DE2643330C2 - Trocknungsanlage - Google Patents

Trocknungsanlage

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DE2643330C2
DE2643330C2 DE19762643330 DE2643330A DE2643330C2 DE 2643330 C2 DE2643330 C2 DE 2643330C2 DE 19762643330 DE19762643330 DE 19762643330 DE 2643330 A DE2643330 A DE 2643330A DE 2643330 C2 DE2643330 C2 DE 2643330C2
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Germany
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bath
dewatering
solvent
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rinsing
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Expired
Application number
DE19762643330
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English (en)
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DE2643330A1 (de
Inventor
Wolfgang 6113 Babenhausen Bereiter
Hans-Joachim Dr. 6233 Kelkheim Gollmick
Karl 6106 Erzhausen Klinkhart
Herbert 6085 Nauheim Morzinek
Walter 6000 Frankfurt Rosenstock
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Schoeller and Co Elektrotecnische Fabrik GmbH and Co
Original Assignee
Schoeller and Co Elektrotecnische Fabrik GmbH and Co
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Publication date
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Priority to US05/734,436 priority patent/US4090307A/en
Priority to FR7631824A priority patent/FR2328497A1/fr
Priority to CH1346776A priority patent/CH619373A5/de
Priority to GB44172/76A priority patent/GB1544993A/en
Publication of DE2643330A1 publication Critical patent/DE2643330A1/de
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Publication of DE2643330C2 publication Critical patent/DE2643330C2/de
Expired legal-status Critical Current

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    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F26DRYING
    • F26BDRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B5/00Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat
    • F26B5/005Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat by dipping them into or mixing them with a chemical liquid, e.g. organic; chemical, e.g. organic, dewatering aids
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D12/00Displacing liquid, e.g. from wet solids or from dispersions of liquids or from solids in liquids, by means of another liquid

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Description

Die Erfindung betrifft ein« Trocknungsanlage zum Entfernen von Wasser von der Oberfläche von Werkstücken, insbesondere von Glas.
Die Werkstücke werden dabei in ein siedendes Entwässerungsbad mit organischem Lösungsmittel eingetaucht, das mit Wasser nicht mischbar ist und oberflächenaktive Mittel enthält Die oberflächenaktiven Mittel werden durch anschließendes Nachspülen in reinem, organischem Lösungsmittel entfernt, wobei die aus der siedenden Flüssigkeit des Entwässerungsbades entwickelten Lösungsmitteldämpfe kondensiert und das Kondensat dem Entwässerungsbad wieder zugeführt wird, während die im Entwässerungsbad sich bildende Wasserschicht aus diesem entfernt, das Wasser vom Lösungsmittel getrennt und das entwässerte Lösungsmittel ebenfalls in das Entwässerungsbad zurückgeführt wird. Die Entwässerungswanne mit einer darüber angeordneten Kühlschlange ist durch eine Trennwand von den Nachspülwannen und deren Kühlschlange getrennt. Die Lösungsmitteldämpfe des Entwässerungsbades und der anschließenden Nachspülbäder werden gelrennt kondensiert
Durch die getrennte Kondensation der Lösungsmitteldämpfe über dem Entwässerungsbad und den Nachspülbädern können die in den Dämpfen über dem Entwässerungsbad enthaltenen Wasserspuren nicht in den Dampf über den Nachspülbädern gelangen, wodurch ein Niederschlag punktförmiger Wassertröpfchen auf der Glasoberfläche im Dampfraum der Nachspülwannen verhindert wird. Beim Eintauchen der Werkstücke in die einzelnen Bäder werden Spuren der oberflächenaktiven Mittel aus dem Entwässerungsbad in die Nachspülbäder verschleppt, so daß bei länger dauerndem Betrieb der Trocknungsanlage die Konzentration der oberflächenaktiven Mittel abnimmt. Um dies zu vermeiden, ist es Aufgabe der Erfindung, die verschleppten oberflächenaktiven Mittel wieder dem Entwässerungsbad zuzuführen. Dies wird gemäß der Erfindung auf vorteilhafte Weise dadurch erreicht, daß die Kombination aus Wasserabscheider und Trocknungseinheit des Entwässerungsbades mit dem zweiten Nachspülbad und das erste Nachspülbad mit dem dritten sowie das dritte Nachspülbaii mit dem ίο Entwässerungsbad über je eine Rohrleitung miteinander verbunden sind. Dadurch ist es möglich, zur Rückführung der aus dem Entwässerungsbad in die Nachspülbäder verschleppten oberflächenaktiven Mittel in das Entwässerungsbad, die über dem Entwässern rungsbad kondensierten Lösungsmittel in die Nachspülbäder zu leiten und von dem letzten Nachspülbad das Spuren von oberflächenaktiven Mitteln enthaltende Lösungsmittel dem Entwässerungsbad wieder zuzuführen.
Mit Hilfe der erfindungsgemäßen Anlage wird das in den Nachspülbädern durch Verschleppen aus dem Entfvässerungsbad vorhandene oberflächenaktive Mittel durch zusätzliches Einbringen des über dem Entwässerungsbad kondensierten Lösungsmittels in den Regenerierungs-Kreislauf über eine Rohrleitung von dem Badspiegel des dritten Nachspülbades dem Entwässerungsbad wieder zugeführt
In der Zeichnung ist in schematischer und vereinfachter Form als Ausführungsbeispiel gemäß der Erfindung eine Trocknungsanlage dargestellt
Die Trocknungsanlage besteht aus einem Kammeraufbau 1, in den eine Entwässerungswanne 2 und drei Nachspülwannen 3, 4 und 5 eingebaut sind. Ober den Wannen 3 bis 5 befindet sich der Dampfraum 6. Der Kammeraufbau ist oben durch einen Gehäusedeckel 7 abgeschlossen. An den Wänden der Kühlzone über den beiden Dampfräumen des Entwässerungsbades 2 und den Nachspülwannen 3,4 und 5 sind Kühlschlangen 10, 11 und 12 angeordnet von denen die Kühlschlangen 10 und U in gleicher Höhe liegen und durch eine Trennwand 15 von einander getrennt sind. Unter der Kühlschlange 10 ist eine Kondensatrinne 18 angeordnet, die über ein Rohr 19 mit einer Kombination 20 aus Wasserabscheider und Trocknungseinheit verbunden ist. Das von Wasser befreite Lösungsmittel wird durch das Rohr 21 dem Nachspülbad 4 zugeführt Die über den drei Nachspülwannen angeordnete Kühlschlange 11 besitzt eine Kondensatrinne 22, die mit einer Trocknungseinheit 23 in Verbindung steht, die dem Kondensat das Wasser entzieht Das wasserfreie Lösungsmittel wird über ein Rohr 24 der Nachspülwanne 4 zugeführt An die Entwässerungswanne 2 ist in an sich bekannter Weise ein Wasserabscheider 30 und ein Vorratsbehälter 31 angeschlossen. Durch den Wasserabscheider 30 wird das beim Eintauchen des wassernassen Werkstücks in die Wanne 2 gelangte Wasser vom Lösungsmittel getrennt Das Lösungsmittel wird wieder dem Vorratsbehälter 31 zugeführt. An dem Vorratsbehälter 31 ist eine Pumpe 32 angeschlossen, die das Lösungsmittel über eine Rohrleitung 33 in die Entwässerungswanne 2 umwälzt In den Wannen 2, 3 und 5 sind elektrische Heizkörper 34,35 und 36 zur Erhitzung des Lösungsmittels auf Siedetemperatur angeordnet während die Wanne 4 mit Ultraschallschwingern 37 und Kühlung versehen ist. An den Regenerierungskreislauf der Wannen 3,4 und 5 kann eine kontinuierlich arbeitende Destillation 38 parallel angeschlossen sein. Zwischen der ersten und zweiten Nachspülwanne 3 und 4 befindet
sich ein Oberlaufwehr 10 und zwischen der zweiten und dritten Nachspülwanne 4 und 5 eine Trennwand 41. Die Höhe des Flüssigkeitsspiegels in den einzelnen Bädern ist durch Dreiecke 42 bis 45 angedeutet.
Das wassernasse Werkstück wird zunächst in das siedende Lösungsmittel des Entwässerungsbades 2 getaucht und dort von dem anhaftenden Wasser befreit Zur Beseitigung des in dem Entwässerungsbad 2 enthaltenen oberflächenaktiven Mittels sind drei Nachspülbäder 3, 4 und 5 nachgeschaltet. Das Werkstück in wird unterhalb der Kühlschlange 12 aus der Wanne 2 in die Wanne 3 übergehoben und dort in das siedende Lösungsmittel eingetaucht Dann erfolgt der Weitertransport in die mit kaltem Lösungsmittel gefüllte Wanne 4, wo gegebenenfalls eine Ultraschallbehandlung stattfindet Zum Schluß wird das Werkstück in den Dampfraum 50 über der Flüssigkeit in der Wanne 5 eingeführt und dann anschließend aus der Trocknungsanlage in getrocknetem und fleckenfreiem Zustand herausgenommen. Jo
Um das beim Eintauchen der Werkstücke in die Bäder verschleppte oberflächenaktive Mittel in das Entwässerungsbad zurückzuführen, sind die Naehspülbüder 3 und 5 durch eine Rohrleitung 51 und das Nachspülbad 5 mit dem Entwässerungsbad 2 durch eine Rohrleitung 52 miteinander verbunden. Das aus der Kombination 20 Wasserabscheider/Trocknungseinheit kommende reine Lösungsmittel wird über die Rohrleitung 21 in das Nachspülbad 4 geleitet Ober das Wehr 40 gelangt von dort Lösungsmittel in das Nachspülbad 3 und von dort über die Rohrleitung 51 in das Nachspülbad 5, von wo das verschleppte oberflächenaktive Mittel von der Oberfläche 45 durch die Rohrleitung 52 dem Entwässerungsbad 2 wieder zugeführt wird. Die Höhen der Oberflächenspiegel 42 bis 45 sind unterschiedlich, um den beschriebenen kaskadenartigen Kreislauf des Lösungsmittels zu ermöglichen.
Auf den nach dem erfindungsgemäßen Verfahren getrockneten Gläsern sind keine zur Pünktchenbildung führenden Wasserspuren mehr vorhanden, so daß sich die Glasoberfläche einwandfrei vergüten läßt und auch die optischen Eigenschaften der Gläser nicht nachteilig beeinflußt werden.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims (1)

  1. Patentanspruch:
    Trocknungsanlage zum Entfernen von Wasser von der Oberfläche von Werkstöcken, insbesondere von Gias, durch Eintauchen der Werkstücke in ein in einer Wanne befindliches siedendes Entwässerungsbad mit organischem Lösungsmittel, das mit Wasser nicht mischbar ist und oberflächenaktive Mittel enthält und durch anschließendes Nachspülen in Wannen mit reinem organischen Lösungsmittel zum Entfernen der oberflächenaktiven Mittel, wobei die aus der siedenden Flüssigkeit des Entwässerungsbads entwickelten Lösungsmitteldämpfe kondensiert und als Kondensat dem Entwässerungsbad wieder zugeführt werden, während die im Entwässerungsbad sich bildende Wasserschicht aus diesem entfernt, das Wasser vom Lösungsmittel getrennt und das entwässerte Lösungsmittel ebenfalls in das Entwässerungsbad zurückgeführt wird, wobei die Entwässerungswanne mit einer darüber angeordneten Kühlschlange durch eine Trennwand von den N'achspOiwannen und deren Kühlschlange getrennt ist, dadurch gekennzeichnet, daß die Kombination (20) aus Wasserabscheider und Trocknungseinheit des Entwässerungsbades (2) mit dem zweiten Nachspülbad (4), das erste Nachspülbad (3) mit dem dritten (5) sowie das dritte Nachspülbad (5) mit dem Entwässerungsbad (2) über je eine Rohrleitung (21, 51 und 52) miteinander verbunden sind.
DE19762643330 1975-10-25 1976-09-25 Trocknungsanlage Expired DE2643330C2 (de)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19762643330 DE2643330C2 (de) 1976-09-25 1976-09-25 Trocknungsanlage
US05/734,436 US4090307A (en) 1975-10-25 1976-10-21 Method for removing water from workpieces and apparatus therefor
FR7631824A FR2328497A1 (fr) 1975-10-25 1976-10-22 Procede et installation utilisable pour le sechage de pieces constituees notamment par du verre
CH1346776A CH619373A5 (de) 1975-10-25 1976-10-25
GB44172/76A GB1544993A (en) 1975-10-25 1976-10-25 Drying process and installation for drying workpieces

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19762643330 DE2643330C2 (de) 1976-09-25 1976-09-25 Trocknungsanlage

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE2643330A1 DE2643330A1 (de) 1978-03-30
DE2643330C2 true DE2643330C2 (de) 1983-07-14

Family

ID=5988907

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19762643330 Expired DE2643330C2 (de) 1975-10-25 1976-09-25 Trocknungsanlage

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DE (1) DE2643330C2 (de)

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
NICHTS-ERMITTELT

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DE2643330A1 (de) 1978-03-30

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