DE2507995A1

DE2507995A1 - Verfahren zur galvanischen herstellung einer giess- oder schaeumform

Info

Publication number: DE2507995A1
Application number: DE19752507995
Authority: DE
Inventors: Christoph Kugel
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 1975-02-25
Filing date: 1975-02-25
Publication date: 1976-08-26

Description

Verfahren zur galvanischen Gieß- oder Schäumform Die Erfindung betrifft die Herstellung von mehrteiligen Formen auf galvanischem Wege, wobei diese Formen direkt zur Herstellung von Gießliegen oder aber als Hilfsmittel zum Erstellen oder Bearbeiten weiterer Formen dienen.
Die Erfindung vereinfacht die zur Herstellung solcher Formen bisher notwendigen Arbeitsgänge, setzt die Anzahl der benötigten Hilfsmittel herab und ermöglicht eine kürzere Herstellzeit.
Es ist bekannt, daß Formen nur Erstellung von Schäumlingen auf galvanischem Wege erzeugt werden. Ebenso ist bekannt, daß Galvanoschalen zur Bearbeitung von Formen Verwendung finden. Weiterhin ist bekannt, daß auf nichtleitende Werkstoffe Leitschichten aufgetragen werden, die nachfolgend galvanische beschichtet werden.
Allerdings wird zum Herstellen zwei- oder mehrteiliger Formen entweder für jedem Formenteil ein extra Modell benötigt, oder aber muß ein Modell nacheinander zur Erzeugung der einzelnen Formenteile verwendet werden. Es müssen also entweder mehrere Modelle bereitstehen, oder es entsteht durch mehrfache Verwendung eines Modells eine zeitliche Verzögerung. Um zum Gießen oder Schäumen die Form exakt zusammensetzen zu können, ist im allgemeinen eine Bearbeitung der Trennflächen notwendig.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, mit nur einem Modell gleichzeitig mehrere Formteile galvanisch herzustellen, wobei eine Bearbetiung der faßfläche entfallen kann.
Die Aufgabe wird dadurch gelöst, daß die als Trennschicht wirkende, zur Galvanisierung notwendige Leitschicht von beiden Seiten aufgalvanisiert wird.
Da die Formteile nur durch eine Leitschicht mit einer Schichtstärke von wenigen 1/100 Millimetern getrennt sind, passen sie genau zusammen. Es werden also z.B.
bei einer zweiteiligen Form gleichzeitig Ober- und Unterteil der Form auf nur 1 Modell aufgalvanisiert.
Die Erfindung vereinfacht die zur Herstellung von Gieß-oder Schäumformen bisher notwendigen Arbeitsgänge, setzt die Anzahl der benötigten Hilfsmittel herab und ermöglicht eine kürzers Herstellzeit. Damit verbunden sind geringere kosten zur Herstellung solcher Formen. Die Formen sind gleichermaßen gegeignet zum Gießen oder Verschäumen von Kunststoffen und Gießen niedrigsschmelzender Metalle, insbesondere Zinn, Blei und deren Legierungen.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung ist in der Zeichnung dargestellt und wird im folgenden näher beschrieben. Die Figuren 1 bis 5 zeigen verschiedene Stadien des erfindungsgemäßen Verfahrens.
Fig. 1: das Modell 1 wird samt Anguß 2 bis zur Trennebene 3 in eine Einbettm-Rsse. 4 eingebettet. Als Sinbettmassen sind Kunstharze, insbesondere aber Silikonkautschuke geeignet. In dieser Einbettmasse wird eine Zentriervorrichtung 5 angebracht in der Weise, daß aus der Einbettmasse die Form eines Schlosses herausgeschnitten wird.
Fig. 2: Nun wird auf das Modell und auf die Einbettmasse in der Trennebene eine elektrisch leitende Schicht 6 aufgebracht. Dies geschieht z.B. durch Besprühen oder Bepinseln mit Silberleitlack Fig. 3: Auf diese Leitschicht 6 wird eine dünne Galvanoschale 7 ( z.B. aus Nickel oder Kupfer ) aufgalvanisiert. Diese Galvanoschale gibt der Leitschicht Halt und Steifigkeit. Je nach Große des Modells mui3 sie zu diesem Zweck ca. 0,3 - 1,5 mm stark sein.
Fi,. 4: Nach dem Aufbringen einer solchen Stützschale wird die Einbettmasse von der Galvanoschale und vom Modell entfernt. Das Modell bleibt in der Galvanoschale. Auf der Unterseite des Modells wird ebenfalls eine Leitschicht 'R aufgebracht, die Leitschicht in der Trennebene wird notfalls ausgebessert, da nur dann eine Verbindung der oberen Schale mit der unteren vermieden werden kann, wenn die Trennschicht intakt ist.
Fig. 5: Nun kann das Galvanisieren der Unterseite von Modell und Trennebene erfolgen, bis die gewünschte Schichtdicke vorhanden ist. Eine gleichmäßige Schichtdicke der Oberen Galvanoschale 9 und der Unteren Galvanoschale 10 läßt sich während des Galvanisierprozesses durch zeitweiliges Abdecken der oberen Schicht, durch Anbringen von Blenden oder durch geeignete Anordnung der Anoden erreichen.

Claims

Patentansprüche

1. Verfahren zum Herstellen einer galvanischen Gieß- oder Schäumforin, dadurch gekennzeichnet, daß die zur Galvanisiebung notwendige Leitschicht von beiden Seiten galvanisch beschichtet wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1., gekennzeichnet durch folgende Verfahrensschritte: 1) Einbettung von Modell und Gie3er bis zur Trennlinie 2) Aufbringen einer Leitschicht 3) Vorgalvanisieren dieser Leitschicht 4) Entfernen der Einbettung, Vervollständigen der Leitschicht 5) Endgültige Galvanisierung

3. Verfahren nach Anspruch 1. oder 2., dadurch gekennzeichnet, daß notwendige Zentriervorrichtungen bereits in der Einbettung des Modells angebracht und mitgalvanisiert werden.