器１３は駆動回路１１に同期した鋸歯状波を発生する。
この鋸１貧状波が移相回路１５の一方の入力となる。も
う一方の人力には直流電源１４の出力が入っている。直
流電源１４は手動あるいはコンピュータでその出力がｉ
ＩＴ制御され不。移相器１５はこの２つの入力を比較し
そのレベルが一致したときにパルスを発する。第３図に
これらの信号間の時間関係を示した。ａは鋸歯状波発振
器１３に入るトリガーパルス、ｂは鋸歯状波発振器１３
の出力、Ｃは直流電源１４の出力、ｄは移相器１５の出
力である。
う一方の人力には直流電源１４の出力が入っている。直
流電源１４は手動あるいはコンピュータでその出力がｉ
ＩＴ制御され不。移相器１５はこの２つの入力を比較し
そのレベルが一致したときにパルスを発する。第３図に
これらの信号間の時間関係を示した。ａは鋸歯状波発振
器１３に入るトリガーパルス、ｂは鋸歯状波発振器１３
の出力、Ｃは直流電源１４の出力、ｄは移相器１５の出
力である。
ａとｄとの間でｔｄの時間遅れが生じている。このｔｄ
はＣのレベルを変えることで任意の値にすることができ
る。
はＣのレベルを変えることで任意の値にすることができ
る。
ところが、との移相器で制御できる最小の時間Δｔは、
鋸歯状波の雑音ΔＶ８．直流電圧の雑音Δｖｄ、移相器
のジッタΔｔｐで決まる。鋸歯状波の立上りをｋ（ｎＳ
／■）とするとΔｔはΔｔ＝に−ｚΔＶＳ２＋Δ■ｄ２
＋Δｔｐとなる。ここで、ΔＶｄはΔＶＳに比較すると
小すイノテ無視でき、ΔＶｓを１０ｍＶ、ｋｆ：０．２
とするとｋ・ΔＶｓは２０ｐＳとなる。また、Δｔｐは
移相器に用いる素子によって異るが小さくても２０〜３
０ｐＳあり、８敗としてΔｔは約５０ｐＳが限界となる
。
鋸歯状波の雑音ΔＶ８．直流電圧の雑音Δｖｄ、移相器
のジッタΔｔｐで決まる。鋸歯状波の立上りをｋ（ｎＳ
／■）とするとΔｔはΔｔ＝に−ｚΔＶＳ２＋Δ■ｄ２
＋Δｔｐとなる。ここで、ΔＶｄはΔＶＳに比較すると
小すイノテ無視でき、ΔＶｓを１０ｍＶ、ｋｆ：０．２
とするとｋ・ΔＶｓは２０ｐＳとなる。また、Δｔｐは
移相器に用いる素子によって異るが小さくても２０〜３
０ｐＳあり、８敗としてΔｔは約５０ｐＳが限界となる
。
ここでは移相器の限界を説明したが、遅延線を用いる方
法でも５０ｐＳ前後が限界といわれている。これは聴単
位の遅延線路長の調整の困難さによるものである。試料
、例えばＩＣの端子の長さのバラツキは３聴以上もあシ
、ここで遅延量に２０ｐＳのバラツキを生じる。
法でも５０ｐＳ前後が限界といわれている。これは聴単
位の遅延線路長の調整の困難さによるものである。試料
、例えばＩＣの端子の長さのバラツキは３聴以上もあシ
、ここで遅延量に２０ｐＳのバラツキを生じる。
本発明は、前述の制御時間の限界を越え、よシ微少な時
間１．Ｉ１１制御を達成し得るパルスビーム発生装置を
提供することを目的とするものである。
間１．Ｉ１１制御を達成し得るパルスビーム発生装置を
提供することを目的とするものである。
上記目的を達成するために、本発明では、前述した移相
回路の機能を電子ビームの偏向を利用して行おうという
もので、荷電粒子ビームを高周波電圧を偏向する！一同
手段、かかる高周波の偏向手段と同一方向に直流電圧あ
るいは低周波の鋸歯状波電圧でｍｌ向するｊＪｉｌ向手
段と、−向された荷電粒子ビームの一部分のみを取り出
すだめのアパーチャ手段を具備し、前記直流電圧もしく
は低周波のＷＡ図状波゛賊圧により＾周波で発生するパ
ルスビームの発生時刻を任意に調整する如く構成したも
のである。
回路の機能を電子ビームの偏向を利用して行おうという
もので、荷電粒子ビームを高周波電圧を偏向する！一同
手段、かかる高周波の偏向手段と同一方向に直流電圧あ
るいは低周波の鋸歯状波電圧でｍｌ向するｊＪｉｌ向手
段と、−向された荷電粒子ビームの一部分のみを取り出
すだめのアパーチャ手段を具備し、前記直流電圧もしく
は低周波のＷＡ図状波゛賊圧により＾周波で発生するパ
ルスビームの発生時刻を任意に調整する如く構成したも
のである。
以下、本発明を実施ρ１を参照して説明する。
第４図は、遅延の総量が２ｎＳを越えるような長時間の
遅延は遅延量の組合せで行い、２ｎＳを越えない短時間
の遅延は電子ビームの一同で行なう如く構成した例を示
す。
遅延は遅延量の組合せで行い、２ｎＳを越えない短時間
の遅延は電子ビームの一同で行なう如く構成した例を示
す。
まず、遅延線による遅延回路を説明する。遅延回路のバ
ッファ・アンプ１７には試料、駆動回路１１からのトリ
ガーパルスが入力される。バツフア・アンプの後方には
３列のマルチプレクサ２１゜２２．２３があり、マルチ
プレクサ間と出力にもバッファ・アンプ１８，１９．２
０が設けられている。マルチプレクサ２１，２２．２３
は４ビツトで、ＣＰＵのパスライン２７を通して制御さ
れる。初段のマルチプレクサ２１で０．１２５ ｎ ｓ
の遅延線２４を１５本、中段のマルチプレクサ２２で２
ｎｓの遅延線２５を１５本、終段のマルチプレクサ２３
で３２ｎＳの遅延線２６’に１５本を備え、これらを組
合せて、総量で５１２ｎｓの遅延が得られる。
ッファ・アンプ１７には試料、駆動回路１１からのトリ
ガーパルスが入力される。バツフア・アンプの後方には
３列のマルチプレクサ２１゜２２．２３があり、マルチ
プレクサ間と出力にもバッファ・アンプ１８，１９．２
０が設けられている。マルチプレクサ２１，２２．２３
は４ビツトで、ＣＰＵのパスライン２７を通して制御さ
れる。初段のマルチプレクサ２１で０．１２５ ｎ ｓ
の遅延線２４を１５本、中段のマルチプレクサ２２で２
ｎｓの遅延線２５を１５本、終段のマルチプレクサ２３
で３２ｎＳの遅延線２６’に１５本を備え、これらを組
合せて、総量で５１２ｎｓの遅延が得られる。
次に、この遅延されたトリカーパルスで電子ビーム（必
るいは荷電粒子ビーム）をパルス化する構成を説明する
。ここでは、１周期に１つのパルスビームを作るために
２つの・−向板が用いられている。上方のＹ紬調向板３
４ａ、３４ｂの下方にはＹ＠アパーチャ３５が、上方の
Ｘ紬調向板３８ａ、３８ｂの下方にはＸ軸アパーチャ３
９が設けられている。こｎらの・訓向板には第５図に示
すような波形の′電圧が印加されている。■は発振器２
８、■は発振器２９の出力で、遅延回路を通ったトリガ
ーパルスで駆動されている。■はＹ８偏向板に、■はＸ
線偏向・阪に印加されている。Ｙ軸調回板３４ａ、３４
ｂにより、電子ビームはＹ軸アパーチャ３５上の開孔３
６と周辺部３７の間を往復する。この結果、Ｙ軸アパー
チャ３５の開孔３７を通過する電子ビームは０に示すよ
うにデユーティが約５０％のパルスビームになる。この
４子ビームがさらにＸ＠偏向板３８ ａ、 ３８ｂで偏
向される。この偏向で成子ビームはＸ軸アパーチャ３９
上の２点４１．４２を往復し、偏向板電圧が零をよぎる
ときにＸ軸アパーチャ３９の開孔４０を通過する。この
結果、Ｘ軸アパーチャ３９を通過した電子ビームは、０
に示すように非常に短いパルス状で、しかも偏向重圧
の１周期に１回のパルスビームになっている。例えば、
加速電圧１ｋＶの成子ビームではＸ＠扁向板３８ａ。
るいは荷電粒子ビーム）をパルス化する構成を説明する
。ここでは、１周期に１つのパルスビームを作るために
２つの・−向板が用いられている。上方のＹ紬調向板３
４ａ、３４ｂの下方にはＹ＠アパーチャ３５が、上方の
Ｘ紬調向板３８ａ、３８ｂの下方にはＸ軸アパーチャ３
９が設けられている。こｎらの・訓向板には第５図に示
すような波形の′電圧が印加されている。■は発振器２
８、■は発振器２９の出力で、遅延回路を通ったトリガ
ーパルスで駆動されている。■はＹ８偏向板に、■はＸ
線偏向・阪に印加されている。Ｙ軸調回板３４ａ、３４
ｂにより、電子ビームはＹ軸アパーチャ３５上の開孔３
６と周辺部３７の間を往復する。この結果、Ｙ軸アパー
チャ３５の開孔３７を通過する電子ビームは０に示すよ
うにデユーティが約５０％のパルスビームになる。この
４子ビームがさらにＸ＠偏向板３８ ａ、 ３８ｂで偏
向される。この偏向で成子ビームはＸ軸アパーチャ３９
上の２点４１．４２を往復し、偏向板電圧が零をよぎる
ときにＸ軸アパーチャ３９の開孔４０を通過する。この
結果、Ｘ軸アパーチャ３９を通過した電子ビームは、０
に示すように非常に短いパルス状で、しかも偏向重圧
の１周期に１回のパルスビームになっている。例えば、
加速電圧１ｋＶの成子ビームではＸ＠扁向板３８ａ。
３８ｂの電極間隔を２咽、電極の長さを１２ｍｍｘＸ軸
調向板３８ａ、３８ｂとＸ軸アパーチャ３９との距離を
５０胴、開孔４０を３０μｍとすると、立上、９２．５
ｎＳ（第５図中のｔ 、 、） Ｏ，％Ｌ形波を、用い
るとｏ、 ｉ ｎ ｓのパルスビームが得られる。
調向板３８ａ、３８ｂとＸ軸アパーチャ３９との距離を
５０胴、開孔４０を３０μｍとすると、立上、９２．５
ｎＳ（第５図中のｔ 、 、） Ｏ，％Ｌ形波を、用い
るとｏ、 ｉ ｎ ｓのパルスビームが得られる。
０、 Ｉ ｎ ｓのパルスビームになっているので、遅
延時間の制御は、さらに１桁短かいことが望葦しいが、
遅延線や移相器による方法では限界である。
延時間の制御は、さらに１桁短かいことが望葦しいが、
遅延線や移相器による方法では限界である。
そこでこの限界を解消するためになさｎたのが以下に述
べる４子ビーム調同による遅延である。以下、この動作
葡再び第４図をもって説明する。Ｘ軸−同板の対極３８
ｂに低周波の鋸−状波電圧（あるいは直流電圧）を印加
する。この鋸歯状波電圧はＣＰＵのパスライン２７を通
して８ビツトのレジスタ３０を動かし、これをＬｌ／Ａ
回路３１でアナログ化して得る。この出力は減設器３２
で微調蟹される。ここでは、例えば４ｖに設定する。
べる４子ビーム調同による遅延である。以下、この動作
葡再び第４図をもって説明する。Ｘ軸−同板の対極３８
ｂに低周波の鋸−状波電圧（あるいは直流電圧）を印加
する。この鋸歯状波電圧はＣＰＵのパスライン２７を通
して８ビツトのレジスタ３０を動かし、これをＬｌ／Ａ
回路３１でアナログ化して得る。この出力は減設器３２
で微調蟹される。ここでは、例えば４ｖに設定する。
第６図にＸｌｌ１ｌＩｌｌ扁向板３８ａに与える高周波
電圧波形■と、Ｘ軸向向板の対極３８ｂの波形■を示し
た。■波形と■波形が一致したときに慰子ビームの一同
：社が零になり、開孔４０を通過する。＠に成子ビーム
が開孔４０を通過する時刻を示しだ。
電圧波形■と、Ｘ軸向向板の対極３８ｂの波形■を示し
た。■波形と■波形が一致したときに慰子ビームの一同
：社が零になり、開孔４０を通過する。＠に成子ビーム
が開孔４０を通過する時刻を示しだ。
ここでは、例えば■波形の振幅が５■で立上シ２．５ｎ
Ｓ％■波形が４ｖの振幅である。パルスビーム（第６図
のド図中の太線で示す。）が■〜■に進む間に、発生時
刻が基準時刻（第６図の下図中の細ｉ腺で示す。）に対
して、−１ｎｓから＋ＩＨｓへ変化する。犬際には、■
波形と■波形の周期の差は大きいので、時間のきざみは
ずっと細かい。この最小の時間分解能は、主に■波形の
雑音（〜１０ｍＶ）で決筐り、０．０１ｎＳである。こ
のように、この回路′ｆ：用いると２１１ｓの範囲の遅
延ｉ０．０ｉｎｓの時間分解能で行うことができる。
Ｓ％■波形が４ｖの振幅である。パルスビーム（第６図
のド図中の太線で示す。）が■〜■に進む間に、発生時
刻が基準時刻（第６図の下図中の細ｉ腺で示す。）に対
して、−１ｎｓから＋ＩＨｓへ変化する。犬際には、■
波形と■波形の周期の差は大きいので、時間のきざみは
ずっと細かい。この最小の時間分解能は、主に■波形の
雑音（〜１０ｍＶ）で決筐り、０．０１ｎＳである。こ
のように、この回路′ｆ：用いると２１１ｓの範囲の遅
延ｉ０．０ｉｎｓの時間分解能で行うことができる。
この２Ｈｓの遅延と遅延課による遅延を組合せることに
より５１２ｎＳまでの遅延を連続して作ることができる
。
より５１２ｎＳまでの遅延を連続して作ることができる
。
第７図は、本発明の他の実施例である。この実施例の特
徴は、簡単な構成でストロボ走査形電子顕微鏡が実現で
きることである。この実施例では偏向板は１個だけでよ
い。−同板の一方の電極３８Ｈには試料駆動回路のトリ
ガーで同期した鋸歯状波電圧を発振器４６で発振させる
。−向板の他方の電極３８ｂには、直流電源または低周
波の鋸歯状波発振器４７の出力が与えられる。第８図に
このときのパルスビーム発生の様子を示した。
徴は、簡単な構成でストロボ走査形電子顕微鏡が実現で
きることである。この実施例では偏向板は１個だけでよ
い。−同板の一方の電極３８Ｈには試料駆動回路のトリ
ガーで同期した鋸歯状波電圧を発振器４６で発振させる
。−向板の他方の電極３８ｂには、直流電源または低周
波の鋸歯状波発振器４７の出力が与えられる。第８図に
このときのパルスビーム発生の様子を示した。
偏向板の成極３８ａの＠ｌＪ＄波亀圧Ａ電圧から５Ｖの
ｊμα囲にある。・偏向板の電極３８ｂの酸比を２．５
Ｖに設定すると、ｔｌ・・・・・・ｔｌ２の時刻に電子
ビームはアパーチャ３９の開孔４ｏを通過する。
ｊμα囲にある。・偏向板の電極３８ｂの酸比を２．５
Ｖに設定すると、ｔｌ・・・・・・ｔｌ２の時刻に電子
ビームはアパーチャ３９の開孔４ｏを通過する。
この様子を示したのが、第８図のＣである。鋸歯状波Ａ
の立上シはゆっくりしているが立下υは速いので、’１
＋’３＋ ｔ５・川・・ｔｌｌのパルスビームはｔ２＋
”４・・・・・・ｔｌ２のパルスビームより充分に５重
い。そのため１１．１３・旧・・ｔｌｌのパルスビーム
による信号が支配的になるので、第４図の例のようにＹ
＠−向板を設ける必要はない。直流重圧Ｂを変えること
によりパルスビームの発生時刻を任、蛭に変えることが
できる。この螺圧を低周波の鋸歯状波とすれば電圧波形
をＸ−Ｙ記録計４８に記録することができる。このとき
Ｘ−Ｙ記録計４８のＸ軸には鋸爾状波電圧をＹ軸には２
次電子検出器９の出力を入れる。
の立上シはゆっくりしているが立下υは速いので、’１
＋’３＋ ｔ５・川・・ｔｌｌのパルスビームはｔ２＋
”４・・・・・・ｔｌ２のパルスビームより充分に５重
い。そのため１１．１３・旧・・ｔｌｌのパルスビーム
による信号が支配的になるので、第４図の例のようにＹ
＠−向板を設ける必要はない。直流重圧Ｂを変えること
によりパルスビームの発生時刻を任、蛭に変えることが
できる。この螺圧を低周波の鋸歯状波とすれば電圧波形
をＸ−Ｙ記録計４８に記録することができる。このとき
Ｘ−Ｙ記録計４８のＸ軸には鋸爾状波電圧をＹ軸には２
次電子検出器９の出力を入れる。
なお、前述の実施例では、Ｘ紬調向手段を３８ａ、３８
ｂの一対の偏向板による１向手段で作用させたが、本発
明では、高周波用の訓向手段と低周波あるいは直流用の
ｍｌ向手段とを同一方向に別々に設けて行なってもよい
。また、前記Ｘ紬調向手段を、筒周波屈圧に低周波の鋸
歯状波直圧あるいは直流重圧を重畳して印加するように
してもよい。この場合には、前記一対のｌＪ格格子手段
うち一方にその重畳した酸比を印加し、他方は接地とす
る。
ｂの一対の偏向板による１向手段で作用させたが、本発
明では、高周波用の訓向手段と低周波あるいは直流用の
ｍｌ向手段とを同一方向に別々に設けて行なってもよい
。また、前記Ｘ紬調向手段を、筒周波屈圧に低周波の鋸
歯状波直圧あるいは直流重圧を重畳して印加するように
してもよい。この場合には、前記一対のｌＪ格格子手段
うち一方にその重畳した酸比を印加し、他方は接地とす
る。
さらにまだ、前述の央〃出例では、Ｘ軸−同手段３８ａ
、３８ｂｉ共に静電偏向板で、構成したが、前記高周波
用のｉ桶向手段を静電形で構成し、低周波あるいは直流
用の制子手段を磁界形で構成するようにしてもよい。
、３８ｂｉ共に静電偏向板で、構成したが、前記高周波
用のｉ桶向手段を静電形で構成し、低周波あるいは直流
用の制子手段を磁界形で構成するようにしてもよい。
以上述べたように、本発明によれば、従来法で４１丁能
であった５ｏｐｓ以下の時間制御が可能となる。また、
本発明は短時間の制御ばかりでなく、従来法に代って用
いれば、非常に前半なストロボ走査形成子顕微鏡が実現
できる。
であった５ｏｐｓ以下の時間制御が可能となる。また、
本発明は短時間の制御ばかりでなく、従来法に代って用
いれば、非常に前半なストロボ走査形成子顕微鏡が実現
できる。
第１図はストロボ走査形電子顕微鏡の原理を説明する図
、第２図は移相器の侮或を示す図、第３図は移相器の遅
延の原理を説明する図、第４図は本発明の一実施例を示
す図、第５図は第４図の実施例のパルス化の原理を説明
する図、第６図は１０ｐＳの遅延を実行する遅延回路の
原理を説明する図、第７図は本発明の他の央ノＩ瓜例を
示す図、第８図は第７図の実施例で行なわれている遅延
の原理を説明する図である。 ２・・・電子ビーム、２７・・・ＣＰＵのパスライン、
３０・・・レジスタ、３１・・・Ｄ／Ａ回路、３２・・
・減衰器、３４ａ、３４ｂ・・・Ｙ軸扇同板、３５・・
・Ｙ軸アパーチャ、３８ ａ 、 ３８ ｂ−・−Ｘｉ
ｌｌｌ＋−向板、３９−・・卒１目
、第２図は移相器の侮或を示す図、第３図は移相器の遅
延の原理を説明する図、第４図は本発明の一実施例を示
す図、第５図は第４図の実施例のパルス化の原理を説明
する図、第６図は１０ｐＳの遅延を実行する遅延回路の
原理を説明する図、第７図は本発明の他の央ノＩ瓜例を
示す図、第８図は第７図の実施例で行なわれている遅延
の原理を説明する図である。 ２・・・電子ビーム、２７・・・ＣＰＵのパスライン、
３０・・・レジスタ、３１・・・Ｄ／Ａ回路、３２・・
・減衰器、３４ａ、３４ｂ・・・Ｙ軸扇同板、３５・・
・Ｙ軸アパーチャ、３８ ａ 、 ３８ ｂ−・−Ｘｉ
ｌｌｌ＋−向板、３９−・・卒１目
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、荷電粒子ビームを高周波電圧で偏向する偏向手段と
、前記高周波の偏向手段と同一方向に直流電圧あるいは
低周波の鋸歯状波電圧で偏向する偏向手段と、偏向され
た荷電粒子ビームの一部分のみを取シ出すためのアパー
チャ手段を具備し、前記直流電圧あるいは低周波の鋸歯
状波電圧により、高周波で発生するパルスビームの発生
時刻を任意に調整するように構成したことを特徴とする
パルスビーム発生装置。 ２、前記高周波電圧に直流電圧あるいは低周波の鋸歯状
波電圧を重畳して一対の前記−向手段を駆動するように
構成したことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
パルスビーム発生装置。 ３、前記高周波用の偏向手段と、前記直流あるいは低周
波用の偏向手段とを、対向する一対の静電偏向板で構成
したことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のパル
スビーム発生装置。 ４、前記高周波用の偏向手段を静電形の偏向板で構成し
、前記直流あるいは低周波用の偏向手段を磁界形で構成
したことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のパル
スビーム発生装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58217724A JPS60112236A (ja) | 1983-11-21 | 1983-11-21 | パルスビ−ム発生装置 |
| US06/672,203 US4626690A (en) | 1983-11-21 | 1984-11-16 | Apparatus for chopping a charged particle beam |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58217724A JPS60112236A (ja) | 1983-11-21 | 1983-11-21 | パルスビ−ム発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60112236A true JPS60112236A (ja) | 1985-06-18 |
Family
ID=16708742
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58217724A Pending JPS60112236A (ja) | 1983-11-21 | 1983-11-21 | パルスビ−ム発生装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4626690A (ja) |
| JP (1) | JPS60112236A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62158755U (ja) * | 1986-03-28 | 1987-10-08 |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2196175B (en) * | 1986-10-03 | 1990-10-17 | Trialsite Ltd | Production of pulsed electron beams |
| DE3852851D1 (de) * | 1987-07-29 | 1995-03-09 | Siemens Ag | Vorrichtung zur Modulation der Intensität eines Korpuskularstrahls. |
| EP0304525A1 (en) * | 1987-08-28 | 1989-03-01 | FISONS plc | Pulsed microfocused ion beams |
| US4922196A (en) * | 1988-09-02 | 1990-05-01 | Amray, Inc. | Beam-blanking apparatus for stroboscopic electron beam instruments |
| JPH0775156B2 (ja) * | 1992-03-06 | 1995-08-09 | ▲巌▼ 大泊 | イオン照射装置及び方法 |
| JP2731886B2 (ja) * | 1993-04-27 | 1998-03-25 | ▲巌▼ 大泊 | シングルイオン注入装置及び方法 |
| DE10317894B9 (de) * | 2003-04-17 | 2007-03-22 | Leo Elektronenmikroskopie Gmbh | Fokussiersystem für geladene Teilchen, Elektronenmikroskopiesystem und Elektronenmikroskopieverfahren |
| DE102022105233B4 (de) | 2022-03-07 | 2024-04-04 | D.I.S. Germany GmbH | Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung kurzer Pulse geladener Teilchen |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2341922A1 (fr) * | 1976-02-17 | 1977-09-16 | Cgr Mev | Perfectionnement a un dispositif de balayage d'une cible par un faisceau de particules chargees |
| JPS53121574A (en) * | 1977-03-31 | 1978-10-24 | Cho Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai | Electron beam exposing device |
| DE2743200A1 (de) * | 1977-09-26 | 1979-04-05 | Siemens Ag | Verbesserung an einer vorrichtung zur elektronenstrahleintastung |
| DE3036659A1 (de) * | 1980-09-29 | 1982-05-13 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Korpuskularstrahl-austastsystem |
| US4445041A (en) * | 1981-06-02 | 1984-04-24 | Hewlett-Packard Company | Electron beam blanker |
-
1983
- 1983-11-21 JP JP58217724A patent/JPS60112236A/ja active Pending
-
1984
- 1984-11-16 US US06/672,203 patent/US4626690A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62158755U (ja) * | 1986-03-28 | 1987-10-08 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4626690A (en) | 1986-12-02 |
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