DE2541133B2 - Verwendung von N-Nitrosodiarylaminen als Stabilisatoren für photopolymerisierbare Massen - Google Patents
Verwendung von N-Nitrosodiarylaminen als Stabilisatoren für photopolymerisierbare MassenInfo
- Publication number
- DE2541133B2 DE2541133B2 DE2541133A DE2541133A DE2541133B2 DE 2541133 B2 DE2541133 B2 DE 2541133B2 DE 2541133 A DE2541133 A DE 2541133A DE 2541133 A DE2541133 A DE 2541133A DE 2541133 B2 DE2541133 B2 DE 2541133B2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- photopolymerizable
- group
- compositions
- photohardenable
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 44
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 title claims 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 30
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 14
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 claims description 13
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 10
- UBUCNCOMADRQHX-UHFFFAOYSA-N N-Nitrosodiphenylamine Chemical group C=1C=CC=CC=1N(N=O)C1=CC=CC=C1 UBUCNCOMADRQHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 claims description 7
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 5
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 5
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 5
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 235000010354 butylated hydroxytoluene Nutrition 0.000 claims description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 4
- 125000001664 diethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 4
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 4
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 claims description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 4
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 claims description 3
- 238000001879 gelation Methods 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 3
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 claims description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 claims description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 2
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 2
- 238000004073 vulcanization Methods 0.000 claims description 2
- 238000004898 kneading Methods 0.000 claims 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 2
- 230000002028 premature Effects 0.000 claims 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- CHBRHODLKOZEPZ-UHFFFAOYSA-N Clotiazepam Chemical compound S1C(CC)=CC2=C1N(C)C(=O)CN=C2C1=CC=CC=C1Cl CHBRHODLKOZEPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 claims 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 claims 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 claims 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 claims 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 claims 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims 1
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- -1 diisocyanate compound Chemical class 0.000 description 15
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 11
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229940035422 diphenylamine Drugs 0.000 description 7
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 6
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 4
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MTZUIIAIAKMWLI-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanatobenzene Chemical compound O=C=NC1=CC=CC=C1N=C=O MTZUIIAIAKMWLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000623 Cellulose acetate phthalate Polymers 0.000 description 2
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940081734 cellulose acetate phthalate Drugs 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 2
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 2
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N isophorone Chemical compound CC1=CC(=O)CC(C)(C)C1 HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- AXTGDCSMTYGJND-UHFFFAOYSA-N 1-dodecylazepan-2-one Chemical class CCCCCCCCCCCCN1CCCCCC1=O AXTGDCSMTYGJND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWOACSMESNKGGJ-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)C=C JWOACSMESNKGGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZMLJEYQUZKERO-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-(2-methylphenyl)-2-phenylethanone Chemical compound CC1=CC=CC=C1C(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 VZMLJEYQUZKERO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVHIXYEVGDQDX-UHFFFAOYSA-N 9,10-anthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=C1 RZVHIXYEVGDQDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940076442 9,10-anthraquinone Drugs 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N Cellulose propionate Chemical compound CCC(=O)OCC1OC(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C1OC1C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(COC(=O)CC)O1 DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N Diacetyl Chemical group CC(=O)C(C)=O QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical group OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYIKRXIYLAGAKQ-UHFFFAOYSA-N abcn Chemical compound C1CCCCC1(C#N)N=NC1(C#N)CCCCC1 KYIKRXIYLAGAKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYKJEILNJZQJPU-UHFFFAOYSA-N acetic acid;butanedioic acid Chemical compound CC(O)=O.OC(=O)CCC(O)=O IYKJEILNJZQJPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- ZPOLOEWJWXZUSP-WAYWQWQTSA-N bis(prop-2-enyl) (z)-but-2-enedioate Chemical compound C=CCOC(=O)\C=C/C(=O)OCC=C ZPOLOEWJWXZUSP-WAYWQWQTSA-N 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 1
- 229920006218 cellulose propionate Polymers 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfide Chemical compound C=1C=CC=CC=1SC1=CC=CC=C1 LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 150000002019 disulfides Chemical class 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- ZMJOQTILTVQJJE-UHFFFAOYSA-N ethenol;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound OC=C.CC(=C)C(O)=O ZMJOQTILTVQJJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 229940086559 methyl benzoin Drugs 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N n,n'-methylenebisacrylamide Chemical compound C=CC(=O)NCNC(=O)C=C ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOOMFXGDLMRWSN-UHFFFAOYSA-N n-phenylnitrous amide Chemical compound O=NNC1=CC=CC=C1 KOOMFXGDLMRWSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L phthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001470 polyketone Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F299/00—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers
- C08F299/02—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers from unsaturated polycondensates
- C08F299/04—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers from unsaturated polycondensates from polyesters
- C08F299/0407—Processes of polymerisation
- C08F299/0421—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F299/00—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers
- C08F299/02—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers from unsaturated polycondensates
- C08F299/06—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers from unsaturated polycondensates from polyurethanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/32—Compounds containing nitrogen bound to oxygen
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/118—Initiator containing with inhibitor or stabilizer
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Description
Mischens infolge der erzeugten Wärme auftritt,
wodurch die Handhabbarkeit der Kautschukmasse erschwert wird. Es ist jedoch in keiner Weise bekannt,
daß N-Nitrosodiphenylamin zum Unterdrücken oder Verhindern einer thermischen Polymerisation, insbesondere
bei normaler Temperatur, von äthylenisch ungesättigten Verbindungen verwendet werden kann,
wie sie erfindungsgemäß bei den photopolymerisierbaren Massen vorgesehen sind. Diese thermische
Polymerisation ist von der Vulkanisationsreaktion der ι ο Kautschukmoleküle, die bei höheren Temperaturen
infolge des Einflusses von Schwefel oder eines organischen Peroxides auftritt, vollständig verschieden.
Weiterhin ist es überraschend, daß die N-Nitrosodiarylamine
gemäß Anspruch 1 bei der erfindungsgemäßen Verwendung die Photoplymerisation der photohärtbaren
Massen kaum beeinflussen obwohl sie bezüglich der Verhinderung der thermischen Polymerisation einen
drastischen Einfluß haben. Der Grund hierfür ist bisher nicht bekannt, jedoch wird angenommen, daß die
chemischen Strukturen der erfindungsgemäß verwendeten N-Nitrosodiarylamine durch Bestrahlung mit
aktinischen Strahlen deaktiviert werden.
Typische Beispiele für mehrfach ungesättigte photopolymerisierbare
Verbindungen, die bei den erfindungs- r, gemäß stabilisierten photopolymerisierbaren Massen
Einsatz finden, sind:
Divinylbenzol; Diacrylate,
Di methacrylate und Dicrotonate von
Dihydroalkoholen, wie beispielsweise w
Äthylenglykol, Propylenglykol,
1,4-Butandiol, 1,6-Hexandiol,
Diäthylenglykol, Polyäthylenglykol,
Polypropylenglykol,Neopentylglykol
und ein Additionsprodukt, erhalten aus einem Mol eines i > Epoxyharzes (beispielsweise ein Polykondensat aus Bisphenol A und Epichlorohydrin) und zwei Mol Acrylsäure, Methacrylsäure oder Crotonsäure; ein Ester aus einem Mol eines Trihydroaikohols, wie Glycerin, Trimethyloläthan, Trimethylonpropan und zwei bis drei Mol Acrylsäure, Methacrylsäure oder Crotonsäure; ein Ester aus einem Mol eines Tetrahydroalkohols, wie Pentaerythritol und zwei bis vier Mol Acrylsäure, Methacrylsäure oder Crotonsäure; eine Diurethanverbindung, erhalten durch Additionsreakton eines Mols v, einer Diisocyanatverbindung, wie
und ein Additionsprodukt, erhalten aus einem Mol eines i > Epoxyharzes (beispielsweise ein Polykondensat aus Bisphenol A und Epichlorohydrin) und zwei Mol Acrylsäure, Methacrylsäure oder Crotonsäure; ein Ester aus einem Mol eines Trihydroaikohols, wie Glycerin, Trimethyloläthan, Trimethylonpropan und zwei bis drei Mol Acrylsäure, Methacrylsäure oder Crotonsäure; ein Ester aus einem Mol eines Tetrahydroalkohols, wie Pentaerythritol und zwei bis vier Mol Acrylsäure, Methacrylsäure oder Crotonsäure; eine Diurethanverbindung, erhalten durch Additionsreakton eines Mols v, einer Diisocyanatverbindung, wie
Hexamethylendiisocyanat,
Phenylendiisocyanat,
Tolylendiisocyanat, Xyloldiisocyanat oder
Isophorondiisocyariat
mit zwei Mol 2-Hydroxyäthyl (oder Hydroxypropyl-)-acrylat
(oder -methacrylat); eine Polyurethanverbindung, erhalten durch Additionsreaktion eines Mols eines
Dihydroalkohls, zweier Mol eines Diisocyanats, wie der vorstehend genannten Art und zwei Mol eines «
2-Hydroxyäthyl (oder Hydroxypropyl-)-acrylat (oder -methacrylat); ein ungesättigter Polyester, der zwei
Äquivalente oder mehr eines Restes einer ungesättigten Carbonsäure, wie Maleinsäure, Fumarsäure oder Itakonsäure
pro Mol eines ungesättigten Polyesters, so bezogen auf das zahlenmäßige mittlere Molekulargewicht,
enthält; ein Additiosprodukt aus einem Mol, bezogen auf das mittlere, zahlenmäßige Molekulargewicht,
eines Acrylharze«, welches mehr als zwei Mol, einschließlich, eines Glycidylacrylates oder Gylcidylmetharcylates
als copolymerisierte Komponente sowie zwei Mol oder mehr einer Acrylsäure oder Methacrylsäure
enthält; ein Additionsprodukt aus einem Mol, bezogen auf das mittlere zahlenmäßige Molekulargewicht,
eines Acrylharzes, welches zwei Moi oder mehr Acrylsäure oder Methacrylsäure als copolymerisierte
Komponente und zwei Mol oder mehr Glycidylacrylat oder Glycidylmethacrylat enthält; ein Diallylester, wie
Diallylphthalat, Diallylmaleat und Methylen-bis-acrylamid.
Besonders bevorzugt ist ein Additionsprodukt, welches erhalten ist aus einem Mol eines Epoxyharzes
(beispielsweise ein Polykondensat aus Bisphenol A und Epichlorohydrin) und zwei MoI Acrylsäure, Methacrylsäure
oder Crotonsäure; ein Ester aus einem Mol eines Trihydroaikohols, wie Glycerin, Trimethyloläthan, Trimethylolalkohls,
wie Glycerin, Trimethyloläthan, Trimethylolpropen und zwei bis drei Mol Acrylsäure,
Methacrylsäure oder Crotonsäure; ein Ester aus einem Mol eines TetrahyJroalkohols, wie Pentacerythritol und
zwei bis vier Mol Acrylsäure, Methacrylsäure oder Crotonsäure; eine Diurethanverbindung, erhalten durch
Additionsreaktion aus einem Mol einer Diisocyanatverbindung, wie
Hexamethylendiisocyanat,
Pheüylendiisocyanat,
Tolylendiisocyanat,
Xylendiisocyanat oder
I sophorondiisoeyanat
mit zwei Mol 2-Hydroxyäthylen- (oder Hydroxypropyl-)acrylat
(oder -methacrylat); eine Polyurethanverbindung, erhalten durch Additionsreaktion aus einem
Mol eines Dihydroalkohols, zwei Mol eines Diisocyanats, wie des obengenannten, und zwei Mol 2-Hydroxyäthyl-
(oder Hydroxypropyl-)acrylat (oder -methacrylat); und ungesättigter Polyester, welcher zwei Äquivalente
oder mehr eines Restes einer ungesättigten Dicarbcnsäure enthält, wie Maleinsäure, Fumarsäure
oder itakonsäure pro Mol des ungesättigten Polyesters, berechnet auf der Basis des mittleren zahlenmäßigen
Molekulargewichts. Andere bekannte, vielfach ungesättigte Verbindungen, die sich zur freiradikalischen
Polymerisation eignen, können ebenfalls ohne Begrenzung bei der Erfindung verwendet werden. Weiterhin
kann die vielfach ungesättigte Verbindung mit einer ungesättigten Verbindung gemischt werden, wie beispielsweise
Styrol, Acrylsäureester oder Methacrylsäureester von einwertigen Alkoholen (unter »Dihydroalkohol«,
»Trihydroalkohol«, »Tetrahydroalkohol« sind selbstverständlich zweiwertige, dreiwertige bzw. vierwertige
Alkohole zu verstehen), wobei letztere in einer Menge verwendet werden, die, gewichtsmäßig, nicht das
fünffache der Menge der vorgenannten übersteigen.
Der Photosensibilisator kann eine beliebige, üblicherweise als photoempfindliche Komponente bekannter
photopolymerisierbarer Massen verwendete Verbindung sein, welche eine ausgezeichnete Photosensibilität
gewährleistet, um eine freiradikalische Polymerisation unter aktinischer Bestrahlung zu gewährleisten. Der
Photosensibilisator muß natürlich mit der obengenannten, mehrfach ungesättigten Verbindung mischbar sein
und umfaßt beispielsweise «-Carbonylalkohole wie Benzoin, Acyloinäther, wie Benzoinmethyläther, «-substituierte
Acyloinäther, wie «-Methylbenzoin, Mehrkernchinone, wie 9,10-Anthrachinon, benachbarte PoIyketone,
wie Diacetyl, Disulfide, wie Diphenylsulfid, Phenylketone, wie Benzophenone, und Azonverbindungen,
wie l.l'-Azo-bis-cyclohexancarbonitril. Diese Verbindungen
werden allgemein in einer Menge von 0,001 bis 5 Gew.-% der photohärtbaren Masse verwendet.
Wie bereits ausgeführt wurde, lassen sich die
Wie bereits ausgeführt wurde, lassen sich die
N-Nitrosodiarylamine, welche erfindungsgemäß zum
Stabilisieren von photohärtbaren Massen verwendet werden und diese gegen thermische Polymerisation
stabilisieren, durch die allgemeine Formel
N = O
ausdrücken. Dabei variieren R1, R2, R3 und R4.
Spezieller gesagt sind R1 und R2 unabhängig von
einem der ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen, eine Phenylgruppe, ein
Halogenatom, eine Methoxygruppe, eine Äthoxygruppe, eine Dimethylaminogruppe ode. eine Diäthylaminogruppe
sowie R3 und R4 unabhängig voneinander ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe mit 1 bis 9
Kohlenstoffatomen, eine Cyclohexylgruppe, eine Phenylgruppe, ein Halogenatom, eine Methoxygruppe, eine
Äthoxygruppe, eine Dimethylaminogruppe oder eine Diäthylaminogruppe. Beispiele für N-Nitrosodiarylaminverbindungen,
die bei der Erfindung in forteilhafter Weise verwendet werden können, sind
N-Nitrosodiphenylamin,
N-Nitroso-33'-dimethyl-diphenylamin,
N-Nitroso-4.4'-diisopropyl-diphenylamin, N-Nitroso^'-diisopropyl-diphenylamin,
N-Nitroso3.3',5.5'-tetramethyl-diphenylamin,
N-Nitroso-4.4'-diphenyl-diphenylamin,
N-Nitroso-4.4'-dichloro-diphenyl-amin,
N-Nitroso-2.2'-dimethoxy-diphenylamin, y,
N-Nitroso-4.4'-diäthoxy-diphenylamin,
N-Nitroso^^'-di-dimethyl-amino-diphenylamin,
N-Nitroso-4.4-di-diäthyIamino-diphenylamin,
N-Nitroso-4-tert.-butyl-Diphenylamin,
N-Nitroso-4-nonyl-diphenylamin, N-Nitroso-4-cyclohexyl-diphenylamin,
N-Nitroso-4-methoxy-diphenylamin,
4-Nitroso-4-äthoxy-diphenylaminund
N-Nitroso-4'-äthoxy-2-methyl-Diphenylamin.
Diese N-Nitrosodiarylamine werden allgemein im Bereich von 0,001 bis 1 Gew.-%, vorzugsweise 0,003 bis 0,1 Gew.-% der photohärtbaren Masse verwendet. Innerhalb des angegebenen Bereiches sollte die Menge der N-Nitrosodiarylamine in geeigneter Weise unter Berücksichtigung der thermischen Vorgeschichte (bei der Zubereitung und bei den Verarbeitungsschritten), der geforderten Lagerzeit sowie entsprechend der Art und der Menge des Photosensibilisitors ausgewählt werden. Wenn das N-Nitrosodiarylamin in einer Menge von mehr als 1 Gew.-% verwendet wird, so hat die resultierende Filmschicht oder die Druckplatte schlechte mechanische Eigenschaften, beispielsweise hinsichtlich der Zugfestigkeit. Umgekehrt, werden weniger als 0,001 Gew.-°/o verwendet, so sind die gewünschten Effekte nicht erzielbar. Wenn eine verlängerte Lager- b0 zeit besonders wünschenswert ist, wird der bereits erwähnte, bekannte Inhibitor für die freiradikalische Polymerisation dem chemischen Hochtemperatur-Reaktionssystem während der Herstellung der mehrfach ungesättigten Verbindung in einer so kleinen Menge zugesetzt, daß sich keine Behinderung in Form einer Unterdrückung der Photopolymerisation ergibt. Nachdem die Reaktion abgeschlossen ist, wird die N-Nitrosodiarlyaminverbindung weiterhin der resultierenden, mehrfach ungesättigten Verbindung hinzugefügt Alternativ hierzu kann das N-Nitrosodiarylamin dem Reaktionssystem von Anfang an zugefügt werden, zusammen mit einem bekannten Inhibitor für die freiradiaklische Polymerisation.
Diese N-Nitrosodiarylamine werden allgemein im Bereich von 0,001 bis 1 Gew.-%, vorzugsweise 0,003 bis 0,1 Gew.-% der photohärtbaren Masse verwendet. Innerhalb des angegebenen Bereiches sollte die Menge der N-Nitrosodiarylamine in geeigneter Weise unter Berücksichtigung der thermischen Vorgeschichte (bei der Zubereitung und bei den Verarbeitungsschritten), der geforderten Lagerzeit sowie entsprechend der Art und der Menge des Photosensibilisitors ausgewählt werden. Wenn das N-Nitrosodiarylamin in einer Menge von mehr als 1 Gew.-% verwendet wird, so hat die resultierende Filmschicht oder die Druckplatte schlechte mechanische Eigenschaften, beispielsweise hinsichtlich der Zugfestigkeit. Umgekehrt, werden weniger als 0,001 Gew.-°/o verwendet, so sind die gewünschten Effekte nicht erzielbar. Wenn eine verlängerte Lager- b0 zeit besonders wünschenswert ist, wird der bereits erwähnte, bekannte Inhibitor für die freiradikalische Polymerisation dem chemischen Hochtemperatur-Reaktionssystem während der Herstellung der mehrfach ungesättigten Verbindung in einer so kleinen Menge zugesetzt, daß sich keine Behinderung in Form einer Unterdrückung der Photopolymerisation ergibt. Nachdem die Reaktion abgeschlossen ist, wird die N-Nitrosodiarlyaminverbindung weiterhin der resultierenden, mehrfach ungesättigten Verbindung hinzugefügt Alternativ hierzu kann das N-Nitrosodiarylamin dem Reaktionssystem von Anfang an zugefügt werden, zusammen mit einem bekannten Inhibitor für die freiradiaklische Polymerisation.
Die erfindungsgemäß stabilisierten photohärtbaren Massen sind hinsichtlich der Photopolymerisationseigenschaften
herkömmlichen photohärtbaren Massen weit überlegen. Selbst dann, wenn die Lichtriurchlässigkeit
der photohärtbaren Masse infolge der Verteilung eines färbenden Pigmentes oder eines Füllers in der
Masse herabgesetzt wird, läßt sich die photohärtbarc
Masse ohne Schwierigkeiten mitteis aktinischer Strahlen härten. Die erfindungsgemäß stabilisierten photohärtbaren
Massen lassen sich in Form einer Lösung mit niedriger Viskosität verwenden, indem der betreffenden
Masse ein flüchtiges organisches Lösungsmittel zugesetzt wird. Die photohärtbaren Massen nach der
Erfindung lassen sich aber in fester Form verwenden, indem sie mit einem festen, hochmolekularen Material
gemischt werden, beispielsweise mit
einem Cellulosederivat, mit
einem Celluloseacetatphthalat, mit
einem Celluloseacetatsuccinat,
einem Cellulosepropionatmaleat,
einem Celluloseacetatbutyrat,
einem Hydrocypropylmethylcellulosephthalat
beispielsweise auch
beispielsweise auch
einem Polyvinylalkoholderivat,
einem Polyvinylbutyralharz,
einem Acrylharz, einem Epoxyharz,
einem gesättigten Polyester,
Polyvinylchlorid, Polystyrol,
Polyamid,
wobei diese Stoffe in einer Menge von etwa 20 bis 60 Gew.-% der photohärtbaren Masse verwendet werden
können.
Um eine Verzögerung der Oberflächenhärtung der photohärtbaren Masse beim Härten mittels aktinischer
Bestrahlung zu vermeiden, kann eine luftabschließende Schicht bildende Komponente, wie Paraffinwachs, der
photohärtbaren Masse, die erfindungsgemäß stabilisiert ist, zugesetzt werden, wobei dies, wenn erwünscht, in
einer Menge von etwa O,05 bis 2 Gew.-% der photohärtbaren Masse erfolgen kann.
Die mehrfach ungesättigte Verbindung, die den Hauptteil der photohärtbaren Masse, welche erfindungsgemäß
stabilisiert ist, bildet, kann auch unter schwierigen Wärmebedingungen, also bei hohen Temperaturen,
sowie unter Verwendung langer Heizzeiten hergestellt werden. Hieraus ergibt sich, daß man relativ
leicht eine mehrfach ungesättigte Verbindung mit einem hohen Grad an Untersättigung erhalten kann. Die
photohärtbare Masse, bei der eine derart hoch ungesättigte Verbindung verwendet wird, weist deutlich
verbesserte Photopolymerisationseigenschaften auf. Zusätzlich läßt sich eine mehrfach ungesättigte Verbindung
mit hoher Untersättigung auch unter schwierigen Bedingungen kneten und mischen, so daß es möglich ist,
eine feste, photohärtbare Masse ausgezeichneter Gleichmäßigkeit zu erhalten. Eine erfindungsgemäß
stabilisierte photohärtbare Masse ändert ihre Qualität auch dann nicht, wenn sie bei normaler Temperatur über
lange Zeit gelagert wird. Wenn es nicht erforderlich ist, die photohärtbare Masse über eine lange Zeitspanne zu
lagern, läßt sich die Zeit, welche für die aktinische Bestrahlung erforderlich ist, im Vergleich zu den bisher
bei den bekannten photohärtbaren Massen erforderlichen Beslrahlungszeiten stark reduzieren. Nachfolgend
wird die Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen erläutert.
Be i s ρ i e I 1
Fünf Mol Maleinanhydrid, fünf Mol Phthalsäureanhydrid sowie 10,5 Mol Propylenglykol wurden in ein
Reaktionsgefäß zur Kondensation bei 180 bis 2000C für
etwa fünf Stunden eingegeben, um so einen Polyester mit einem Säurewert von etwa 28 zu erhalten. Der so
erhaltene ungesättigte Polyester wurde in Styrol mit einem Verhältnis von 2 :3 aufgelöst. Das verwendete
Styrol war ein kommerziell erhältliches Produkt, welches auf herkömmliche Weise gereinigt worden war,
um den vorher hinzugesetzten Inhibitor für die thermische Polymerisaion zu entfernen, woraufhin dann
frisch 200 ppm N-Nitrosodiphenylamin zugesetzt wurden. Anschließend wurde die resultierende Lösung
mit 1 Gew.-% Benzoinäthyläther alis Photosensiblilisa- 2n tor sowie mit 0,1 Gew.-% Paraffinwachs versetzt,
wodurch sich eine photohärtbare Masse mit einer Viskosität von etwa 15 Poise ergab.
Die photohärtbare Masse wurde Lagerversuchen unterworfen. Dabei wurde 30 Tage nach einem
beschleunigten Lagertest bei 400C sowie sechs Monate
nach Lagerung bei Raumtemperatur keine Qualitätsänderung festgestellt. Weiterhin wurde die photohärtbare
Masse auf eine Metallplatte mit einer Filmdicke von etwa 100 μ aufgegeben und ultravioletter Strahlung jo
zwei Minuten lang ausgesetzt, wobei eine handeslübliche Quecksilber-Niederdrucklampe in einer Entfernung
von 20 cm von dem Film angewandt wurde. Als Resultat ergab sich, daß der Film vollständig gehärtet war.
Vergleichsbeispiel 1
Beispiel 1 wurde wiederholt, wobei die folgenden drei Arten von Styrolen A, B und C zur Herstellung von drei
Arten photohärtbarer Massen verwendet wurden: Styrol A war ein kommerziell erhältliches Produkt, 4n
welches 100 ppm Hydrochinon als thermischen Polymerisationsinhibitor enthielt. Styrol B war das
Styrol A, wobei aber das Hydrochinon durch ein herkömmliches Verfahren entfernt worden war, mit
anschließender Destillation und Reinigung. Styrol C war das Styrol B, dem dann 100 ppm 2.6-Di-tert.-butyl-4-methylphenol
als thermischer Polymerisationsinhibitor zugesetzt worden war.
Die drei Arten der photohärtbaren Massen, bei denen jeweils eine der obengenannten Styrolarten verwendet
wurden, wurden dann jeweils einem beschleunigten Lagertest sowie einem Lichtbestrahlungstest unterworfen,
wie in Beispiel 1 beschrieben, wobei sich die in Tabelle 1, unten, angegebenen Ergebnisse zeigten.
Die Viskositäten der drei Arten der photohärtbare Massen, die unmittelbar nach der Herstellung gemesse:
wurden, waren etwa dieselben wie diejenige de photohärtbaren Masse nach Beispiel 1.
Slyrol- | l-ür die Härtung mit | Beispiel | Beschleunigter Lagertest |
;irl | aktinischcm Licht | (bei 40 C und nach | |
erforderliche Zeit | oincm Zeitraum von | ||
(Min.) | 30 Tagen) | ||
A | 15 | Viskosität war bis zu | |
100 Poise erhöht | |||
B | 2 | Gelierung | |
C | 10 | Viskosität war auf | |
80 Poise erhöht | |||
e 2- 13 | |||
und Vergleichsbeispiele 2 — 4 |
Handelsübliches Trimethylolpropantrimethacryla mit einem Gehalt von 60 ppm Hydrochinonmonome
thyläther wurde 1 Gew.-% Benzophenon hinzugefügt um das Trimethacrylat photopolymerisierbar zu ma
chen. Dann wurden verschiedene N-Nitrosodiarylamin verbindungen, die als Kernsubstituenten R1, R2, R3 bzw
R4 die entsprechenden, in Tabelle 2 genannter Atomgruppen enthielten, dem Trimethacrylat jeweils ir
einer Menge von 60 ppm hinzugefügt, um dis photohärtbaren Proben der Beispiele 2 bis 13 zv
erhalten. Diese Proben wurden Photopolymerisations sowie Lagertests im Vergleich mit drei Arten vor
photohärtbaren Massen unterworfen, bei denen BHl und WXR als thermischer Polymerisationsinhibitoi
anstelle der N-Nitrosodiarylaminverbindung in einei
Menge von 60 ppm verwendet wurden, bzw. es wurde kein thermischer Polymerisationsinhibitor verwendet
(Vergleichsbeispiel 2 bis 4).
Der Photopolymerisationstest wurde wie folgt durchgeführt: Die jeweiligen Proben wurden jeweils in
einer Petrischale mit einer Dicke von 1 mm angeordnet Dann wurden die Proben in einem Stickstoffgasstrom
unter einer Entfernung von 30 cm mit einer handelsüblichen Quecksilber-Hochdrucklampe bestrahlt, um die
Zeit zu bestimmen, die erforderlich war, ehe die Probe gelierte. Weiterhin wurden die Testproben jeweils in ein
Teströhrchen eingegeben, woraufhin sie dann bei Raumtemperatur offen stehengelassen wurden, um die
Anzahl der Tage festzustellen, welche die Proben gelagert werden konnten, die vergingen, bis die Probe
keinerlei Fließfähigkeit mehr zeigte. Die Testergebnisse sind in der nachfolgenden Tabelle 2 wiedergegeben:
Tabelle 2 | Zugefügter thermischer R1 |
Polymerisationsinhibitor R2 R3 |
H 3'-Methyl 3'-Methyl |
R4 | Gelierzeit (Min.) |
Lagerfähige Tage (Tage) |
H 3-MethyI 3-Methyl |
H H 5-Methyl |
H H 5'-Methyl |
2,6 2,7 2,7 |
30 33 35 |
||
Beispiel Nr. 2 3 4 |
||||||
Fortsetzung
Zugefügter liier mischer l'olymerisationsinhihilnr
IO
(ielier/eil Lagerfähige Tage
(Min.)
(Tage)
Beispiel Nr. | 4-Phenyl | H |
5 | 4-Chlor | Il |
6 | 2-Methoxy | H |
7 | 4-Dimethylamino | H |
8 | H | H |
q | H | H |
10 | H | H |
11 | 4-Methoxy | H |
12 | 2-Methyl | H · |
13 | ||
Vergleichs- Beispiele Nr. |
- | |
2 | BHT | |
3 | WXR | |
4 | Beispiel 14 und Vergleichsbeispiel 5 |
|
4'-Phenyl | M |
4'-Chlor | Il |
2'-Methoxy | H |
4'-Dimethylamino | H |
4-tert.-Butyl | M |
4-Nonyl | H |
4-Cyclohexyl | H |
H | H |
4'-Äthoxy | H |
lu
360 g (2,06 Mol) Tolylendiisocyanat wurde mit 400 g (1,0 Mol) Polyäthylenglykol mit einem zahlenmäBigen
mittleren Molekulargewicht von 400 zur Reaktion bei J5 1400C für 30 Minuten gemischt und dann abgekühlt. Der
Reaktionslösung wurden 260 g (2 Mol) 2-Hydroxyäthylenmethacrylat zugefügt, in dem 0,21 N-Nitrosodiphenylamin
(Beispiel 14) oder p-Benzochinon (Vergleichsbeispiel 5) gelöst war. Dann erfolgte bei 400C eine
24stündige Reaktion, wodurch sich ein ungesättigtes Acrylurethanharz in Form einer viskosen Lösung bei
Raumtemperatur ergab. 50 Gewichtsteile des Harzes wurden mit 50 Gewichtsteilen Celluloseacetatphthalat
und 1 Gewichtsteil Benzoinäthyläther gemischt Die resultierende Mischung wurde 30 Minuten mittels
zweier Heizwalzen mit einer Oberflächentemperatur von 1200C geknetet, um eine gleichförmige Mischung zu
erhalten. Die gleichförmige Mischung wurde auf eine Metallplatte aufgegeben, die vorher mit einem Kleber
beschichtet worden war, wodurch sich eine 0,6 mm dicke Schicht auf der Metallplatte durch Preßgießen
ergab. Hierdurch wurde eine photohärtbare Relief2,6
2,7
2,7
2,6
2,7
2,6
2,6
2,7
2,7
2,7
2,7
2,6
2,7
2,6
2,6
2,7
2,7
2,5
2,8
3,0
2,8
3,0
32 30 22 34 34 20 20 27 29
3 13
druckplatte erhalten. In ähnlicher Weise wurde die andere photohärtbare Reliefdruckplatte erhalten.
Dann wurden die beiden Reliefdruckplatten (photohärtbar) der ultravioletten Bestrahlung mittels der in
Beispiel 1 bereits beschriebenen Quecksilber-Niederdrucklampe durch denselben Film bei einer Entfernung
von 10 cm ausgesetzt. Als Resultat ergab sich bei der photohärtbaren Reliefdruckplatte, bei der N-Nitrosophenylamin
verwendet wurde, daß es möglich war, die Entwicklung mittels einer wäßrigen 0,2%-NaOH-Lösung
drei Minuten nach der Bestrahlung durchzuführen, wobei das resultierende Druckerzeugnis ausgezeichnete
Schärfe aufwies. Die Druckplatte hingegen bei der p-Benzochinon Verwendung fand, erforderte eine
Entwicklungszeit von 12 Minuten und zeigte im Druck nur geringe Schärfe infolge der Bildung unerwünschter
dicker Biidlinien.
Bezüglich der Lagerfähigkeit bei 300C ergab sich, daß
sogar 60 Tage nach Beginn des Lagertestes die erfindungsgemäß stabilisierte photohärtbare Masse fast
dieselben Entwicklungseigenschaften und dieselbe Schärfe im Druck hatten, wie unmittelbar nach der
Zubereitung. 35 Tage nach der Zubereitung hingegen war die andere Platte nicht mehr zu verwenden, weil
Gelierung aufgetreten war.
Claims (2)
1. Verwendung von N-Nitrosodiarylaminen der
allgemeinen Formel
IO
wobei R1 und R2 unabhängig voneinander ein
Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen, eine Phenylgruppe, ein Halogenatom,
eine Methoxygruppe, eine Athoxygruppe, eine Dimethylaminogruppe oder eine Diäthylaminogruppe
sowie R3 und R1 unabhängig voneinander ein
Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe mit I bis 9 Kohlenstoffatomen, eine Cyclohexylgruppe, eine
Phenylgruppe, ein Halogenatom, eine Methoxygruppe, eine Athoxygruppe, eine Dimethylaminogruppe
oder eine Diäthylaminogruppe bedeuten, als Stabilisatoren für lagerfähige photopolymerisierbare Massen
aus einer bekannten mehrfach ungesättigten photopolymerisierbaren Verbindung, üblichen Photosensibilisatoren
und gegebenenfalls üblichen Zusätzen. JO
2. Verwendung von N-Nitrosodiarylaminen nach Anspruch I in einer Menge von 0,003 bis 0,1 Gew.-°/o,
bezogen auf die photopolymerisierbare Masse.
Die Erfindung betrifft die Verwendung von bestimmten im Anspruch 1 näher definierten N-Nitrosodiarylaminen
als Stabilisatoren für lagerfähige photopolymerisierbare Massen, die aus einer bekannten mehrfach
ungesättigten photopolymerisierbaren Verbindung, üblichen Photosensibilisatoren und gegebenenfalls üblichen
Zusätzen bestehen, wie sie beispielsweise in der GB-PS 13 14 556 oder der US-PS 36 57 088 beschrieben
sind.
Photopolymerisierbare Massen, welche eine photopolymerisierbare, mehrfach äthylenisch ungesättigte
Verbindung als Hauptkomponente sowie einen Photosensibilisator zum Beschleunigen der Photopolymerisation
und gegebenenfalls übliche Zusätze aufweisen, werden in weitem Umfang z. B. für Farben, Druckplattenmaterial
verwendet, wobei es wesentlich ist, daß die photopolymerisierbaren Massen mittels aktinischer
Strahlung gehärtet werden können. Die ungesättigte photopolymerisierbare Verbindung, welche in aller
Regel auch thermisch polymerisierbar ist, kann möglicherweise unbeabsichtigt hohen Temperaturen ausgesetzt
werden, da sie häufig durch eine bei hoher Temperatur erfolgende chemische Reaktion hergestellt
wird. Häufig werden photopolymerisierbare Massen der beschriebenen Art in bestimmten Verfahrensstufen
starken mechanischen Scherbehandlungen ausgesetzt, indem nämlich beispielsweise eine photopolymerisierbare
Masse der beschriebenen Art durch Kneten zubereitet wird. Weiterhin hat die ungesättigte Verbindung
die Tendenz, beim Lagern selbst bei normaler Umgebungstemperatur von selbst thermisch zu polyme-
40
45
50
55
b0
b5 risieren. Dementsprechend steigt die Viskosität der
ungesättigten Verbindung oder der photohärtbaren Masse in einem derartigen Ausmaß an, daß die
photohärtbare Masse nur noch schwierig anzuwenden ist, wobei im ungünstigsten Fall sogar eine Gelierung
eintreten kann. Um dieser Schwierigkeit zu begegnen, ist es allgemein üblich, der photohärtbaren Masse einen
die Polymerisation durch freie Radikale verhindernden Inhibitor zuzusetzen, beispielsweise in Form von
Hydrochinon, p-Benzochinon,
p-Methoxyphenol, Pyrogallol,
terL-Butylkatechol, ^-Naphthol,
3,5-tert-Butylhydroxytoluol
(nachfolgend als BHT bezeichnet),
(nachfolgend als BHT bezeichnet),
2.2'-Dimethyl-5.5'-di-tert-butyl-4.4'-dihydroxyphenyl-thioäther
(nachfolgend als WXR bezeichnet),
(nachfolgend als WXR bezeichnet),
2.6-Di-tert-butyl-4-methylphenol.
Das Hinzufügen des Polymerisationsinhibitors ermöglicht es, die Herstellung glatt durchzuführen und die mögliche Lagerzeit bei normaler Temperatur zu verlängern.
Das Hinzufügen des Polymerisationsinhibitors ermöglicht es, die Herstellung glatt durchzuführen und die mögliche Lagerzeit bei normaler Temperatur zu verlängern.
Wenn jedoch der bekannte Polymerisationsinhibito'·,
der auf der Basis freier Radikale arbeitet, einer photohärtbaren Masse in einem Ausmaß zugesetzt wird,
welches ausreicht, um die thermische Polymerisation vollständig zu unterdrücken, oder aber in einem
derartigen Ausmaß, daß die Lagerzeit in praktisch zufriedenstellender Weise ausgedehnt wird, so wird die
Photopolymerisationsreaktion ebenfalls unterdrückt, so daß zur Photopolymerisierung in unerwünschter Weise
eine intensivere aktinische Strahlung oder aber eine verlängerte Bestrahlungszeit erforderlich werden.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, bei photohärtbaren Massen der beschriebenen Art thermische
Polymerisationserscheinungen, insbesondere solche, die von selbst bei Raumtemperatur ablaufen,
praktisch vollständig auszuschließen, wobei die photohärtbaren Massen eine ausgezeichnete Stabilität gegenüber
thermischer Polymerisation aufweisen sowie sehr gut lagerfähig sein sollen.
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe durch die Verwendung nach dem Hauptanspruch gelöst. Eine
besonders bevorzugte Ausführungsform der Erfindung ergibt sich aus dem Unteranspruch.
Die erfindungsgemäße Verwendung gewährleistet eine ausgezeichnete Lagerfähigkeit und Widerstandsfähigkeit
der photopolymerisierbaren Massen gegen thermische Polymerisation. Die Photosensibilität ist
hervorragend, wobei weiterhin gewährleistet ist, daß die photohärtbaren Massen sowohl in Lösung als auch in
festem Zustand verwendet werden können. Auch dann, wenn in der erfindungsgemäßen Art stabilisierte
photohärtbare Massen intensiv geknetet oder durchmischt werden, wodurch eine homogene, feste Substanz
erhalten werden kann, lassen sich die photohärtbaren Massen selbst nach langer Lagerzeit noch befriedigend
anwenden.
Sind R1, R«, R3 und R4 bei dem erfindungsgemäß
verwendbaren N-Nitrosodiarylamin sämtlich jeweils ein Wasserstoffatom, so handelt es sich um N-Nitrosodiphenylamin.
Wie bekannt ist, wird N-Nitrosodiphenylamin in großem Umfang beim Vulkanisieren von
Kautschuk in einem bestimmten Verfahrensschritt verwendet, um eine vorzeitige Vulanisierung zu
vermeiden. Das Phänomen der vorzeitigen Vulkanisierung besteht darin, daß vor dem Gießen oder Formen
eine Vernetzungsreaktion während des Knetens oder
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10601374A JPS5729692B2 (de) | 1974-09-17 | 1974-09-17 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2541133A1 DE2541133A1 (de) | 1976-03-25 |
DE2541133B2 true DE2541133B2 (de) | 1980-05-29 |
Family
ID=14422767
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2541133A Withdrawn DE2541133B2 (de) | 1974-09-17 | 1975-09-16 | Verwendung von N-Nitrosodiarylaminen als Stabilisatoren für photopolymerisierbare Massen |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4188222A (de) |
JP (1) | JPS5729692B2 (de) |
DE (1) | DE2541133B2 (de) |
GB (1) | GB1528031A (de) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54121802A (en) * | 1978-03-13 | 1979-09-21 | Tokyo Ouka Kougiyou Kk | Photosensitive printing plate |
US4245031A (en) | 1979-09-18 | 1981-01-13 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photopolymerizable compositions based on salt-forming polymers and polyhydroxy polyethers |
US4291115A (en) | 1979-09-18 | 1981-09-22 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Elements and method which use photopolymerizable compositions based on salt-forming polymers and polyhydroxy polyethers |
US4306012A (en) * | 1979-12-05 | 1981-12-15 | Hercules Incorporated | Process of radiation and heat treatment of printing medium |
US4416974A (en) * | 1979-12-05 | 1983-11-22 | Hercules Incorporated | Radiation curable ceramic pigment composition |
US4308338A (en) | 1980-03-26 | 1981-12-29 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Methods of imaging photopolymerizable materials containing diester polyether |
CA1224811A (en) * | 1983-04-11 | 1987-07-28 | James R. Butler | Polymerization inhibition process for vinyl aromatic compounds |
JPH037517Y2 (de) * | 1984-10-29 | 1991-02-25 | ||
JPS61254605A (ja) * | 1985-05-07 | 1986-11-12 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 感光性組成物 |
DE3630993A1 (de) * | 1986-09-11 | 1988-03-17 | Siemens Ag | Stabilisierte loesungen von photopolymeren |
JPH01182845A (ja) * | 1988-01-13 | 1989-07-20 | Toyobo Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
US5034156A (en) * | 1988-04-18 | 1991-07-23 | Mallinckrodt Specialty Chemicals Company | Method for inhibiting the polymerization of acrylic acid |
EP0428342B1 (de) * | 1989-11-13 | 1997-01-15 | LOCTITE (IRELAND) Ltd. | Stabile Thiol/ene-Zusammensetzungen |
EP0484054A1 (de) * | 1990-10-30 | 1992-05-06 | LOCTITE (IRELAND) Ltd. | Stabilierte Thiol-ene-Zusammensetzungen |
US5208281A (en) * | 1991-02-05 | 1993-05-04 | Loctite Corporation | Stabilization of thiolene compositions |
US5399624A (en) * | 1990-12-21 | 1995-03-21 | Loctite Corporation | High purity resins for thiol-ene polymerizations and method for producing same |
US5814695A (en) * | 1995-09-08 | 1998-09-29 | General Electric Company | Silicone molding compositions having extended useful life |
CN1105806C (zh) | 1998-02-23 | 2003-04-16 | 花王株式会社 | 纸浆模制品的制造方法 |
JP2000066391A (ja) * | 1998-08-17 | 2000-03-03 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | サンドブラスト用感光性組成物及びそれを用いた感光性フィルム |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE630740A (de) * | 1962-04-09 | |||
US3267132A (en) * | 1964-06-22 | 1966-08-16 | Monsanto Co | Nitroso compounds as inhibitors of polymerization of unsaturated nitriles |
DE1522444B2 (de) * | 1967-03-10 | 1977-07-07 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Polymerisationsinhibitor enthaltendes lichtvernetzbares gemisch |
US3619392A (en) * | 1968-08-10 | 1971-11-09 | Bayer Ag | Process for the curing of molding and coating masses based on unsaturated polyesters and copolymerizable monomeric compounds by electron radiation and additionally containing phosphines, arsines and stibines |
US3853728A (en) * | 1972-12-20 | 1974-12-10 | Grace W R & Co | Photocurable polishing wax containing a polyene-polythiol resin |
US3901705A (en) * | 1973-09-06 | 1975-08-26 | Du Pont | Method of using variable depth photopolymerization imaging systems |
JPS532361B2 (de) * | 1974-02-23 | 1978-01-27 | ||
US3885964A (en) * | 1974-05-31 | 1975-05-27 | Du Pont | Photoimaging process using nitroso dimer |
-
1974
- 1974-09-17 JP JP10601374A patent/JPS5729692B2/ja not_active Expired
-
1975
- 1975-09-15 US US05/613,625 patent/US4188222A/en not_active Expired - Lifetime
- 1975-09-16 DE DE2541133A patent/DE2541133B2/de not_active Withdrawn
- 1975-09-16 GB GB38100/75A patent/GB1528031A/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2541133A1 (de) | 1976-03-25 |
JPS5729692B2 (de) | 1982-06-24 |
JPS5134002A (de) | 1976-03-23 |
GB1528031A (en) | 1978-10-11 |
US4188222A (en) | 1980-02-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2541133B2 (de) | Verwendung von N-Nitrosodiarylaminen als Stabilisatoren für photopolymerisierbare Massen | |
DE1769854C3 (de) | Photoinitiatoren und Verfahren zur Photopolymerisation | |
DE2207209C3 (de) | Neue photopolymerisierbare Gemische für lichtempfindliche, Reliefbilder liefernde Aufzeichnungsschichten | |
EP0638547B1 (de) | Neue urethangruppenhaltige (Meth)Acrylate | |
EP0262629B1 (de) | Photopolymerisierbare Aufzeichnungsmasse, insbesondere zur Herstellung von Druckplatten und Reliefformen | |
EP0343470A2 (de) | Alkenylphosphon- und -phosphinsäureester, Verfahren zu ihrer Herstellung und durch Strahlung polymerisierbares Gemisch, das diese Verbindungen enthält | |
DE3789464T2 (de) | Lactonacrylat mit Carboxyl als Endgruppe. | |
EP0062839A1 (de) | Acylphosphinverbindungen und ihre Verwendung | |
EP0141110A2 (de) | Photopolymerisierbare Mischungen, enthaltend tertiäre Amine als Photaktivatoren | |
DE2522756A1 (de) | Photopolymerisierfaehige gemische | |
DE69738250T3 (de) | Durch Photostereographie hergestelltes, dreidimensionales Objekt und die Harzzusammensetzung zu seiner Herstellung | |
DE2612132B2 (de) | Durch Strahlung und Wärme härtbare Formmassen auf der Grundlage von Melaminverbindungen | |
DE2044233C3 (de) | Photopolymerisierbare Verbindungen | |
DE2613098A1 (de) | Durch strahlung und waerme haertbare formmassen auf der grundlage ungesaettigter polyester | |
DE69520451T2 (de) | Vernetzbare zusammensetzungen für die beschichtung von substraten und verfahren zur beschichtung mit diesen zusammensetzungen | |
DE2733038A1 (de) | Durch bestrahlen haertbare ueberzugszusammensetzungen | |
DE3544204C2 (de) | ||
DE2102382B2 (de) | Photopolymerisierbare, polyurethanformmassen einschliesslich ueberzugsmassen und klebemittel | |
DE1694149C2 (de) | Polyester-Form- und Überzugsmassen | |
DE2150769B2 (de) | Härtbare Mischung aus polymerisierbaren Verbindungen | |
DE2706358A1 (de) | Photopolymerisierbare masse | |
DE68905900T2 (de) | Haertungsverbessernde zusammensetzung, methode fuer das haerten mit dieser zusammensetzung und verfahren zur herstellung von glasfaserverstaerktem kunststoff. | |
EP0406683A2 (de) | Durch Strahlung polymerisierbares Gemisch und dieses enthaltendes Aufzeichnungsmaterial | |
DE2507356C3 (de) | Photohärtbare Harzmassen | |
DE1224488B (de) | Stabilisatoren fuer die Lagerstabilitaet von Polyester-Formmassen |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8239 | Disposal/non-payment of the annual fee |