DE2307158A1 - Verfahren und vorrichtung zur herstellung rotationssymmetrischer asphaerischer beugungsoptischer elemente - Google Patents

Verfahren und vorrichtung zur herstellung rotationssymmetrischer asphaerischer beugungsoptischer elemente

Info

Publication number
DE2307158A1
DE2307158A1 DE2307158A DE2307158A DE2307158A1 DE 2307158 A1 DE2307158 A1 DE 2307158A1 DE 2307158 A DE2307158 A DE 2307158A DE 2307158 A DE2307158 A DE 2307158A DE 2307158 A1 DE2307158 A1 DE 2307158A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
gap
pivot point
transparency
light distribution
recording medium
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
DE2307158A
Other languages
English (en)
Inventor
Reinhold Dipl Phys Dr Deml
Ulrich Dipl Phys Dr Greis
Wilhelm Dipl Phys D Kapfhammer
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Agfa Gevaert AG
Original Assignee
Agfa Gevaert AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Agfa Gevaert AG filed Critical Agfa Gevaert AG
Priority to DE2307158A priority Critical patent/DE2307158A1/de
Priority to US05/442,140 priority patent/US4032343A/en
Publication of DE2307158A1 publication Critical patent/DE2307158A1/de
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems
    • G03F7/70075Homogenization of illumination intensity in the mask plane by using an integrator, e.g. fly's eye lens, facet mirror or glass rod, by using a diffusing optical element or by beam deflection
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/18Diffraction gratings
    • G02B5/1847Manufacturing methods
    • G02B5/1857Manufacturing methods using exposure or etching means, e.g. holography, photolithography, exposure to electron or ion beams
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/32Holograms used as optical elements
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70358Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
    • G03F7/70366Rotary scanning
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70408Interferometric lithography; Holographic lithography; Self-imaging lithography, e.g. utilizing the Talbot effect

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Holo Graphy (AREA)

Description

AGFA-GEVAERT AKTIENGESELLSCHAFT « Februar 1973 Leverkusen lO-hl-sr
PO 153/MO 201
Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung rotationssymmetrischer asphärischer beugungsoptischer Elemente
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Herstellung rotationssymmetrischer asphärischer beugungsoptischer Elemente.
In der modernen kohärenten und inkohärenten Optik gewinnt die Verwendung asphärischer Bauelemente zunehmende Bedeutung. Ihre Einsatzmöglichkeiten erstrecken sich von der einfachen Beleuchtungsoptik über Korrekturglieder in Abbildungssystemen bis zur Realisierung spezieller mathematischer Transformationen im kohärent-optischen Analogrechner, Da grundsätzlich jede Lichtwellenfront beugungsoptisch rekonstruiert werden kann, läßt sich im Prinzip jedes optische Element durch ein entsprechendes Hologramm ersetzen. Die Herstellung des Hologramms setzt aber die Existenz der gewünschten Wellenfront voraus, so daß das zu realisierende Element bis auf Maßstabsfaktoren bereits vorliegen muß. Einen bekannten Ausweg im Falle glasoptisch schwer herstellbarer Profile bietet die Computersynthese von Hologrammen, ein Verfahren, das zwar in jedem Fall zum Ziel führt, aber verhältnismäßig hohen Aufwand erfordert.
409834/0491
PO 153/MO 201 - 2 -
Es ist das Ziel der Erfindung, ein Verfahren und eine Vorrichtung zu£einer Durchführung zu schaffen, durch die ein einfaches Erzeugen asphärischer rotationssynuaetrischer optischer Elemente ermöglicht wird.
Erfindungsgemäß wird dies dadurch erreicht, daß aus einer der radialen Verteilung der optischen Eigenschaften des herzustellenden optischen Elementes entsprechenden eindimensional variierenden Lichtverteilung senkrecht zur Variationsrichtung ein Bereich ausgeblendet und durch Aufzeichnung auf ein rotierendes lichtempfindliches Medium und Entwickeln und gegebenenfalls Bleichen desselben in eine entsprechende rotationssymmetrische Absorptions- und/oder Phasenstruktur transformiert wird.
Dabei wird zur Ausblendung des Bereiches ein in radialer Richtung durch den Drehpunkt des Aufzeichnungsmediums verlaufender Spalt verwendet.
Um die Breite bzw. die Belichtung der aufgezeichneten. Zonen in radialer Richtung zu variieren bzw. zu korrigieren ist es vorteilhaft, einen Spalt mit einem Verlauffilter, dessen Transparenz in Richtung auf das Zentrum hin abnimmt, bzw. einen Spalt, der sich sektorförmig zum Drehpunkt hin verjüngt, zu verwenden.
Ferner ist es vorteilhaft, wenn die Leuchtdichte des eindimensionalen Musters im Bereich des Spaltes durch eine senkrecht zur Spaltrichtung fokussierende Zylinderoptik erhöht wird.
409834/0491 3"
Die eindimensional variierende Lichtverteilung kann in bekannter Weise durch Interferenz kohärenter Wellenfelder erzeugt oder berechnet, reprografisch in Form von Transparenzschwankungen dargestellt und in die Ausblendungsebene abgebildet werden.
Wenn beispielsweise als eindimensionales Muster ein Gitter konstanter Periode verwendet wird, entsteht durch die Rotation ein optisches Element, das einem Glaskegel entspricht. Wenn ein eindimensionales Muster, das einem Schnitt durch eine Zonenlinse entspricht, bei der Rotation aufgezeichnet wird, ergibt sich eine Toruslinse.
Weitere Vorteile und Einzelheiten der Erfindung werden anhand von Zeichnungen erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 schematisch einen Schnitt durch eine Vorrichtung zur Aufzeichnung von rotationssymmetrischen Mustern durch Abbildung von eindimensionalen Mustern,
Fig. 2 eine Vorrichtung zur Aufzeichnung von rotationssymmetrischen Mustern durch Interferenz von kohärenten Wellenfeldern,
Fig. 3 perspektivisch eine Teilansicht der Aufzeichnungsvorrichtung nach Fig. 1 und 2,
Fig.3a in der Aufsicht eine alternative Ausführungsform zur Ausführung nach Fig. 3,
4 0 9 8 3 A / Ü U 9 1 "4"
Fig. 4 eine Prinzipskizze eines hergestellten Beugungsoptischen Elementes und seines brechungsoptischen Analogons,
Fig. 5 eine Prinzipskizze eines weiteren Paares von optischen Elementen.
Auf einem mittels eines Motors M angetriebenen gleichmäßig rotierenden Drehtisch 1 befindet sich eine auf einem Träger 2a aufgegossene lichtempfindliche Schicht 2b. Darüber ist eine ortsfeste Blende 3 angebracht, die einen Spalt 3s aufweist, der bezüglich der Drehachse A radial angeordnet ist. Der Spalt ist entweder wie in Fig. 3 dargestellt sektorförmig oder gemäß Fig. 3a rechteckig und mit einem Verlauffilter V, dessen Transparenz dem Drehzentrum zu abnimmt, abgedeckt.
Da die auf ein Flächenelement des lichtempfindlichen Aufzeichnungsträgers treffende Belichtungszeit mit der vom Drehpunkt aus radial zunehmenden Umfangsgeschwindigkeit abnimmt, ist zur Erzielung gleichmäßiger Schwärzung eine entsprechende sektorförmige Formgebung des Spalts bzw. abnehmende Transparenz des Verlauffilters V erforderlich.
Ferner ist eine Vorrichtung zur Erzeugung einer Intensitätsverteilung längs des Spaltes vorgesehen. Dieselbe kann gemäß Fig. derart ausgebildet sein, daß eine vorgegebene Transparenzverteilung auf einer Maske 4, die in bekannter Weise errechnet und zeichnerisch oder durch Interferenzen hergestellt werden kann, mittels einer Beleuchtungseinrichtung und eines Objektives durch den Spalt 3s auf die lichtempfindliche Schicht 2b abgebildet wird.
409834/049Ί
Dabei kann die Beleuchtungsstärke durch eine längs des Spaltes 3s orientierte Zylinderlinse Z erhöht werden.
Die Abbildungsvorrichtung besteht in bekannter Weise aus einer Lichtquelle 5, einem Hohlspiegel 6, einer Kondensorlinse 7 und einem Projektionsobjektiv 8.
Eine weitere Möglichkeit ein Intensitätsmuster aufzubelichten, besteht gemäß Fig. 2 darin, durch Interferenz zweier oder mehrerer kohärenter Strahlenbündel auf der lichtempfindlichen Schicht 2b erzeugte Interferenzmuster aufzuzeichnen. Schematisch zeigt Fig. 2 einen Laser 9, einen Strahlenteiler 10, einen Umlenkspiegel 11 und zwei bekannte Aufspreizvorrichtungen 13 für den Strahl des Lasers 9. Durch die dargestellte Anordnung wird ein Interferenzgitter erzeugt. Durch Verwendung mindestens eines konvergierenden Bündels kann in bekannter Weise auch ein Muster mit verschiedenen Abständen zwischen den Intensitätsmaxima auf der lichtempfindlichen Schicht 2b hergestellt werden.
Fig. 4a zeigt einen kegelförmigen Glaskörper, ier als "Axicon" bekannt ist. Das beugungsoptische Analogon 4b ist ein System von konzentrischen Ringen, die gleichen Abstand voneinander aufweisen. Mit der beschriebenen Vorrichtung kann ein solches System durch Verwendung eines Gitters mit gleichen Strichabständen nach Fig. 1 oder durch Interferenz nach Fig. 2 aufbelichtet werden.
Fig. 5a stellt eine Toruslinse dar. Das beugungsoptische Analogon 5b dazu besteht aus einem Ringsystem, dessen Ringabstände innen und außen klein sind und nach der Mitte hin zunehmen. Zur Erzeugung dieses Systems wird mit der Vorrichtung nach Fig. 1 ein
. 409834/0491
PO 153/MO 2Ol - 6 -
Schnitt durch eine Fresnel'sehe Zonenlinse abgebildet bzw. mit der Vorrichtung nach Fig. 2 durch Interferenz eines parallelen mit einem konvergenten oder divergenten kohärenten Strahlenbündel ein entsprechendes Muster erzeugt und aufbelichtet.
Die lichtempfindlichen Schichten 2b werden nach der Belichtung in bekannter Weise entwickelt und gegebenenfalls gebleicht bzw. gerbend entwickelt.
Die Erfindung ist nicht auf die offenbarten Beispiele beschränkt. So kann z. B. zur Herstellung einer Joruslipse auch ein Schnitt durch das Ringsystem eines Fabry-Perot-Interferometers verwendet werden oder allgemein die !.inienbreite durch Interferenz von
mehreren kohärenten Strahlen gegenüber der Zweistrahlinterferenz verringert werden.
409834/0491

Claims (12)

  1. Ansprüche
    flJVerfahren zur Herstellung rotationssymmetrischer asphärischer beugungsoptiscaer Elemente, dadurch gekennzeichnet, daß aus einer entsprechend vorgegebenen eindimensional variierenden Lichtverteilung senkrecht zur Variationsrichtung ein Bereich (3s) ausgeblendet und durch Aufzeichnung auf ein rotierendes lichtempfindliches Medium (2b) und Entwickeln und gegebenenfalls Bleichen desselben in eine entsprechende rotationssymmetrische Absorptions- und/oder Phasenstruktur transformiert wird.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zur Ausblendung des Bereiches ein in radialer Richtung durch den Drehpunkt des Aufzeichnungsmediums (2b) verlaufender Spalt (3s) verwendet wird.
  3. 3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß ein sich sektorförmig zum Drehpunkt hin verjüngender Spalt (3s) verwendet wird.
    409834/0491
    PO 153/MO 201 - 8 -
  4. 4. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Spalt (3s) mit einem denselben abdeckenden Verlauffilter
    (V) mit in Richtung zum Zentrum abnehmender Transparenz verwendet wird.
  5. 5. Verfahren nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Leuchtdichte des eindimensionalen Musters im Bereich des Spaltes durch eine senkrecht zur Spaltrichtung fokussierende Zylinderoptik (Z) erhöht wird.
  6. 6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die eindimensional variierende Lichtverteilung durch Interferenz kohärenter Wellenfelder erzeugt wird.
  7. 7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die eindimensional variierende Lichtverteilung berechnet, reprografisch in Form von Transparenzschwankungen dargestellt und in die Ausblendungsebene abgebildet wird.
  8. 8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß als eindimensionales Muster ein Gitter konstanter Periode verwendet wird.
  9. 9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß als eindimensionales Muster ein Ausschnitt aus einer Zonenlinse verwendet wird.
    409834/0491 ~9~
    PO 153/MO 201 - 9 -
  10. 10. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß auf einem drehbaren Tisch (1) ein lichtempfindliches Aufnahmemedium (2b) gelagert ist und daß über dem Medium (2b) eine feststehende Blende (3) mit einem durch den Drehpunkt des Tisches (1) verlaufenden Spalt (3s) und eine an sich bekannte Einrichtung (5 - 8) zum Aufbelichten eines Musters (4) durch den Spalt (3s) auf das Aufnahmemedium (2b) vorgesehen ist.
  11. 11. Vorrichtung nach Anspruch IO, dadurch gekennzeichnet, daß der Spalt (3s) sich sektorförmig zum Drehpunkt hin verjüngt.
  12. 12. Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß der Spalt (3s) mit einem Verlauffilter (V) mit in Richtung zum Zentrum abnehmender Transparenz abgedeckt ist.
    Hierzu <j» Blatt Zeichnungen
    409834/0491
DE2307158A 1973-02-14 1973-02-14 Verfahren und vorrichtung zur herstellung rotationssymmetrischer asphaerischer beugungsoptischer elemente Ceased DE2307158A1 (de)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2307158A DE2307158A1 (de) 1973-02-14 1973-02-14 Verfahren und vorrichtung zur herstellung rotationssymmetrischer asphaerischer beugungsoptischer elemente
US05/442,140 US4032343A (en) 1973-02-14 1974-02-13 Method for production of rotationally symmetric non-spherical optical elements

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2307158A DE2307158A1 (de) 1973-02-14 1973-02-14 Verfahren und vorrichtung zur herstellung rotationssymmetrischer asphaerischer beugungsoptischer elemente

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE2307158A1 true DE2307158A1 (de) 1974-08-22

Family

ID=5871846

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2307158A Ceased DE2307158A1 (de) 1973-02-14 1973-02-14 Verfahren und vorrichtung zur herstellung rotationssymmetrischer asphaerischer beugungsoptischer elemente

Country Status (2)

Country Link
US (1) US4032343A (de)
DE (1) DE2307158A1 (de)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4936665A (en) * 1987-10-25 1990-06-26 Whitney Theodore R High resolution imagery systems and methods
US5156943A (en) * 1987-10-25 1992-10-20 Whitney Theodore R High resolution imagery systems and methods
CA1320374C (en) * 1988-05-31 1993-07-20 Jere D. Buckley Apparatus and method for reproducing a pattern in an annular area
US5291315A (en) * 1988-07-26 1994-03-01 Konica Corporation Method of obtaining hologram and an exposure apparatus
US5168304A (en) * 1988-08-22 1992-12-01 Nikon Corporation Exposure apparatus
US5405733A (en) * 1992-05-12 1995-04-11 Apple Computer, Inc. Multiple beam laser exposure system for liquid crystal shutters
US5760931A (en) * 1992-12-14 1998-06-02 Nippondenso Co., Ltd. Image display unit
WO1998029767A1 (en) * 1997-01-04 1998-07-09 Munday Robert A Method and apparatus for creating holographic patterns
JP3950518B2 (ja) 1997-06-27 2007-08-01 キヤノン株式会社 回折光学素子の製造方法
CN108803243A (zh) * 2017-04-27 2018-11-13 中国科学院福建物质结构研究所 一种数字投影3d成型装置

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2183204A (en) * 1937-05-29 1939-12-12 Bell Telephone Labor Inc Electro-optical system
US2549699A (en) * 1945-09-19 1951-04-17 Dean B Mclaughlin Photographic method and apparatus
US2758504A (en) * 1953-05-19 1956-08-14 Elliott Brothers London Ltd Production of engine-divided scales
GB897297A (en) * 1957-10-10 1962-05-23 Nat Res Dev Improvements in and relating to the production of scales photographically
US3728117A (en) * 1968-01-20 1973-04-17 Heidenhain J Fa Optical diffraction grid

Also Published As

Publication number Publication date
US4032343A (en) 1977-06-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69733938T2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Aufzeichnen eines Brechungsindex-Musters in einem optischen Medium
DE69325640T2 (de) Verfahren zur Herstellung eines Bragg-Gitters in einem optischen Medium
DE69809358T2 (de) Verfahren zum Schreiben von Bragg-Reflexionsgittern in Lichtwellenleitern
DE69415610T2 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Projektionsbelichtung
DE10059268C1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Koppelgitters für einen Wellenleiter
DE69514714T2 (de) Verfahren zur Herstellung eines Bragg Gitters in einem fotoempfindlichen optischen Wellenleiter
DE1472071B2 (de) Verfahren und vorrichtung zur herstellung aberrationsfreier optischer systeme
DE2947728C2 (de) Verfahren zur Herstellung einer Verbindungseinrichtung von mindestens zwei Lichtleitern und Verbindungseinrichtung nach diesem Verfahren
DE2307158A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur herstellung rotationssymmetrischer asphaerischer beugungsoptischer elemente
DE1914492C3 (de) Verfahren zum Herstellen eines Phasen-Hologramms
DE3734438C2 (de)
DE2657090A1 (de) Verfahren zum herstellen von echelettgittern
DE1940361A1 (de) Verfahren und Einrichtung zur Erzeugung eines Beugungsmusters sowie zur Herstellung eines Rasters aus gleichen Bildern
DE60123227T2 (de) Gerät zur erzeugung eines lasermusters auf einer fotomaske, sowie entsprechende methoden
DE2167075C2 (de) Verfahren zur Herstellung eines Relief-Reflexions-Blaze-Hologramms
DE2264173B2 (de) Optisch mechanisches abtastsystem
DE2253492A1 (de) Projektionsverfahren zum erzeugen einer kopie einer photomaske
DE1623803B2 (de) Verfahren zur herstellung von reflexions und transmissions gittern
DE3509551C1 (de) Verfahren zur Herstellung eines metallischen Prägestempels zum Drucken von Hologrammen
EP1360528B1 (de) Verfahren zur herstellung von licht streuenden elementen
DE60102194T2 (de) Anordnung zur Herstellung von Gittern in optischen Fasern, die beugungsoptische Effekte minimiert
DE102004016704B4 (de) Verfahren zur Reduktion des Rastermaßes auf einer Halbleiterscheibe
DE2162415A1 (de) Vorrichtung zur Herstellung von Hologrammen
DE1572549A1 (de) Verfahren zur Herstellung von Hologrammen hoher Qualitaet
DE2238753C3 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Stufenlinsen

Legal Events

Date Code Title Description
OD Request for examination
8131 Rejection