DE2608781A1

DE2608781A1 - Verfahren zur herstellung eines fotorezeptors

Info

Publication number: DE2608781A1
Application number: DE19762608781
Authority: DE
Inventors: Richard G Crystal; James M O'reilly; John M Pochan
Original assignee: Xerox Corp
Current assignee: Xerox Corp
Priority date: 1975-03-26
Filing date: 1976-03-03
Publication date: 1976-10-07
Also published as: CA1069745A; NL7603154A; FR2305759A1; GB1543763A; JPS51133027A; FR2305759B1

Description

HOFFMANN & EITLE · PATENTANWÄLTE

D-8000 Mönchen si . Arabellastrasse 4 (sternhausj · telefon (08S>) s>iio87 . telex 05-29619 (pathe)

27 717

XEROX CORPORATION, Rochester, N.Y. / USA

Verfahren zur Herstellung eines Fotorezeptors

Die vorliegende Erfindung betrifft das Gebiet der Xerografie und insbesondere die Herstellung eines Fotorezeptorelementes mit einer fotoleitfähigen Schicht mit ganz bestimmter Morphologie bzw. Gestalt sowie solche Elemente.

Das Gebiet der Xerografie betrifft die Verwendung eines fotosensitiven Elementes oder Platte, die eine fotoleitfähige Isolierschicht aufweist, die im allgemeinen zunächst gleichmassig elektrostatisch aufgeladen wird, um deren Oberfläche zu sensitivieren. Die Platte wird dann mit aktivierenden elektromagnetischen Strahlen im Form einer bildlichen Darstellung, wie beispielsweise mit Licht, Röntgenstrahlen

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ORIGINAL INSPECTED

oder dergleichen, belichtet, die die Ladung in den belichteten Bereichen des fotoleitfähigen Isolators selektiv zerstreuen, so dass ein latentes, elektrostatisches Bild in den unbelichteten Bereichen entsteht. Dieses latente, elektrostatische Bild kann dann entwickelt und sichtbar gemacht werden, indem fein verteilte elektroskopisch markierende Partikel chen auf der Oberfläche der fotoleitfähigen Schicht abgelagert werden. Dieses Konzept wurde ursprünglich von Carlson in der US-PS 2 297 691 beschrieben und ist inzwischen weiter modifiziert worden und in vielen verwandten Patentschriften auf diesem Gebiet beschrieben worden.

Ein Typ eines Fotokonduktors, wie er in der Xerografie verwendet wird, ist in der US-PS 3 121 006 (Middleton and Reynolds) erläutert worden. Gemäss der Beschreibung besteht er aus einer Anzahl von Bindemittelschichten, die aus fein verteilten Teilchen einer fotoleitfähigen, anorganischen Verbindung, die in einem organischen, elektrisch isolierenden Harzbindemittel dispergiert ist, bestehen. Es ist in der Zwischenzeit herausgefunden worden, dass Strukturen, wie die von Middleton et al-Typ einen im wesentlichen kontinuierlichen Teilchen-zu-Teilchen-Kontakt für das fotoleitfähige Material in der gesamten Schicht verwenden müssen, um die für den zyklischen Betrieb erforderliche LadungsZerstreuung zu ermöglichen. Bei gleichmässigen Fotokonduktordispersionen ist eine relativ hohe Volumenkonzentration des Fotokonduktors (bis zu etwa 5o Vol.-% oder mehr) im allgemeinen notwendig, um einen ausreichend starken Fotokonduktor Teilchen-zu-Teilchen-Kontakt für die schnelle Entladung zu erhalten. Es wurde jedoch gefunden, dass hohe Fotokonduktormengen in Bindemittelschichten dieses Typs dazu führen, dass die physikalische Kontinuität des Harzes zerstört wird, und dadurch die mechanischen Eigenschaften

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der Bindemittelschicht merklich verschlechtert werden. Schichten mit hohen Fotokonduktormengen sind oft durch eine spröde Bindemittelschicht mit keiner oder geringer Flexibilität charakterisiert. Wenn andererseits die Fotokonduktorkonzentration wesentlich unter etwa 5o Vol.-% gesenkt wird, wird die Entladungsrate reduziert, wodurch der zyklische Betrieb mit hoher Geschwindigkeit oder das wiederholte Belichten erschwert wird oder sogar unmöglich wird.

In der US-PS 3 787 2o8 (R.N. Jones) werden die oben genannten Probleme mit hohen Fotokonduktormengen durch einen neuen xerografischen Fotorezeptor dargelegt, der eine Bindemittelschicht aufweist, welche aus fotoleitfähigen Partikelchen besteht, die in einer bestimmten, kontrollierten Geometrie in einer isolierten Harzmatrix dispergiert sind. Genauer gesagt, im wesentlichen alle, in einer Konzentration von 1 bis 25 Vol.-% zugegenen fotoleitfähigen Teilchen liegen in Form einer Vielzahl von kontinuierlichen fotoleitfähigen Bahnen durch die gesamte Dicke der Bindemittelschicht vor.

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Verbesserung der oben genannten bekannten Verfahren, was durch die neue Morphologie bzw. Anordnung der Blockcopolymerisate erreicht wird; die Erfindung betrifft auch eine neue fotoleitfähige oder ladungstransportierende Schicht mit einer ganz bestimmten kontrollierten Geometrie, die der in der US-PS 3 787 2o8 beschriebenen analog ist.

Es ist ein Ziel der vorliegenden Erfindung, eine neues Fotorezeptorelement zu schaffen.

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-A-

Es ist ein weiteres Ziel dieser Erfindung, ein neues Fotorezeptorelement einer ganz bestimmten Morphologie zu schaffen, in welcher wenigstens eine Phase aus einem fotoleitfähigen Material besteht. ^:

Ein weiteres Ziel der vorliegenden Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Abbildungselementes mit einer fotoleitfähigen Schicht, welche einen hohen Grad an mechanischer Flexibilität und ausgezeichnete elektrische Charakteristika aufweist.

Die oben genannten Ziele werden erfindungsgemäss dadurch erreicht, dass ein Verfahren zur Herstellung eines Fotorezeptors mit einer fotoleitfähigen Schicht geschaffen wird, welches dadurch charakterisiert ist, dass ein heterogenes Copolymerisat, welches aus einer Matrixphase (I) (vorzugsweise 5o % oder weniger) und einer Dispersionsphase (II) (vorzugsweise 5o % oder mehr) besteht. Das Copolymerisat wird in einem Lösungsmittel gelöst, um eine Lösung zu bilden, woraufhin eine Flüssigkeit zugegeben wird, die ein Nichtlösungsmittel für die Dispersionsphase und ein Lösungsmittel für die Matrixphase, d.h. kontinuierliche Phase, ist. Daraufhin wird ein fotoleitfähiges Material zu der Lösung zugegeben und in der Matrixphase, d.h. der kontinuierlichen Phase dispergiert. Die Lösung wird dann auf ein Trägersubstrat aufgeschichtet, wo man sie trocknen lässt; dabei wird eine fotoleitfähige Schicht gebildet, die eine Morphologie hat, die durch eine grössere Menge eines dispergierten Materials, welches in einer im wesentlichen kontinuierlichen fotoleitfähigen oder elektrisch aktiven Phase suspendiert ist, charakterisiert ist.

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Erfindungsgemäss kann ein fotoleitendes Pigment in einem elastomeren Copolymerisat bei Raumtemperatur suspendiert werden, wobei das elastomere Copolymerisat aus einer Hauptkomponente, die ein Kautschuk ist, und einer weiteren Komponente in geringerer Menge, die eine glasartige oder kristalline polymere Phase sein kann, besteht. Das Pigment wird in der in geringerer Menge vorhandenen Komponentenphase verteilt, um ein Teilchenkontaktsystem zu bilden, in welchem die Fotoleiterkonzentration so ist, dass die Fotoleiterteilchen im wesentlichen im Teilchen-zu-Teilchen-Kontakt innerhalb der gesamten sich ergebenden fotoleitfähigen Schicht vorliegen. Die kautschukartige Phase der Hauptkomponente bewirkt ausgezeichnete mechanische Eigenschaften und eine gewisse Verstärkung, während die in geringerer Menge vorhandene Phase, die die fotoleitfähigen Teilchen enthält, dafür sorgt, dass die fotoleitfähige Schicht geladen und selektiv entladen werden kann, um ein latentes xerografisches Bild zu bilden. Ein Weg, die Morphologie richtig zu steuern liegt darin, das heterogene Copolymerisat in einem Lösungsmittel aufzulösen, und dann ein Nichtlösungsmittel für die Kautschuk-Dispersions-Phase hinzuzugeben. Unmittelbar nachdem die Lösung trübe wird,was anzeigt, dass die kautschukartige Phase ausfällt, wird das fotoleitfähige Pigment zu der Matrixlösung hinzugegeben. Ein Film oder eine Schicht dieses Materials wird dann aus der Lösung auf ein Trägersubstrat gegeben bzw. gegossen, welches im allgemeinen leitfähig ist; darauf lässt man die Beschichtung trocknen. Die Endstruktur ist durch einen grösseren Anteil einer elastomeren oder kautschukartigen Phase und einer kleineren Menge eines fotoleitfähigen Anteils, welches getrennte Bereiche oder Netze aufweist, die durch die gesamte Dicke der fotoleitfähigen Schicht hindurchgehen, charakterisiert. Die fotoleitfähige Phase ergibt die

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elektronischen Pfade, deren Funktion es ist, die Entladung der fotoleitfähigen Schicht effektiv durchzuführen, wenn diese in einem xerografischen Verfahren verwendet wird. Ein weniger bevorzugtes Verfahren liegt darin, das Copolymerisat in einem einzigen Lösungsmittel aufzulösen, welches beide Phasen bei einer bestimmten Temperatur auflöst, welches jedoch beim Verdampfen oder Abkühlen die Dispersionsphase selektiv ablagert. Andererseits kann auch ein Lösungsmittel verwendet werden, welches lediglich die Dispersionsphase auflöst.

Fig. 1 zeigt schematisch eine Ausführungsform eines erfindungsgemässen Abbildungselementes.

Fig. 2 zeigt schematisch eine zweite Ausfürhungsform eines erfindungsgemässen Abbildungselementes.

Die erfindungsgemässen fotoleitfähigen Schichten mit ganz bestimmter Morphologie werden entweder als fotoleitfähige Schicht oder Ladungstransportschicht in xerografischen Abbildungsvorrichtungen verwendet.

Fig. 1 erläutert eine Ausführungsform eines typischen xerografischen Elementes,in welchem diese fotoleitfähigen Schichten verwendet werden. Abbildungselement 1o besteht aus einem Trägersubstrat 11, welches mit einer fotoleitfähigen Schicht 12 beschichtet ist. Schicht 12 besteht aus wenigstens zwei Phasen, deren eine Phase Phase 13 ist, die aus einem elastomeren Material besteht, und deren zweite Phase Phase 14 ist, die aus einem isolierenden Harz oder einem glasartigen oder kristallinen Material bestehen kann. Phase 14 enthält ausserdem fotoleitfähige Teilchen 15 in einer Konzentration, die gross genug

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ist, um einen Teilchen-zu-Teilchen-Kontakt zu garantieren. Aus der Zeichnung ist zu ersehen, dass die Morphologie der Struktur der fotoleitfähigen Schicht 12 kontinuierliche elektronische Pfade des fotoleitfähigen Materials, welches in Phase 14 vorhanden ist, ermöglicht, und zwar derart, dass Pfade bzw. Wege aus fotoleitfähigem Material von der oberen Oberfläche hinunter bis zur Substrat-Fotoleiter-Zwischenschicht gebildet werden. Ausserdem stattet die elastomere Phase 13 die Vorrichtung mit einem hohen Grad an mechanischer Flexibilität aus. Im allgemeinen sollte die Konzentration der elastomeren oder Kautschukphase 5o Vol.-% übersteigen und sollte vorzugsweise bei wenigstens 6o bis 7o Vol.-% liegen, wobei der Rest aus der in geringerer Menge vorhandenen Komponentenphase, die das fotoleitfähige Material enthält, besteht. In einigen Fällen kann jedoch die dispergierte elastomere Phase in Konzentrationen vorhanden sein, die so niedrig wie 1o Vol.-% sind.

Im allgemeinen besteht das für die Schicht 12 verwendete Material aus einem heterogenen Copolymerisat mit einer Hauptkomponente, die aus einem kautschukartigen oder elastomeren Material besteht,und einer in geringerer Menge vorhandenen Komponente, die aus einer glasartigen, kristallinen, polymeren Phase besteht. Das photoleitfähige Pigment wird in der in geringerer Menge vorhandenen Komponentenphase verteilt, um ein Teilchenkontaktsystem zu bilden, damit die für die Verwendung in der Elektrofotografie erwünschten elektrischen Charakteristika garantiert sind.

Die Hauptphase des heterogenen Copolymerisates ist elastomer und verbessert die mechanischen Eigenschaften der fotoleitfähigen Schicht. Es versteht sich jedoch, dass andere Hauptphasen, die aus kristallinen oder amorphen Polymerisaten

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bestehen, und die vorzugsweise äusserst gute mechanische Eigenschaften aufweisen, ebenfalls verwendet werden können. Der Ausdruck "heterogenes Copolymerisat" schliesst auch Blockcopolymerisate, Propfcopolymerisate und M_schungen aus Homopolymerisaten und Blockcopolymerisaten ein.

Substrat 11 wird vorzugsweise aus irgendeinem geeigneten, leitfähigem lYaterial hergestellt. Typische Leiter sind beispielsweise Aluminium, Stahl, lyessing, aluminisiertes ISylar oder dergleichen. Das Substrat kam spröde oder flexibel sein und kann jede geeignete Dicke aufweisen. Das Substrat kann ebenfalls aus einer zusammengesetzten Struktur bestehen, wie beispielsweise aus einer dünnen, leitfähigen Schicht, die auf einer Papierbasis aufgetragen ist; einem Kautschuk, der mit einer dünnen, leitfähigen Schicht, wie beispielsweise aus Aluminium, Graphit, Kupferjodid, beschichtet ist ; oder GLas, das mit einer dünnen leitfähigen Schicht aus Chrom oder Zinnoxid beschichtet ist. Wenn erforderlich oder erwünscht, kann das Substrat auch im wesentlichen dielektrisch oder elektrisch isolierend sein, und die Vorrichtung kann gemäss Verfahren aufgeladen werden, die für die Verwendung von Abbildungselementen mit elektrisch isolierenden Substraten bekannt sind.

Beispiele geeigneter Copolymerisate, die zur Herstellung von Schicht 12 und damit Komponenten 13 und 14 gemäss der vorliegenden Erfindung verwendet werden können, sind z.B. - ohne dass dies eine Abgrenzung sein soll - Blockcopolymerisate von Polybutadien/Polystyrol, Polyäther/Polyester, PoIycarbonat/Silicon, Polyäthylen/Polybutadien, Polyäthylen/ Polybutylen, Polyäthylen/Polyvinylchlorid (Pfropf copolymer isat), Hexamethylensebacat/ifethyläthylpropylsebacat, Polystyrol/Polyäthylenoxid , Polymethylmethacrylat/Polyhexyl-

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methacrylat, Polyisopren/Polymethylmethacrylat, Polystyrol/ Silicon, Polyester/Urethane (B.F. Gbodrich) , Polyvinylcarbazol (PVK/Silicon, PVK/Polystyrol,PVK/Polyester, PoIy(^- methylstyrol) / Polyisopren, Poly (■* MethyIstyrol)/Polybutadien, Polycarbonat/Polybutadien und Polyisopren/Polycarbonat. Ausser den oben genannten Copolymerisäten können verschiedene Kombinationen von Dispersionen von fotoleitfähigen Arten und den elastomeren Arten verwendet werden, vorausgesetzt, dass darauf geachtet wird, dass die Materialien so gewählt werden, dass die elastomere oder Kautschukphase in einem Nichtlösungsmittel dispergiert werden kann, während die in geringerer Menge vorhandene Phase in Lösung mit dem fotoleitfähigen Material verbleibt, so dass die in den Zeichnungen 1 und 2 gezeigte und erläuterte Morphologie beibehalten wird.

Jedes geeignete fotoleitfähige oder elektrisch aktive Material 15 kann in der kleineren Phase 14 verwendet werden. Typische Materialien sind beispielsweise Cadmiumsulfid, Cadmiumselenid, Cadmiumsulfoselenid, Phthalocyanine, glasartiges Selen, Selenlegierungen, trigonales Selen, fotoleitfähige Farbstoffe, wie beispielsweise Rhodamin B oder Ms thylenblau,oder Pigmente, wie beispielsweise Phthalocyanin, substituierte Chinacridone (Mbnostral Violett oder Monostral Rot), Anthanthrone, Indigo oder Indigofarbstoffe, Indofast Gelb, Indofast Orange, Goldgelb RK, Rhodamine, Transportmaterialien wie beispielsweise N-Vinylcarbazol, Anthracen, Polyvinylcarbazol, Trinitrofluorenon, Oxadiazole, Triphenylmethane, N-isopropylcarbazole, Triarylamine, disubstituierte Diaryltriazole und Diarylmethane, tricyanovinyliertes Carbazol und tricyanovinyliertes Indol.

Im allgemeinen ist es jedoch bei Verwendung von fotoleitfähigen

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Teilchen oder eines Pigmentes in einer elektrisch isolierenden kleineren Phase 14 wesentlich, dass das fotoleitfähige Material im wesentlichen in Teilchen-zu-Teilchen-Kontakt vorliegt, um die erwünschten elektrischen Charakteristika beizubehalten. Wenn beispielsweise die elastomere Phase 7o Vol.-ί aufweist, und die kleinere, elektrisch isolierende Phase 3o Vol.-% aufweist, sollte die Gssamtkonzentration des Fotoleiters 60 Vol.-% der kleineren Phase oder 18 VoI.-% der fotoleitfähigen Schicht ausmachen, um die erwünschten elektrischen Eigenschaften zu erhalten.

In einer anderen Ausführungsform der vorliegenden Erfindung kann die neue fotoleitfähige Struktur gemäss der vorliegenden Erfindung in einer zusammengesetzten Vorrichtung, wie beispielsweise einer Ladungstransportschicht, die auf einer dünnen fotoleitfähigen Schicht aufgeschichtet ist, verwendet werden. Diese Struktur ist in Fig. 2 der Zeichnungen unter der Bezugsnummer 2o aufgezeigt und sie besteht aus einem Trägersubstrat 21, einer fotoansaugenden bzw. fotoinjizierenden Schicht 22 eines geeigneten Fotoleiters, wie beispielsweise glasartiges Selen, Selenlegierungen, trigonales Selen, Cadmiumsulfid in einem Bindemittel und dergleichen. Die fotoleitfähige Schicht ist mit der erfindungsgemässen Schicht mit kontrollierter Morphologie, wie sie schon oben beschrieben wurde, überschichtet, und besteht aus Schicht 23, die in sich eine elastomere Phase 24 aufweist, die eine kleinere Phase 25 enthält, die in sich fotoleitfähige Teilchen 26 im Teilchen-zu-Teilchen-Kontakt enthält. Während des Betriebes wird diese Vorrichtung belichtet,' indem die oberste Copolymerisatschicht auf ein gleichmässiges Potential gleichmassig aufgeladen wird, der Belichtung mit Strahlen ausgesetzt wird,gegenüber welcher die oberste Schicht im wesentlichen nicht absorbierend oder transparent ist und

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gegenüber welcher die unter fotoleitfähige Schicht im wesentlichen absorbierend ist. Positive oder negative elektrische Ladungen, die durch die fotoleitfähige Schicht 22 erzeugt werden, bewegen sich durch die Transportschicht 23, wobei sie ein latentes elektrostatisches Bild bilden. Diese Strukturen sind in grösserem Detail in der US-Patentanmeldung Nr. 371 647, eingereicht am 2o.6. Juni 19 73, beschrieben worden.

Die folgenden Beispiele erläutern die vorliegende Erfindung hinsichtlich einem Verfahren zur Herstellung und Belichtung der neuen Fotorezeptorelemente. Die Prozentangaben beziehen sich auf das Gewicht, es sei denn es ist anders angegeben. Die Beispiele dienen lediglich zur Erläuterung verschiedener bevorzugter Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung.

Beispiel 1

Eine fotosensitive Bindemittelschicht, die der ähnlich ist, die in Fig. 1 gezeigt wird, wird nach dem folgenden Verfahren hergestellt. 5o g eines im Handel befindlichen elastomeren Styrol-Butadien-StyroIb lockcopolymerisates (Kraton 11o1, hergestellt von Shell Chemical Company) wurden in 25o cm Tetrahydrofuran gelöst, welches ein gleichzeitiges Lösungsmittel für beide Arten ist. Ein gleiches Volumen an Wethyläthylketon, welches ein bevorzugtes Lösungsmittel für Polystyrol ist, wurde dann zugegeben. Das THF wurde dann bei Raumtemperatur durch Entspannung verdampft, was zur Ausfällung der Hauptbutadienphase (etwa 78 Gew.-%) führte, wie es durch das Trübewerden der Lösung bewiesen wird. Das jyethyläthylketon wurde dann durch weitere Vakuumverdampfung bei Raumtemperatur entfernt, wobei die Lösung während dieser

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Zeit in steigendem Masse viskos wurde. Dann wurden 4,2 g .eines fotoleitfähigen Cadmxumsulfoselenidpigmentes mit einer mittleren Teilchengrösse von etwa 5oo §. in der viskosen Lösung durch kräftiges Bearbeiten mit einer ultrasonischen Sonde dispergiert. Die erhaltene Aufschlämmung wurde dann mit Hilfe eines Doktorrakels auf ein Aluminiumsubstrat aufgegossen bzw. aufgetragen, worauf das Lösungsmittel verdampfen konnte. Der Film wurde 3 Stunden lang bei Raumtemperatur im Vakuum getrocknet, bevor die Messungen der elektrischen Eigenschaften, wie sie unten angegeben sind, durchgeführt wurden:

Bestrahlung mit weissem Licht - 18 ,u Film

negative Ladung dv/dt = 5 χ 1o⁴,u/Sec v_Q = 56o Volt V = 4o Volt

positive Ladung
dv/dt = 4 χ 1o ,u/See

= 47o Volt
= 2o Volt

Monochromatische Bestrahlung - A- = 58oo S φ = 8 χ 1ο

Negative Ladung

dv/dt = 17 Volt/See- ,u

Dunkelzerfallrate = 3,ο Volt/Sec- ,u

= 612 Volt

positive Ladung

dv/dt = 52VoItZSeC-Ai

Dunkelzerfallrate = 3,6Volt/Sec-/U V.

= 55o Volt

Beispiel 2

Eine fotosensitive Bindemittelschicht ähnlich der, wie sie in Fig. 1 gezeigt ist, wird nach dem folgenden Verfahren hergestellt. 2 g eines handelsüblichen elastomeren

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Styrol-Butadien-Styrol-Blockcopolymerisates (Kraton 11o1, vertrieben von Shell Chemical Company) wurden in THF aufgelöst, welches ein gleichzeitiges Lösungsmittel für die Komponenten des Blockcopolymerisates ist. Diese Lösung wurde zu 2o ml Lfethyläthylketon (JEK), welches ein Nichtlösungsmittel für die Polybutadienphase des Blockcopolymerisates ist, zugegeben. ffiK wurde zu dieser Lösung hinzugegeben, bis sie trüb wurde, wodurch angezeigt wurde, dass ein Ausfällen der Butadienphase des Polymerisates erfolgte. Das System wurde etwa auf die Hälfte des Volumens durch Entspannung verdampft und weiteres MSK hinzugefügt, und eine weitere Verdampfung durch Entspannung vorgenommen, bis die Endlösung etwa 8 ml der trüben, viskosen Lösung aufwies, welche eine ausgefällte Butadienphase anzeigte.

Eine Dispersion von 2 g Polyvinylcarbazol-Polybutadien (PVK-PB) Pfropf copolymerisate (7o % PVK auf gepfropft) in 2o ml THF wurde hergestellt. Dieses Polymerisat ist nicht vollständig löslich und kann lediglich dispergiert werden in THF. Dann wurden o,282 g TNF zu der Dispersion hinzugegeben, so dass ein PFK/TNF-sensitiviertes System gebildet wurde. Diese Gawichte ergaben ein 1o M)I.-% TNF/Carb azolverhältnis. 5 ml dieser Dispersion wurden zu 5 ml der trüben Blockcopolymerisatlösung, die oben hergestellt wurde, hinzugegeben. Dieses System wurde dann auf eine dünne Schicht eines AIuminiumbleches bzw. -bogens aufgeschichtet, getrocknet und in dem xerografischen Verfahren getestet. Die elektrischen Daten sind wie unten zusammengefasst:

Negative	Ladung	Positive	Ladung
^vo	= 26o Volt	^vo	= 22o Volt
^Vr	= 125 Volt	^vr	= 80 Volt
dv/dt	= 77 Volt/See	dv/dt	= 79 Volt/See
(Tetrahydrofuran = THF)

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Beispiel 3

5 ml der Blockcopolymerxsat-Aufschlämmung gemäss Beispiel 2 wurden mit o,25 g Trinitrofluorenon (TNF) versetzt. TNF ist in dem THF vollständig löslich. Nach der Auflösung des TNF wurde das Mschsystem auf ein Selensubstrat aufgeschichtet, getrocknet und einer Auswertung hinsichtlich der elektrischen Eigenschaften unterworfen. In diesem Falle wurde die IVatrix als eine Ladungstransportmatrix verwendet.

Eine Platte, die der in Fig. 2 gezeigten ähnlich ist, wurde auf die folgende Art und Weise hergestellt. Die Auswertung der elektrischen Eigenschaften dieser Platte sind wie unten angegeben:

Negative	Ladung	Volt
^Vo	3 oo	Volt
^Vr	12o	Volt/See.
dv/dt	555

Positive Ladung

= 34o Volt = 1oo Volt

dv/dt = 455 Volt/See,

Obwohl ganz bestimmte Komponenten und Proportionen in der oben angegebenen Beschreibung der bevorzugten Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung angegeben wurden, können den Fachleuten beim Lesen dieser Offenbarung weitere Modifikationen und Änderungen der vorliegenden Erfindung möglich erscheinen. Es ist deshalb beabsichtigt, dass der Umfang der vorliegenden Erfindung solche Modifikationen einschliesst.

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Claims

Patentansprüche

Verfahren zur Herstellung eines Fotorezeptors mit einer fotoleitfähigen Schicht ganz bestimmter Morphologie, dadurch gekennzeichnet , dass man zur Herstellung der fotoleitfähigen Schicht

(a) ein heterogenes Copolymerisat, bestehend aus einer Matrixphase und einer Dispersionsphase, schafft;

(b) das Copolymerisat in einem Lösungsmittel auflöst;

(c) die Disperionsphase selektiv ausfällt ;

(d) ein fotoleitfähiges L&terial in der f&trixphase dispergiert, und

(e) die Lösung auf ein Trägersubstrat aufschichtet und die Schicht unter Bildung einer fotoleitfähigen Schicht mit einer ffibrphologie, die dadurch charakterisiert ist, dass die dispergierte Phase in einer im wesentlichen kontinuierlichen fotoleitfähigen Phase dispergiert ist, trocknen lässt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Fotoleiter in teilchenförmiger Form vorliegt und in einer Konzentration, die ausreicht, einen Teilchen-zu-Teilchen-Kontakt zu garantieren.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Dispersionsphase aus wenigstens 5o Vol.-% der fotoleitfähigen Endphase besteht.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , dass das dispergierte JYaterial aus Polybutadien besteht.

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5. Eine fotoleitfähige Schicht, die aus einem dispergierten t&terial als Dispersionsphase besteht, die in einer im wesentlichen kontinuierlichen fotoleitfähigen Phase enthalten ist, die aus einem organischen ifetrixmaterial besteht, welche ein Faterial enthält, wie beispielsweise ein teilchenförmiges fotoleitfähiges Material, ein elektrisch aktives üöteriäl, einen Farbstoff sensibilisator oder MLschungen davon.
6. Schicht nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet , dass das dispergierte Material aus Polybutadien besteht und die fotoleitfähige Phase aus einem Polystyrol besteht, welches fein verteilte fotoleitfähige Partikelchen darin dispergiert enthält.
7. Schicht nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet , dass die fotoleitfähigen Teilchen aus wenigstens einem der folgenden lyaterialien besteht, Cadmiumsulfid, Cadmiumselenid, Cadmiumsulfoselenid, Phthalocyanine, glasartiges Selen, Selenlegierungen, trigonales Selen, fotoleitfähige Farbstoffe, wie beispielsweise Rhodamin B oder ethylen Blau oder Pigmente, wie beispielsweise Phthalocyanin, substituierte Chinacridone (M^nastral Violett und tfonastral Rot), Anthantrone, Indigo und Indigofarbstoffe, Indofast GaIb, Indofast Orange, QDlä^elb RK, Rhodamine, Transportmaterialien, wie beispielsweise N-Vinylcarbazol, Anthracen, Polyvinylcarbazol, Trinitrofluorenon,Oxadiazole, Triphenylmethane, KhIsopropylcarbazole, Triarylamine, disubstituierte Diaryltriazole und Diarylmethane, tricyanovinyliertes Carbazol und tricyanovinyliertes Indoi, in einer Konzentration, die einen Teilchen-zu-Teilchen-Kontakt der fotoleitfähigen Teilchen garantiert.

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8. Die Struktur nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die fotoleitfähige Schicht auf einem Trägersubstrat vorliegt.
9. Die Struktur nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass das Trägersubstrat aus Selen besteht.
10. Schicht nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass die fotoleitfähigen Teilchen aus Cadmiumsulfoselenid, Polyvinylcarbazol oder Trinitrofluornon bestehen.
11. Schicht nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet , dass die fotoleitfähigen Teilchen aus Cadmiumsulfoselenid, Polyvinylcarbazol oder Trinitrofluornon b estehen.
12. Struktur nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet , dass die fotoleitfähigen Teilchen aus Cadmiumsulfoselenid, Polyvinylcarbazol oder Trinitrofluornon bestehen.
13. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , dass das Copolymerisat mit einem Lösungsmittel vermischt wird, welches die E&trixphase selektiv löst, die Dispersionsphase ausfällt und das fotoleitfähige JYaterial in der fatrixphase dispergiert.
14. Verfahren zur Herstellung einer fotoleitfähigen Schicht, dadurch gekennzeichnet , dass man

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(a) ein heterogenes Copolymerisat, bestehend aus einer jyatrixphase und einer Dispersionsphase, schafft;

(b) die ftatrixphase in einem Lösungsmittel löst;

(c) ein fotoleitfähiges lXkterial in der Matrixphase dispergiert, und

(d) die Lösung auf ein Trägersubstrat aufträgt und die Schicht unter Bildung einer fotoleitfähigen Schicht mit einer törphologie, die dadurch charakterisiert ist, dass die dispergierte Phase in einer im wesentlichen kontinuierlichen fotoleitfähigen Phase dispergiert ist, trocknen lässt.

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