JPS6342458Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6342458Y2 JPS6342458Y2 JP10951482U JP10951482U JPS6342458Y2 JP S6342458 Y2 JPS6342458 Y2 JP S6342458Y2 JP 10951482 U JP10951482 U JP 10951482U JP 10951482 U JP10951482 U JP 10951482U JP S6342458 Y2 JPS6342458 Y2 JP S6342458Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- deflection
- blanking
- charged particle
- electromagnetic
- electrostatic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 16
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 2
- 101700004678 SLIT3 Proteins 0.000 description 1
- 102100027339 Slit homolog 3 protein Human genes 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は、荷電粒子ビームをブランキングする
ための装置に関する。
ための装置に関する。
従来のブランキング装置は、第1図(立面図)
に示すように、電子銃1から放射される電子ビー
ム(荷電粒子ビーム)1aが電磁レンズ2によつ
て絞られ、さらに第2図(平面図)に示すような
ビーム開き角制限用スリツト3でビーム幅を制限
されて、絞られた電子ビーム1aとなり偏向部4
に入るようになつている。
に示すように、電子銃1から放射される電子ビー
ム(荷電粒子ビーム)1aが電磁レンズ2によつ
て絞られ、さらに第2図(平面図)に示すような
ビーム開き角制限用スリツト3でビーム幅を制限
されて、絞られた電子ビーム1aとなり偏向部4
に入るようになつている。
そして、この偏向部4では、偏向制御回路5か
ら供給される制御信号を静電偏向部材12として
の静電偏向板12a,12bで受け、静電偏向に
よつて電子ビーム1aを偏向するようになつてい
る。
ら供給される制御信号を静電偏向部材12として
の静電偏向板12a,12bで受け、静電偏向に
よつて電子ビーム1aを偏向するようになつてい
る。
この従来の装置では、そのブランキング時に
は、第4図に示すように、偏向制御信号としての
電圧値が増加することにより、電子ビーム1aは
偏向され、その電圧値がスレツシヨルド電圧Vθ
を超えると、電子ビームは角度θの偏向を受け、
ブランキング用スリツト6に照射され(第4図に
符号1bで示す。)、このスリツト6を通過できな
くなる。
は、第4図に示すように、偏向制御信号としての
電圧値が増加することにより、電子ビーム1aは
偏向され、その電圧値がスレツシヨルド電圧Vθ
を超えると、電子ビームは角度θの偏向を受け、
ブランキング用スリツト6に照射され(第4図に
符号1bで示す。)、このスリツト6を通過できな
くなる。
なお、このスレツシヨルド電圧Vθは、スリツ
ト6の孔部の内半径に対応している。
ト6の孔部の内半径に対応している。
また、その非ブランキング時においては、偏向
制御信号としての電圧値が0のときは電子ビーム
1aは何ら偏向を受けず、第3図(平面図)に示
すようなブランキング用スリツト6の孔部を通過
する。
制御信号としての電圧値が0のときは電子ビーム
1aは何ら偏向を受けず、第3図(平面図)に示
すようなブランキング用スリツト6の孔部を通過
する。
偏向制御回路5より供給される偏向用制御信号
の波形は、理想的には、第5図aのような方形波
が望ましく、低速のブランキング時において方形
波状態となる。
の波形は、理想的には、第5図aのような方形波
が望ましく、低速のブランキング時において方形
波状態となる。
なお、ブランキング用スリツト6を通過した電
子ビーム1cは、コンデンサレンズ7および対物
レンズ8を通つて試料9に照対され、この試料9
からの2次電子は検出器10により検出され、こ
こから測定回路11へ測定信号が供給され、測定
が行なわれる。
子ビーム1cは、コンデンサレンズ7および対物
レンズ8を通つて試料9に照対され、この試料9
からの2次電子は検出器10により検出され、こ
こから測定回路11へ測定信号が供給され、測定
が行なわれる。
しかしながら、このような従来の装置では、ブ
ランキングのための偏向部4が、荷電粒子ビーム
に垂直な面内で対向する静電偏向部材12として
の1対の静電偏向板12a,12bとして構成さ
れるため、数百MHzや数GHzといつた高周波数で
ブランキングを行なおうとすると、第5図bに波
形Aで示すように、制御信号波形が乱れる(なま
る)という問題点がある。
ランキングのための偏向部4が、荷電粒子ビーム
に垂直な面内で対向する静電偏向部材12として
の1対の静電偏向板12a,12bとして構成さ
れるため、数百MHzや数GHzといつた高周波数で
ブランキングを行なおうとすると、第5図bに波
形Aで示すように、制御信号波形が乱れる(なま
る)という問題点がある。
さらに偏向制御信号の周波数を高くするとその
波形が乱れて、立上り立下りが第5図bに波形B
で示すようになる。
波形が乱れて、立上り立下りが第5図bに波形B
で示すようになる。
すなわち、偏向制御信号が低い周波数の場合、
ビームブランキング用スリツト6を通過する時間
がt1となるのに対し、高い周波数の場合、この時
間幅t1より短くなつて時間幅t2となる。
ビームブランキング用スリツト6を通過する時間
がt1となるのに対し、高い周波数の場合、この時
間幅t1より短くなつて時間幅t2となる。
そして、ブランキングの時間が変化するととも
に、波形が乱れることにより、荷電粒子ビーム1
aが、ビームブランキング用スリツト6を通過し
なくなつてしまうという問題点もある。
に、波形が乱れることにより、荷電粒子ビーム1
aが、ビームブランキング用スリツト6を通過し
なくなつてしまうという問題点もある。
そこで、偏向制御信号に、第5図cに示すよう
に、負の直流バイアス電圧を加え、荷電粒子ビー
ム1aがビームブランキング用スリツト6を通過
する時間を長くして、時間幅t3(t2<t3≦t1)とす
る手段も考えられるが、数百MHzから数GHzの高
周波でバイアス電圧を加えるようにすると、この
バイアス制御用回路が複雑になつてしまうという
問題点がある。
に、負の直流バイアス電圧を加え、荷電粒子ビー
ム1aがビームブランキング用スリツト6を通過
する時間を長くして、時間幅t3(t2<t3≦t1)とす
る手段も考えられるが、数百MHzから数GHzの高
周波でバイアス電圧を加えるようにすると、この
バイアス制御用回路が複雑になつてしまうという
問題点がある。
本考案は、これらの問題点を解決しようとする
もので、複雑な回路を用いることなく、荷電粒子
ビームを高速にブランキングすることのできる、
高速ブランキング装置を提供することを目的とす
る。
もので、複雑な回路を用いることなく、荷電粒子
ビームを高速にブランキングすることのできる、
高速ブランキング装置を提供することを目的とす
る。
このため、本考案の高速ブランキング装置は、
荷電粒子源からの荷電粒子ビームに対し垂直な面
に配置されてこの荷電粒子ビームを偏向する偏向
部と、同偏向部へ供給される偏向用制御信号を生
成する偏向制御回路と、ブランキング時に上記偏
向部で偏向された上記荷電粒子ビームの通過を阻
止するスリツトとをそなえ、高速にブランキング
を行なうべく、上記偏向部が、相互に配置位相が
90゜ずれた電磁偏向部材と静電偏向部材とで構成
されて、上記の電磁偏向部材および静電偏向部材
のうちの一方が主ブランキング部材として構成さ
れるとともに、その他方が副ブランキング部材と
して構成されたことを特徴としている。
荷電粒子源からの荷電粒子ビームに対し垂直な面
に配置されてこの荷電粒子ビームを偏向する偏向
部と、同偏向部へ供給される偏向用制御信号を生
成する偏向制御回路と、ブランキング時に上記偏
向部で偏向された上記荷電粒子ビームの通過を阻
止するスリツトとをそなえ、高速にブランキング
を行なうべく、上記偏向部が、相互に配置位相が
90゜ずれた電磁偏向部材と静電偏向部材とで構成
されて、上記の電磁偏向部材および静電偏向部材
のうちの一方が主ブランキング部材として構成さ
れるとともに、その他方が副ブランキング部材と
して構成されたことを特徴としている。
以下、図面により本考案の一実施例としての高
速ブランキング装置について説明すると、第6,
7図は高速ブランキング装置の偏向部を示すもの
で、第6図はその立面図、第7図はその平面図で
ある。なお、第6,7図中、第1〜5図と同じ符
号はほぼ同様のものを示す。
速ブランキング装置について説明すると、第6,
7図は高速ブランキング装置の偏向部を示すもの
で、第6図はその立面図、第7図はその平面図で
ある。なお、第6,7図中、第1〜5図と同じ符
号はほぼ同様のものを示す。
第6,7図に示すように、偏向部4には、荷電
粒子ビーム(電子ビーム)1aと垂直な同一面上
で、主ブランキング部材としての静電偏向部材1
2と配置位相が90゜ずれた副ブランキング部材と
しての電磁偏向部材13が配設されている。
粒子ビーム(電子ビーム)1aと垂直な同一面上
で、主ブランキング部材としての静電偏向部材1
2と配置位相が90゜ずれた副ブランキング部材と
しての電磁偏向部材13が配設されている。
荷電粒子ビーム1aは、そのビームの進行方向
と直角で電界と平行な方向、および磁界と直角な
方向に力を受けるので、偏向部4に入射した荷電
粒子ビーム1aには、静電偏向部材12を構成す
る静電偏向板12a,12bによる電界からの力
と、電磁偏向部材13を構成する電磁偏向コイル
13a,13bによる磁界からの力とが、同一の
方向、また反対の方向に働らくことになる。
と直角で電界と平行な方向、および磁界と直角な
方向に力を受けるので、偏向部4に入射した荷電
粒子ビーム1aには、静電偏向部材12を構成す
る静電偏向板12a,12bによる電界からの力
と、電磁偏向部材13を構成する電磁偏向コイル
13a,13bによる磁界からの力とが、同一の
方向、また反対の方向に働らくことになる。
したがつて、電磁偏向コイル13a,13bに
直流の電流を流しておけば、電磁偏向により荷電
粒子ビーム1aは絶えず一定の力を加えられるこ
とになる。この電磁偏向による力と、静電偏向に
よる力とが加わつて、等価的に静電偏向のための
偏向制御信号に直流バイアス電圧をかけているの
と同じ効果が生まれる。
直流の電流を流しておけば、電磁偏向により荷電
粒子ビーム1aは絶えず一定の力を加えられるこ
とになる。この電磁偏向による力と、静電偏向に
よる力とが加わつて、等価的に静電偏向のための
偏向制御信号に直流バイアス電圧をかけているの
と同じ効果が生まれる。
このため、静電偏向部材12に直流バイアス電
圧をかける複雑な回路が不要となり、電磁偏向部
材13およびこの部材13に直流を流す簡素な回
路のみで、高速のブランキングが正確に行なえる
ことになる。
圧をかける複雑な回路が不要となり、電磁偏向部
材13およびこの部材13に直流を流す簡素な回
路のみで、高速のブランキングが正確に行なえる
ことになる。
さらに、電磁偏向部材13に流す電流を変える
ことで、ブランキング毎の照射時間や照射位置を
調整することが容易にできる。
ことで、ブランキング毎の照射時間や照射位置を
調整することが容易にできる。
なお、偏向部4と同様の構成の偏向部を、配置
位相置を例えば90゜ずらしてもう1組設置して、
2次元的にブランキングを行なつてもよく、この
場合は一方の組を立上りに用いて、その他方の組
を立下りに用いるようにして、より正確且つ高速
なブランキングを行なうことができる。
位相置を例えば90゜ずらしてもう1組設置して、
2次元的にブランキングを行なつてもよく、この
場合は一方の組を立上りに用いて、その他方の組
を立下りに用いるようにして、より正確且つ高速
なブランキングを行なうことができる。
さらに、主ブランキング部材を電磁偏向部材で
構成し、副ブランキング部材を静電偏向部材で構
成してもよい。この副ブランキング部材に供給さ
れる偏向制御信号は一定バイアスによるもののほ
か、主ブランキング部材に同期した方形波を用い
てもよい。
構成し、副ブランキング部材を静電偏向部材で構
成してもよい。この副ブランキング部材に供給さ
れる偏向制御信号は一定バイアスによるもののほ
か、主ブランキング部材に同期した方形波を用い
てもよい。
以上詳述したように、本考案の高速ブランキン
グ装置によれば、偏向部に電磁偏向部材と静電偏
向部材とを相互に90゜ずれた配置位相で設けると
いう簡素な構成で、高速のブランキングを行なう
ことができるという利点がある。
グ装置によれば、偏向部に電磁偏向部材と静電偏
向部材とを相互に90゜ずれた配置位相で設けると
いう簡素な構成で、高速のブランキングを行なう
ことができるという利点がある。
第1〜5図は、従来のブランキング装置を示す
もので、第1図はその全体構成図、第2図は第1
図の部詳細図、第3図は第1図の部詳細図、
第4図は荷電粒子ビームの偏向を示す説明図、第
5図a〜cはいずれも偏向制御信号を示すグラフ
であり、第6,7図は本考案の一実施例としての
高速ブランキング装置を示すもので、第6図はそ
の立面図、第7図はその平面図である。 1……電子銃、1a,1b,1c……電子ビー
ム、2……電磁レンズ、3……ビーム開き角制限
用スリツト、4……偏向部、5……偏向制御回
路、6……ビームブランキング用スリツト、7…
…コンデンサレンズ、8……対物レンズ、9……
試料、10……プリアンプ、11……測定回路、
12……主ブランキング部材としての静電偏向部
材、12a,12b……静電偏向板、13……副
ブランキング部材としての電磁偏向部材、13
a,13b……電磁偏向コイル。
もので、第1図はその全体構成図、第2図は第1
図の部詳細図、第3図は第1図の部詳細図、
第4図は荷電粒子ビームの偏向を示す説明図、第
5図a〜cはいずれも偏向制御信号を示すグラフ
であり、第6,7図は本考案の一実施例としての
高速ブランキング装置を示すもので、第6図はそ
の立面図、第7図はその平面図である。 1……電子銃、1a,1b,1c……電子ビー
ム、2……電磁レンズ、3……ビーム開き角制限
用スリツト、4……偏向部、5……偏向制御回
路、6……ビームブランキング用スリツト、7…
…コンデンサレンズ、8……対物レンズ、9……
試料、10……プリアンプ、11……測定回路、
12……主ブランキング部材としての静電偏向部
材、12a,12b……静電偏向板、13……副
ブランキング部材としての電磁偏向部材、13
a,13b……電磁偏向コイル。
Claims (1)
- 荷電粒子源からの荷電粒子ビームに対し垂直な
面に配置されてこの荷電粒子ビームを偏向する偏
向部と、同偏向部へ供給される偏向用制御信号を
生成する偏向制御回路と、ブランキング時に上記
偏向部で偏向された上記荷電粒子ビームの通過を
阻止するスリツトとをそなえ、高速にブランキン
グを行なうべく、上記偏向部が、相互に配置位相
が90゜ずれた電磁偏向部材と静電偏向部材とで構
成されて、上記の電磁偏向部材および静電偏向部
材のうちの一方が主ブランキング部材として構成
されるとともに、その他方が副ブランキング部材
として構成されたことを特徴とする、高速ブラン
キング装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10951482U JPS5914259U (ja) | 1982-07-20 | 1982-07-20 | 高速ブランキング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10951482U JPS5914259U (ja) | 1982-07-20 | 1982-07-20 | 高速ブランキング装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5914259U JPS5914259U (ja) | 1984-01-28 |
JPS6342458Y2 true JPS6342458Y2 (ja) | 1988-11-07 |
Family
ID=30255075
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10951482U Granted JPS5914259U (ja) | 1982-07-20 | 1982-07-20 | 高速ブランキング装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5914259U (ja) |
-
1982
- 1982-07-20 JP JP10951482U patent/JPS5914259U/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5914259U (ja) | 1984-01-28 |
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