DE2307158A1 - Verfahren und vorrichtung zur herstellung rotationssymmetrischer asphaerischer beugungsoptischer elemente - Google Patents
Verfahren und vorrichtung zur herstellung rotationssymmetrischer asphaerischer beugungsoptischer elementeInfo
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Description
AGFA-GEVAERT AKTIENGESELLSCHAFT « Februar 1973 Leverkusen lO-hl-sr
PO 153/MO 201
Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung rotationssymmetrischer asphärischer beugungsoptischer Elemente
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Herstellung rotationssymmetrischer asphärischer beugungsoptischer
Elemente.
In der modernen kohärenten und inkohärenten Optik gewinnt die Verwendung asphärischer Bauelemente zunehmende Bedeutung. Ihre
Einsatzmöglichkeiten erstrecken sich von der einfachen Beleuchtungsoptik über Korrekturglieder in Abbildungssystemen bis zur
Realisierung spezieller mathematischer Transformationen im kohärent-optischen Analogrechner, Da grundsätzlich jede Lichtwellenfront
beugungsoptisch rekonstruiert werden kann, läßt sich im Prinzip jedes optische Element durch ein entsprechendes
Hologramm ersetzen. Die Herstellung des Hologramms setzt aber die Existenz der gewünschten Wellenfront voraus, so daß das zu
realisierende Element bis auf Maßstabsfaktoren bereits vorliegen
muß. Einen bekannten Ausweg im Falle glasoptisch schwer herstellbarer Profile bietet die Computersynthese von Hologrammen, ein
Verfahren, das zwar in jedem Fall zum Ziel führt, aber verhältnismäßig hohen Aufwand erfordert.
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PO 153/MO 201 - 2 -
Es ist das Ziel der Erfindung, ein Verfahren und eine Vorrichtung zu£einer Durchführung zu schaffen, durch die ein einfaches Erzeugen
asphärischer rotationssynuaetrischer optischer Elemente ermöglicht wird.
Erfindungsgemäß wird dies dadurch erreicht, daß aus einer der
radialen Verteilung der optischen Eigenschaften des herzustellenden optischen Elementes entsprechenden eindimensional variierenden
Lichtverteilung senkrecht zur Variationsrichtung ein Bereich ausgeblendet und durch Aufzeichnung auf ein rotierendes lichtempfindliches
Medium und Entwickeln und gegebenenfalls Bleichen desselben in eine entsprechende rotationssymmetrische Absorptions- und/oder
Phasenstruktur transformiert wird.
Dabei wird zur Ausblendung des Bereiches ein in radialer Richtung durch den Drehpunkt des Aufzeichnungsmediums verlaufender Spalt
verwendet.
Um die Breite bzw. die Belichtung der aufgezeichneten. Zonen in
radialer Richtung zu variieren bzw. zu korrigieren ist es vorteilhaft,
einen Spalt mit einem Verlauffilter, dessen Transparenz in
Richtung auf das Zentrum hin abnimmt, bzw. einen Spalt, der sich sektorförmig zum Drehpunkt hin verjüngt, zu verwenden.
Ferner ist es vorteilhaft, wenn die Leuchtdichte des eindimensionalen
Musters im Bereich des Spaltes durch eine senkrecht zur Spaltrichtung fokussierende Zylinderoptik erhöht wird.
409834/0491 3"
Die eindimensional variierende Lichtverteilung kann in bekannter Weise durch Interferenz kohärenter Wellenfelder erzeugt oder
berechnet, reprografisch in Form von Transparenzschwankungen dargestellt und in die Ausblendungsebene abgebildet werden.
Wenn beispielsweise als eindimensionales Muster ein Gitter konstanter Periode verwendet wird, entsteht durch die Rotation
ein optisches Element, das einem Glaskegel entspricht. Wenn ein eindimensionales Muster, das einem Schnitt durch eine Zonenlinse
entspricht, bei der Rotation aufgezeichnet wird, ergibt sich eine
Toruslinse.
Weitere Vorteile und Einzelheiten der Erfindung werden anhand
von Zeichnungen erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 schematisch einen Schnitt durch eine Vorrichtung zur Aufzeichnung von rotationssymmetrischen Mustern durch
Abbildung von eindimensionalen Mustern,
Fig. 2 eine Vorrichtung zur Aufzeichnung von rotationssymmetrischen
Mustern durch Interferenz von kohärenten Wellenfeldern,
Fig. 3 perspektivisch eine Teilansicht der Aufzeichnungsvorrichtung
nach Fig. 1 und 2,
Fig.3a in der Aufsicht eine alternative Ausführungsform zur
Ausführung nach Fig. 3,
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Fig. 4 eine Prinzipskizze eines hergestellten Beugungsoptischen Elementes und seines brechungsoptischen
Analogons,
Fig. 5 eine Prinzipskizze eines weiteren Paares von optischen Elementen.
Auf einem mittels eines Motors M angetriebenen gleichmäßig rotierenden Drehtisch 1 befindet sich eine auf einem Träger 2a
aufgegossene lichtempfindliche Schicht 2b. Darüber ist eine ortsfeste
Blende 3 angebracht, die einen Spalt 3s aufweist, der bezüglich der Drehachse A radial angeordnet ist. Der Spalt ist entweder
wie in Fig. 3 dargestellt sektorförmig oder gemäß Fig. 3a rechteckig und mit einem Verlauffilter V, dessen Transparenz dem
Drehzentrum zu abnimmt, abgedeckt.
Da die auf ein Flächenelement des lichtempfindlichen Aufzeichnungsträgers
treffende Belichtungszeit mit der vom Drehpunkt aus radial zunehmenden Umfangsgeschwindigkeit abnimmt, ist zur Erzielung
gleichmäßiger Schwärzung eine entsprechende sektorförmige Formgebung des Spalts bzw. abnehmende Transparenz des Verlauffilters
V erforderlich.
Ferner ist eine Vorrichtung zur Erzeugung einer Intensitätsverteilung
längs des Spaltes vorgesehen. Dieselbe kann gemäß Fig. derart ausgebildet sein, daß eine vorgegebene Transparenzverteilung
auf einer Maske 4, die in bekannter Weise errechnet und zeichnerisch oder durch Interferenzen hergestellt werden kann,
mittels einer Beleuchtungseinrichtung und eines Objektives durch den Spalt 3s auf die lichtempfindliche Schicht 2b abgebildet wird.
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Dabei kann die Beleuchtungsstärke durch eine längs des Spaltes 3s orientierte Zylinderlinse Z erhöht werden.
Die Abbildungsvorrichtung besteht in bekannter Weise aus einer Lichtquelle 5, einem Hohlspiegel 6, einer Kondensorlinse 7 und
einem Projektionsobjektiv 8.
Eine weitere Möglichkeit ein Intensitätsmuster aufzubelichten,
besteht gemäß Fig. 2 darin, durch Interferenz zweier oder mehrerer
kohärenter Strahlenbündel auf der lichtempfindlichen Schicht 2b
erzeugte Interferenzmuster aufzuzeichnen. Schematisch zeigt Fig. 2 einen Laser 9, einen Strahlenteiler 10, einen Umlenkspiegel 11 und zwei bekannte Aufspreizvorrichtungen 13 für den
Strahl des Lasers 9. Durch die dargestellte Anordnung wird ein Interferenzgitter erzeugt. Durch Verwendung mindestens eines
konvergierenden Bündels kann in bekannter Weise auch ein Muster mit verschiedenen Abständen zwischen den Intensitätsmaxima auf
der lichtempfindlichen Schicht 2b hergestellt werden.
Fig. 4a zeigt einen kegelförmigen Glaskörper, ier als "Axicon"
bekannt ist. Das beugungsoptische Analogon 4b ist ein System von konzentrischen Ringen, die gleichen Abstand voneinander aufweisen.
Mit der beschriebenen Vorrichtung kann ein solches System durch Verwendung eines Gitters mit gleichen Strichabständen nach
Fig. 1 oder durch Interferenz nach Fig. 2 aufbelichtet werden.
Fig. 5a stellt eine Toruslinse dar. Das beugungsoptische Analogon 5b dazu besteht aus einem Ringsystem, dessen Ringabstände innen
und außen klein sind und nach der Mitte hin zunehmen. Zur Erzeugung dieses Systems wird mit der Vorrichtung nach Fig. 1 ein
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Schnitt durch eine Fresnel'sehe Zonenlinse abgebildet bzw. mit
der Vorrichtung nach Fig. 2 durch Interferenz eines parallelen mit einem konvergenten oder divergenten kohärenten Strahlenbündel
ein entsprechendes Muster erzeugt und aufbelichtet.
Die lichtempfindlichen Schichten 2b werden nach der Belichtung
in bekannter Weise entwickelt und gegebenenfalls gebleicht bzw. gerbend entwickelt.
Die Erfindung ist nicht auf die offenbarten Beispiele beschränkt.
So kann z. B. zur Herstellung einer Joruslipse auch ein Schnitt durch das Ringsystem eines Fabry-Perot-Interferometers verwendet
werden oder allgemein die !.inienbreite durch Interferenz von
mehreren kohärenten Strahlen gegenüber der Zweistrahlinterferenz verringert werden.
mehreren kohärenten Strahlen gegenüber der Zweistrahlinterferenz verringert werden.
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Claims (12)
- AnsprücheflJVerfahren zur Herstellung rotationssymmetrischer asphärischer beugungsoptiscaer Elemente, dadurch gekennzeichnet, daß aus einer entsprechend vorgegebenen eindimensional variierenden Lichtverteilung senkrecht zur Variationsrichtung ein Bereich (3s) ausgeblendet und durch Aufzeichnung auf ein rotierendes lichtempfindliches Medium (2b) und Entwickeln und gegebenenfalls Bleichen desselben in eine entsprechende rotationssymmetrische Absorptions- und/oder Phasenstruktur transformiert wird.
- 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zur Ausblendung des Bereiches ein in radialer Richtung durch den Drehpunkt des Aufzeichnungsmediums (2b) verlaufender Spalt (3s) verwendet wird.
- 3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß ein sich sektorförmig zum Drehpunkt hin verjüngender Spalt (3s) verwendet wird.409834/0491PO 153/MO 201 - 8 -
- 4. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Spalt (3s) mit einem denselben abdeckenden Verlauffilter(V) mit in Richtung zum Zentrum abnehmender Transparenz verwendet wird.
- 5. Verfahren nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Leuchtdichte des eindimensionalen Musters im Bereich des Spaltes durch eine senkrecht zur Spaltrichtung fokussierende Zylinderoptik (Z) erhöht wird.
- 6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die eindimensional variierende Lichtverteilung durch Interferenz kohärenter Wellenfelder erzeugt wird.
- 7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die eindimensional variierende Lichtverteilung berechnet, reprografisch in Form von Transparenzschwankungen dargestellt und in die Ausblendungsebene abgebildet wird.
- 8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß als eindimensionales Muster ein Gitter konstanter Periode verwendet wird.
- 9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß als eindimensionales Muster ein Ausschnitt aus einer Zonenlinse verwendet wird.409834/0491 ~9~PO 153/MO 201 - 9 -
- 10. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß auf einem drehbaren Tisch (1) ein lichtempfindliches Aufnahmemedium (2b) gelagert ist und daß über dem Medium (2b) eine feststehende Blende (3) mit einem durch den Drehpunkt des Tisches (1) verlaufenden Spalt (3s) und eine an sich bekannte Einrichtung (5 - 8) zum Aufbelichten eines Musters (4) durch den Spalt (3s) auf das Aufnahmemedium (2b) vorgesehen ist.
- 11. Vorrichtung nach Anspruch IO, dadurch gekennzeichnet, daß der Spalt (3s) sich sektorförmig zum Drehpunkt hin verjüngt.
- 12. Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß der Spalt (3s) mit einem Verlauffilter (V) mit in Richtung zum Zentrum abnehmender Transparenz abgedeckt ist.Hierzu <j» Blatt Zeichnungen409834/0491
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Applications Claiming Priority (1)
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Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4936665A (en) * | 1987-10-25 | 1990-06-26 | Whitney Theodore R | High resolution imagery systems and methods |
US5156943A (en) * | 1987-10-25 | 1992-10-20 | Whitney Theodore R | High resolution imagery systems and methods |
CA1320374C (en) * | 1988-05-31 | 1993-07-20 | Jere D. Buckley | Apparatus and method for reproducing a pattern in an annular area |
US5291315A (en) * | 1988-07-26 | 1994-03-01 | Konica Corporation | Method of obtaining hologram and an exposure apparatus |
US5168304A (en) * | 1988-08-22 | 1992-12-01 | Nikon Corporation | Exposure apparatus |
US5405733A (en) * | 1992-05-12 | 1995-04-11 | Apple Computer, Inc. | Multiple beam laser exposure system for liquid crystal shutters |
US5760931A (en) * | 1992-12-14 | 1998-06-02 | Nippondenso Co., Ltd. | Image display unit |
WO1998029767A1 (en) * | 1997-01-04 | 1998-07-09 | Munday Robert A | Method and apparatus for creating holographic patterns |
JP3950518B2 (ja) | 1997-06-27 | 2007-08-01 | キヤノン株式会社 | 回折光学素子の製造方法 |
CN108803243A (zh) * | 2017-04-27 | 2018-11-13 | 中国科学院福建物质结构研究所 | 一种数字投影3d成型装置 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2183204A (en) * | 1937-05-29 | 1939-12-12 | Bell Telephone Labor Inc | Electro-optical system |
US2549699A (en) * | 1945-09-19 | 1951-04-17 | Dean B Mclaughlin | Photographic method and apparatus |
US2758504A (en) * | 1953-05-19 | 1956-08-14 | Elliott Brothers London Ltd | Production of engine-divided scales |
GB897297A (en) * | 1957-10-10 | 1962-05-23 | Nat Res Dev | Improvements in and relating to the production of scales photographically |
US3728117A (en) * | 1968-01-20 | 1973-04-17 | Heidenhain J Fa | Optical diffraction grid |
-
1973
- 1973-02-14 DE DE2307158A patent/DE2307158A1/de not_active Ceased
-
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- 1974-02-13 US US05/442,140 patent/US4032343A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
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