DE2703857A1 - Verfahren und anordnung zur fotografischen oder fotolithografischen herstellung von teilkreisen - Google Patents

Verfahren und anordnung zur fotografischen oder fotolithografischen herstellung von teilkreisen

Info

Publication number
DE2703857A1
DE2703857A1 DE19772703857 DE2703857A DE2703857A1 DE 2703857 A1 DE2703857 A1 DE 2703857A1 DE 19772703857 DE19772703857 DE 19772703857 DE 2703857 A DE2703857 A DE 2703857A DE 2703857 A1 DE2703857 A1 DE 2703857A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
lens
lighting device
condenser
division
beam path
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE19772703857
Other languages
German (de)
English (en)
Inventor
Hermann Leipold
Heinz Schroeder
Kurt Dipl Chem Veit
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jenoptik AG
Original Assignee
Jenoptik Jena GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jenoptik Jena GmbH filed Critical Jenoptik Jena GmbH
Publication of DE2703857A1 publication Critical patent/DE2703857A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
    • G03F7/201—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by an oblique exposure; characterised by the use of plural sources; characterised by the rotation of the optical device; characterised by a relative movement of the optical device, the light source, the sensitive system or the mask

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
DE19772703857 1976-03-22 1977-01-31 Verfahren und anordnung zur fotografischen oder fotolithografischen herstellung von teilkreisen Withdrawn DE2703857A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DD19195076A DD125687A1 (it) 1976-03-22 1976-03-22

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE2703857A1 true DE2703857A1 (de) 1977-10-06

Family

ID=5503982

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19772703857 Withdrawn DE2703857A1 (de) 1976-03-22 1977-01-31 Verfahren und anordnung zur fotografischen oder fotolithografischen herstellung von teilkreisen

Country Status (3)

Country Link
CH (1) CH613771A5 (it)
DD (1) DD125687A1 (it)
DE (1) DE2703857A1 (it)

Also Published As

Publication number Publication date
DD125687A1 (it) 1977-05-11
CH613771A5 (en) 1979-10-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0687956B1 (de) Beleuchtungseinrichtung
EP0658810B1 (de) Beleuchtungseinrichtung für ein optisches System mit einem Reticle-Maskierungssystem
DE2263856C3 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Korrigieren defekter Fotomasken
EP2100190B1 (de) Projektionsbelichtungsanlage für die mikrolithographie
DE2910280A1 (de) Optisches abbildungssystem
DE102009054540B4 (de) Beleuchtungsoptik für die EUV-Mikrolithographie
DE60128975T2 (de) Mikrolithographischer Projektionsapparat
DE102015226571B4 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Wellenfrontanalyse
DE102008001553A1 (de) Komponente zur Einstellung einer scanintegrierten Beleuchtungsenergie in einer Objektebene einer Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage
DE102007027985A1 (de) Optisches System, insbesondere Beleuchtungseinrichtung oder Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE4421053A1 (de) Beleuchtungseinrichtung
DE102018207103A1 (de) Feldfacettenspiegel
DE19809395A1 (de) Beleuchtungssystem und REMA-Objektiv mit Linsenverschiebung und Betriebsverfahren dafür
WO2018113918A1 (de) Vorrichtung und verfahren zur belichtung einer lichtempfindlichen schicht
DE4007069C2 (de) Vorrichtung zur optischen Abbildung
DE68926721T2 (de) Verfahren und Gerät zur Charakterisierung von optischen Systemen
DE2307158A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur herstellung rotationssymmetrischer asphaerischer beugungsoptischer elemente
WO2003046663A2 (de) Charakterisierung der beleuchtungswinkelverteilung einer projektionsbelichtungs anlage
DE2703857A1 (de) Verfahren und anordnung zur fotografischen oder fotolithografischen herstellung von teilkreisen
DD125687B1 (de) Anordnung zur fotografischen oder fotolithografischen Herstellung von Teilkreisen
DE19949009A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum gegenseitigen Ausrichten eines in einer Maske gebildeten Maskenmusters und eines Substrates
DE19856575A1 (de) Projektions-Mikrolithographiegerät
DE102016201317A1 (de) Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithographie
DE102009016456A1 (de) Beleuchtungsoptik für die Mikrolithografie
DE102015224522B4 (de) Beleuchtungssystem einer mikrolithographischen Projektionsanlage und Verfahren zum Betreiben eines solchen Systems

Legal Events

Date Code Title Description
8139 Disposal/non-payment of the annual fee