DE2640870A1

DE2640870A1 - Poliermaschine fuer koerner

Info

Publication number: DE2640870A1
Application number: DE19762640870
Authority: DE
Inventors: Toyojiro Masumoto
Original assignee: Iony KK
Current assignee: Iony KK
Priority date: 1975-09-10
Filing date: 1976-09-10
Publication date: 1977-03-17
Also published as: PH12593A; DE2640870C2; JPS5313549B2; IT1068697B; BR7606022A; JPS5234257A; GB1526844A

Description

PATENTANWÄLTE. ^„

26Λ0970

MANITZ, FINSTERWALD &. GRÄMKOW

München, den 10.9.76 P/3/Sv - J 2025

Iony Kabushiki Kaisha

16/2, Shinkawa 6-chome, Mitaka-shi, Tokyo,

Japan

Poliermaschine für Körner

Die Erfindung betrifft eine Poliermaschine für Körner, besonders eine Poliermaschine für Reiskörner.

Reis-Poliervorgänge können in zwei Arten eingeteilt werden, nämlich eine Art, um polierten Reis zu erhalten, der zum Kochen brauchbar ist, und eine andere Art, um polierten Reis.zur Herstellung von Sake zu erhalten. Wenn polierter Reis für Kociizwecke erhalten werden soll, wird brauner Reis so poliert, daß die kleieartige Schicht, die die Oberfläche des braunen Reises bedeckt, entfernt wird, und daß auch die gesundheitsschädlichen Keime abgezogen werden. Wenn polierter Reis zur Herstellung von Sake erhalten werden soll, wird das Polieren des braunen Reises nach dem vollständigen Entfernen der Kleie und der Keime weitergeführt, bis der Kern freigelegt wird, der weithin aus stärkereichen Schichten besteht.:

DR. C. MANlTZ · DIPL.-ING. M. FINSTERWALD 7dO BlQ- iInTg' V. «* 4 j3m KOW ZENTRALKASSE BAYER. VOLKSBANKEN

MÖNCHEN 22. ROBERT-KOCH-STRASSE 1 7 STUTTGART 50 (BAD CANNSTATT) MÜNCHEN. KONTO-NUMMER 7270

TEL. (089) 22 42 II. TELEX OS-29672 PATMF SEELBERGSTR. 23/25. TEL.(0711)56 72 61 POSTSCHECK r MÖNCHEN 77062 - SOS

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In der Praxis wird polierter Reis für Kochzwecke mit einer Poliermaschine hergestellt, wie sie in Fig. 1 etwa dargestellt wird: sie wird als eine Poliermaschine mit horizontaler Reibwelle bezeichnet. Der von einem Einlaß B aus in die Maschine eingegebene braune Reis wird mit einer Transporteinrichtung 0 in eine Polierkammer D befördert und in dieser Kammer durch einen Rührrotor A durchgerührt, wodurch der Reis aufgrund der zwischen den Körnern erzeugten Reibung poliert wird. Es ist zu bemerken, daß an dem Auslaß 1 eine Widerstands-Deckplatte G- vorgesehen ist, die einen recht großen Widerstand gegen den Durchfluß des Reises in der Perlkammer aufrechterhält. Mit anderen Worten wird der braune Reis in der Polierkammer unter einer Druckkraft, die zwischen den Reiskörnern wirkt, einer Reibung unterworfen, wodurch die Kleie und die Keime sofort abgezogen und entfernt werden, worauf sie durch ein zylindrisches Siebteil E aus der Maschine entfernt werden. Das bedeutet, daß ein einziger Durchlauf des braunen Reises vom Einlaß B zum Auslaß F in der Maschine den vollständigen Poliervorgang des Reises erbringt. Es ist ungewöhnlich, den braunen Reis zweimal oder dreimal durch die Maschine hindurchtreten zu lassen, um so fein polierten Reis zu erhalten. Es tritt jedoch unabhängig von der Anzahl d.er Durch-

_π · , z, · · unvermeidlicher

gange des Reises durch die Maschine em gewisser/Prozentsatz von gebrochenen Reiskörnern auf, da der Poliervorgang bei einer derartigen Maschine unter hohem Druck stattfindet.

Das Auftreten gebrochener Reiskörner kann weithin verhütet werden, wenn man eine Poliermaschine mit vertikaler Welle verwendet. Die Vertikalwellen-Poliermaschine umfaßt im allgemeinen einen aus einem Korundstein hergestellten Polierläufer, der sich in Vertikalrichtung in einer- Polierkammer erstreckt, wobei die Polierkammer mit dem Polierläufer zusammen einen vergleichsweise breiten ringförmigen Durchgangsraum für braunen Reis bildet, sie umfaßt weiterhin einen Einlaß, der am oberen Abschnitt der Maschine angebracht ist und

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einen Auslaß, der sich unten an der Außenseite der Maschine befindet. Innerhalb einer derartigen Maschine wird der Polierläufer mit hoher Umdrehungsgeschwindigkeit angetrieben, und der braune Reis, der eingegeben wird und der von dem Läufer mit immer höherer Geschwindigkeit zurückgeworfen wird, wenn er gegen den Läufer stößt, dreht sich um seine eigene Achse, und umläuft auch den Läufer in im wesentlichen horizontaler Richtung, und er wird schrittweise an verschiedenen Teilen seiner Oberfläche poliert, wenn der Reis gegen den Läufer stößt, während er durch die eigene Schwere nach unten wandert. Schließlich wird er durch die Zentrifugalkraft durch den Auslaß nach außen abgegeben. Diese Art des Polierens ist von der durch eine Poliermaschine mit horizontaler Welle ausgeübten Polierart bemerkenswert unterschiedlich. Bei dem Polieren in einer Horizontal-Wellenmaschine wird das Polieren rauh und unter hohem Druck durchgeführt, wie oben erklärt wurde, jedoch wird bei dem Polieren mit einer Vertikal-Wellenmaschine der bxaune Reis schrittweise poliert, während er innerhalb einer Polierkammer vereinzelt umläuft, wodurch ein Zerbrechen der Körner kaum vorkommen kann.

Diese Polierart hat jedoch insofern einen Nachteil, als die Polierwirkung bei einem einfachen Durchgang sehr niedrig ist. Da der braune Reis in der Perlkammer nicht so eingegeben wird, daß die Reiskörner dicht gepackt in der Kammer liegen, sondern da er vereinzelt umläuft, ergibt sich, daß der am Auslaß austretende Reis zwar kaum zerbrochen ist, daß er jedoch auch nur eine geringe Polierwirkung während des einen Durchlaufes zeigt. Es ist zu verstehen, daß Reis, der in einer derartigen Polierkammer dicht gepackt angeordnet ist, kaum umlaufen kann, wodurch die Zentrifugalkraft verschwindet, und der Reis also nicht in Radialrichtung ausgegeben werden kann. Ob-

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wohl das Reispolieren in einer Poliermaschine mit vertikaler Welle nur eine geringe Ergiebigkeit besitzt, wird sie jedoch bei der Herstellung von Sake vorteilhafterweise verwendet, da nur wenig Reiskörner zerbrochen werden. Es ist eine Tatsache, daß in fast allen Sake-Herstellbetrieben M-O bis 60 Reispoliermaschinen mit Vertikalwellen hintereinander angeordnet sind. Erst wenn der braune Reis durch alle Maschinen hindurchgegangen ist, ist er für die Sake-Herstellung geeigneter polierter Reis.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Poliermaschine mit vertikaler Welle zu schaffen, bei der der Anteil von guten, d.h. nicht zerbrochenen Reiskörnern dem Anteil bei einer herkömmlichen Vertikalwellenmaschine ent- ' spricht, und die dennoch eine Polierwirkung hat, die in ihrer Wirksamkeit der von Horizontalwellenmaschinen vergleichbar ist.

Die Erfindung wird nachfolgend anhand der Zeichnung näher erläutert. In der Zeichnung zeigt:

Fig. 1 einen Tertikaischnitt durch eine herkömmliche Reispoliermaschine mit horizontaler Welle,

Fig. 2 eine schematische Schnittdarstellung einer erfindungsgemäßen Vertikalwellen-Poliermaschine,

Fig. 3 bis 6 je einen Schnitt durch eine erste Ausführung einer erfindungsgemäßen Reispoliermaschine,

Fig. 7 und 9 je einen Vertikalschnitt durch die zweite bevorzugte Ausführung der erfindungsgemäßen Reispoliermaschine,

Fig. 8 Schnittbilder bedeutender Teile der Maschine nach der zweiten bevorzugten Ausführung, und

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.Pig. 10 ein Schnittbild durch eine dritte bevorzugte Ausführung der erfindungsgemäßen Maschine.

In der in Fig. 2 schematisch dargestellten Poliermaschine ist eine Vertikalwelle 1 mit einem daran befestigten Antriebsrad 2 zu sehen. Am unteren Ende der Welle 1 ist ein walzenförmiger Polierlaufer 3 angebracht. Ein als Kleiesieb dienender Zylinder 4- umgibt den Polierläufer in Um- ' fangsrichtung-, und er ist mit der Welle koaxial angeordnet. Auf diese Weise wird zwischen der Außenfläche des Polierzylinders 3 und der Innenfläche des Siebzylinders 4-eine ringförmige Polierkammer 8 gebildet. Die Polierkammer ist mit einem Einlaß 5 verbunden, durch welchen die Körner in die Kammer 8 eingegeben werden. Ein Auslaß 6 ist direkt unter der Welle 1, koaxial mit der Vertikalachse X-X der Welle angeordnet, und sie besitzt einen Durchmesser, der kleiner ist als der Durchmesser des Polierlaufers 3· Die Öffnung liegt in der Horizontalebene Y-Y. Unter dem Auslaß ist eine Hemmeinrichtung 7 vorgesehen, um durch Widerstand eine angemessene Beladung der Polierkammer 8 zu erzeugen. Diese Einrichtung kann vertikal bewegt werden. An dem Polierläufer 3 ist ein Vorsprung 9 angebracht, der wie ein Gewindegang den Läufer 3 umgibt. · .

Bei diesem Aufbau wird der Reis schonend poliert und.ausgelassen, auch wenn er bei einem relativ großen Widerstand durch die Hemmeinrichtung 7 in der Polierkammer dicht gepackt ist. Der am Einlaß 5 zugegebene braune Reis wird durch den Vorsprung 9 des Polierlaufers umgewälzt.

Obwohl in 3?ig. 2 durch Pfeile angezeigt wird, daß die Reiskörner manchmal durch- den Rührvorsprung nach oben zurückgeworfen werden, so ist eine solche Wirkung des Rührers für den Betrieb der erfindungsgemäßen Maschine zwar von Vorteil, aber nicht notwendig. Wenn der Polierläufer sich mit einer

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gewissen hohen Drehgeschwindigkeit dreht, läuft der braune Reis horizontal um und wird dem Polierprozeß unterworfen, während der Reis wegen der Hemmeinrichtung -oder Hemmplatte 7 nur zögernd aus der Polierkammer austreten kann. Das bedeutet, daß in der oberen Hälfte der Polierkammer 8 die Körner poliert werden, während sie in der Kammer sehr vereinzelt auftreten, während der Reis in der unteren Kammerhälfte dicht gepackt ist. Mit anderen Worten, da der Reis die untere Hälfte der Polierkammer dicht an dicht gepackt einnimmt, kann er nicht umlaufen, sondern er ist einem wirksamen, starken Polierprozeß unterworfen, der von dem mit hoher Geschwindigkeit umlaufenden Polierläufer 3 ausgeübt wird. Obwohl soeben beschrieben wurde, daß die untere Hälfte der Polierkammer in !ig. 2 dicht an dicht gepackt ist, ist die Füllbedingung der Körner in Fig. 2 von der in Fig. 1 verschieden. In Fig. 1 wird der Reis durch die Förderschnecke G, die ihn mit Gewalt vorantreibt, in dichte Schichten zusammengedrückt. Dagegen wird in Fig. 2 der Reis innerhalb der Polierkammer nur so dicht gepackt, wie es dem Eigengewicht des Inhalts der/
/Halbvollen Polierkammer entspricht, da die Hemmeinrichtung 7 nur das Gewicht des Reises der halbgefüllten Kammer aus— hält. Mit anderen Worten, da das Schichten des Reises in der Polierkammer der erfindungsgemäßen Einrichtung nicht unter einem ausgeübten Druck geschieht, sondern durch die eigene Schwere, besteht keine Gefahr, daß der Reis zerbrochen wird. Zusätzlich ist zu bemerken, daß der Auslaß 6 genau in der Mitte der unteren Fläche der Polierkammer 8 angeordnet ist, und dadurch ein sanftes Abgeben des Reises erfolgt. Ein in einer solchen lage angeordneter Auslaß 6 wirkt wie ein Auslaßtrichter, um das Korn fließartig aus der Polierkammer zu entlassen.

Der Polierläufer 3j cLer in Fig. 2 walzenartig dargestellt wird, kann, wie es im Zusammenhang mit der ersten bevor-

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zugten Ausführung der Erfindung "beschrieben ist, so geformt sein, daß sein Durchmesser nach unten hin fortlaufend abnimmt. Durch diese Gestalt besitzt die obere Hälfte des Läufers eine höhere Umfangsgeschwindigkeit als die untere HäHr· te, womit sie den Reis besser vereinzelt umlaufen lassen kann, während die untere Iäuferhälfte mit verringertem Durchmesser und demzufolge geringerer Umfangsgeschwindigkeit den in der unteren Hälfte der Polierkammer dicht gepackten Reis etwas sanfter umrühren kann. Es ist einzusehen, daß eine sanftere Polierwirkung erreicht wird, wenn die Welle des Polierläufers nicht nach unten über den Läufer hinaussteht, so daß eine breitere Durchgangsöffnung zum Ablassen des polierten Reises offengehalten werden kann.

Wie vorhin erwähnt, läßt ein mit hoher Geschwindigkeit drehender Polierläufer in einer Poliermaschine mit 'Vertikalwelle den Reis in Horizontalrichtung und mit hoher Geschwindigkeit umlaufen, wodurch der Reis durch Reibung poliert oder geschliffen wird, ohne seine herkömmliche Gestalt zu verlieren· Der Reis, der so der Polierwirkung unterworfen wurde, wird durch Zentrifugalkraft durch eine Auslaßöffnung ausgeworfen, die an der Seite der Maschine in Richtung der Zentrifugalkraft angeordnet ist. Das bedeutet, da der Reis immer sehr vereinzelt gehalten wird, daß eine kräftige oder hochwirksame Polierung kaum erwartet werden kann. Wenn ein Widerstand, der auf die Auslaßöffnung einwirkt, stärker gemacht wird, so daß er den Reis in der Kammer dichter gepackt sein läßt, um demzufolge ei-? ne ausgiebigere Polierwirkung zu erzeugen, wird das gegenüber der Auslaßöffnung liegende Korn seine Geschwindigkeit verlieren und sich schließlich festklemmen, wodurch der Durchfluß des Reises in großem Ausmaß gestört wird.

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Durch die vorliegende Erfindung wird, wie oben beschrieben, eine Reispoliermaschine geschaffen, die den Reis auch in dicht gepackter Anordnung wegen einer neuartigen Anordnung und Anbringung der Auslaßöffnung sehr wirksam polieren kann, obwohl die Maschine mit einer vertikalen Welle des Polierläufers versehen ist, was bisher als nicht genügend für die Herstellung von Kochreis angesehen wurde.

Im folgenden werden im einzelnen drei bevorzugte Ausführungen der Erfindung erklärt. Die in Fig. 3 bis 6 dargestellte erste Ausführung ist eine Reisschleifmaschine, die nach Fig.

ist
7 bis 9 ausgeführte Maschine/vom Reibungstyp und die in Fig. 10 dargestellte dritte Ausführung umschließt beide Arten des Polierens.

Zunächst zur ersten Ausführung. Auf einem unteren Grundrahmen 10 ist ein oberer Grundrahmen 11 angebracht, dessen obere Öffnung mit einem dichtschließenden oberen Deckel 12 versehen ist. Der obere Deckel 12 besitzt in der Mitte eine kreisförmige Öffnung 13» über die hin sich ein an dem Deckel 12 .befestigtes Tragegestell 14- erstreckt. An diesem metallenen Tragegestell 14- ist in der Mitte oben ein lager 15 befestigt, während am unteren Abschnitt der Öffnung 13 ein anderes Tragegestell 20, das wiederum mit einem weiteren Lager 21 versehen ist, befestigt ist (Fig.6). Eine rotierende Welle 1 wird durch die zwei Lager 15 und 21 so gehalten, daß sie sich nach unten vorstehend erstreckt. Ein Motor 16 ist an dem Tragegestell 14· an seiner oberen Ouerseite angebracht und besitzt ein Antriebsrad 17, das mit der drehbaren Welle 1 über ein an dieser befestigten Antriebsrad 2 und einen endlosen, um die beiden Antriebsräder geschlungenen Treibriemen 19 zum Antrieb verbunden ist. Von dem Deckel 12 erstreckt sich schräg nach oben eine Einfüllschütte 23j deren Einfüllöffnung 5 sich an einer Seite einer rohrförmigen Wand öffnet, die die Drehwelle 1 umgibt.

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Kurz unterhalb dieser rohrförmigen Wand ist eine konisch nach außen gehende Einrichtung 22 vorgesehen, die den Reis radial nach außen verteilt. Diese konische Einrichtung ist so eingepaßt, daß die Antriebswelle 1 oberhalb der Öffnung 13 durch sie hindurchreicht. Damit erstreckt sich die Welle 1 vertikal so, daß sie die Mitte der Öffnung 13 des Deckels 12 durchstößt. Der untere Teil der Welle 1 erstreckt sich durch die Längsachse des oberen Rahmens und ist dicht in ' einen Rahmen 25 eingepaßt, auf dem der Polierläufer 3 befestigt ist (Fig. 6). Das obere Ende 26 des Rahmens 25 liegt gegen die. untere Fläche des unteren Lagers 21 an, und das untere Ende 27 des Rahmens 25 ist mit einer Mutter 28 am unteren Ende der Welle 1 festgeschraubt. Der vorhin erwähnte Polierläufer 3 besteht aus Korundstein und hat die Gestalt eines umgekehrten Kegelstumpfes, dessen Durchmesser von unten nach oben allmählich zunimmt, wodurch der obere Abschnitt mit einem großen Durchmesser eine viel höhere Umfangsgeschwindigkeit besitzt als der untere Abschnitt mit seinem kleineren Durchmesser und folglich kleinerer Umfangsgeschwindigkeit. Dieser Polierläufer 3 ist längs seines gesamten Umfanges mit einem Kleiesiebzylinder 4 umgeben. Der untere Teil des Siebzylinders 4 ist an einem in den unteren Teil des oberen Rahmens 11 eingepaßtes Rahmenteil 29 befestigt, das in der Mitte eine Auslaßöffnung 6 besitzt. Die Auslaßöffnung ist von einer ringförmigen Öffnung 30 umgeben. Die Anordnung und die Einrichtung der Auslaßöffnung 6 wurde im einzelnen mit Bezug auf Fig. 2 bereits beschrieben. Es soll jsdoch wiederholt werden, daß die Auslaßöffnung einen kleineren Durchmesser als der Polierläufer 3 besitzt und trichterförmig gestaltet ist. Zwischen der Außenumfangsflache des Siebzylinders 4· und der Innenfläche des oberen Rahmenteils.11 ist eine Kleie-Auslaßkammer 31 gebildet, die durch die ringförmige Öffnung 3O mit einem Sauggerät 33 verbunden ist, das an einer Seitenwand des unteren Rahmens 10 vorgesehen ist. Ein Vorsprung 34 er-

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streckt sich von dem Rahmenteil 29 nach unten. An diesem Vorsprung 34· ist ein Zwischenabschnitt eines Hebelteils 35 befestigt, an dessen einer Seite eine Hemmeinrichtung 7 angebracht ist. Am anderen Ende des Hebels 35 ist ein Gewicht 36 aufgesteckt. Ein Kleieabscheider ist mit 32 bezeichnet.

In Fig. 7 bis 9 ist als zweite erfindungsgemäße Ausführung eine Reispoliermaschine des IPrikt ions typ s dargestellt, wobei der ersten Ausführung gegenüber gleiche oder gleichartige Teile mit den gleichen Bezugszeichen versehen sind.

Bei dieser Ausführung ist vorzugsweise ein sich wie ein Gewindegang erstreckender Vorsprung 9 oder sind zwei sich wie Gewindegänge erstreckende Vorsprünge 9 an der Außenfläche des Polierlaufers 3 vorgesehen, um dem braunen Reis eine solche Kraftkomponente zu erteilen, daß der Reis leicht nach oben geneigt zurückgestoßen wird. Der Polierläufer dieser Ausführung ist hohl, und er besitzt Iiuftschlitze 37 neben den Vorsprüngen 9. Die Welle Λ ist bei diesem Beispiel gleichfalls hohl. Aus der Umgebung angesaugte Luft wird durch die Welle hindurch aus den Lüftungsschlitzen herausgeblasen. Zum Unterschied zur ersten Ausführung, bei der der Läufer 3 und der Siebzylinder M- kegelförmig ausgeführt sind, sind diese diesmal zylinderförmig. Ebenso ist zum Unterschied zur ersten Ausführung die kegelförmige Einrichtung 22 weggelassen, weil in diesem Beispiel die Polierung durch Reibungskräfte durchgeführt wird.

Bei der in Fig. 10 dargestellten dritten Ausführung wird eine Poliermaschine gezeigt, bei der Geräteteile der ersten und zweiten Ausführungen vereint angebracht sind. Diese Teile sind durch die Bezugszeichen bezeichnet, unter denen sie bei der ersten oder zweiten Ausführung erklärt wurden.

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In dieser Ausführung wird der braune Reis zunächst einem Schleifverfahren unterworfen, dem ein Reibungspoliervorgang folgt.

Die Erfindung betrifft also eine Korn-Poliermaschine mit einer vertikalen Polierwelle, bei der die Körner, die aus einer Polierkammer zu einem am Boden der Kammer direkt unter der Polierwelle angebrachten Auslaß austreten wollen, am Austritt aus der Kammer durch eine Hemmeinrichtung gehindert werden, die den Auslaß in Abhängigkeit von dem Gewicht der in der Kammer zurückgehaltenen Körner beweglich ver-

If

- Patentansprüche -

709811/0343 OftiQiNAL inspected

Claims

— Ί 2 —

Patentansprüche

Körner-Po liermas chine mit zumindestens einer sich vertikal erstreckenden Polierkammer und einer sich durch die Polierkammer koaxial erstreckende Antriebswelle, dadurch gekennzeichnet , daß die Antriebswelle mit einem zylindrischen Polierläufer ausgerüstet ist, der zusammen mit der Welle rotiert, daß die Kammer an ihrer Umfangswand mit Sieben zum Auslassen der in der Kammer erzeugten Kleie versehen ist und daß die Wand von dem Läufer einen vorbestimmten Abstand aufweist, daß sich ein Einlaß für die Körnerzufuhr in die Polierkammer oberhalb der Kammer öffnet, daß eine Auslaßöffnung direkt unter dem Läufer um die Achse der Antriebswelle herum angebracht ist, und daß eine Hemmeinrichtung diesen Auslaß abhängig vom Gewicht der in der Kammer zurückgehaltenen Körner beweglich verschließt.
2. Poliermaschine nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß der Polierläufer in Gestalt eines umgekehrten Kegelstumpfes ausgebildet ist und einen von unten nach oben graduell zunehmenden Durchmesser besitzt.
3. Poliermaschine nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß der Polierläufer von zylindrischer Form ist, und an seiner Umfangswand einen schraubengangartigen Vorsprung besitzt.
4-, Poliermaschine nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß die Antriebswelle aus dem Bodenteil des Polierlaufers nicht weit hervorsteht.
5. Poliermaschine nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß die Maschine zwei in Vertikalrichtung miteinander in Verbindung stehende Polierkammern enthält, daß die Kammern mit Polierläufern mit

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gemeinsamer Welle versehen sind und daß die Hemmeinrichtung an der Auslaßöffnung der zweiten Kammer vorgesehen ist. .--.".'...-
6. Poliermaschine nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet , daß der Polierlaufer in der ersten
Kammer dem in Anspruch 2 definierten Polierlaufer entspricht.
7. Poliermaschine nach Anspruch 5* dadurch gekennzeichnet, daß der Polierläufer in der zweiten Kammer dem in Anspruch 3 definierten Polierläufer entspricht. ■ - . . .

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