DE2506425C2 - Hohlleiter/Microstrip-Übergang - Google Patents
Hohlleiter/Microstrip-ÜbergangInfo
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Description
Die Erfindung betrifft einen Hohlleiter/Microstrip-Übergang mit einem in einer Symmetrieebene innerhalb
des Hohlleiters parallel zu den elektrischen Feldlinien angeordneten, sich in Wellenfortpflanzungsrichtung
längserstreckenden gemeinsamen Substrat für einen Microstrip-Leitungs-Abschnitt und einem damit gekoppelten
Leitungs-Abschnitt einer symmetrischen Streifenleitung, deren Streifenleiter auf den beiden
großflächigen Substratseiten an ihren freien Enden dipolartig in einander entgegengesetzten Richtungen
nach gegenüber liegenden Hohlleiterwandungen hin
weggeführt sind.
Eine derartige Mikrowellenanordnung, bei der die symmetrische Leiterstruktur eine halbwegs zwischen
den Hohlleiterwandteilen angeordnete Dipolantenne ist ist aus der US-PS 35 18 579 bekannt Die Praxis hat
gezeigt, daß die in dieser Patentschrift beschriebene Mikrowellenanordnung
ziemlich schmalbandig ist und daß bei Energieübertragung von der Mikrostripleiterstruktur
auf die Hohlleiterstruktur eine bedeutende Reflexion auftritt
Aus der DE-OS 21 62 196 ist ein Übergang zwischen einer unsymmetrischen Bandleitung und einem Hohlleiter
bekannt Die Bandleitung besteht aus einem Streifen aus dielektrischem Material, auf dessen einer Seite ein
schmaler, streifenförmiger Leiter und auf dessen anderer Seite ein großflächiger Masseleiter aufgebracht ist
Zur Kopplung des Hohlleiters mit der unsymmetrischen Bandleitung ist das Ende des Masseleiters mit einem
Schlitz versehen und sind der Schlitz bzw. der streifenförmige Leiter derart gekrümmt daß sich Schlitz und
streifenförmiger Leiter annähernd rechtwinklig überlappen.
Die Erfindung hat die Aufgabe, einen Hohlleiter/Microstrip-Übergang
der eingangs genannten Art so auszugestalten, daß eine gute Anpassung zwischen der Microstrip-Leiterstruktur
und der Hohlleiterstruktur breitbandig verwirklicht wird, wobei die Energieübertragung
in beiden Richtungen optimal ist.
Diese Aufgabe wird durch die im Kennzeichen des Hauptanspruches angegebenen Merkmale gelöst.
Der Erfindung liegt die Erkenntnis zugrunde, daß die mangelhafte Energieübertragung von der Microstrip-Leiterstruktur
auf die Hohlleiterstruktur der aus der US-Patentschrift bekannten Mikrowellenanordnung
der Tatsache zuzuschreiben ist, daß die Microstripstruktur im Prinzip eine asymmetrische und die Hohlleiterstruktur
eine symmetrische Wellenleiterstruktur ist. Infolgedessen wird ohne die erfindungsgemäße Maßnahme
50% der in der Microstripstruktur vorhandenen Energie bei der Übertragung auf die Hohlleiterstruktur
zum Übergang Microstrip-Hohlleiter reflektiert.
Ein besonders vorteilhaftes Ausführungsbeispiel nach der Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, daß die dipolartig
in Richtung auf die Hohlleiterwandungen hin weggeführten Streifenleiter (27, 28) des symmetrischen
Leitungsabschnittes bis zum Substratrand reichen und hochfrequenzmäßig mit den angrenzenden Hohlleiterwandungen
verbunden sind, wobei die Streifenleiterbreite zu den Enden der Streifenleiter hin stetig zunimmt
Der Vorteil dabei ist, daß durch die erwähnten sich aufweitenden Leiter eine allmähliche Feldverdrehung
und Anpassung erhalten wird, was eine große Bandbreite zur Folge hat und wodurch eine weniger kritische
Bemessung bzw. Positionierung erhalten wird, so daß die Anordnung leicht reproduzierbar ist.
Die Erfindung und ihre Vorteile werden anhand der in den Figuren dargestellten Ausführungsbeispiele näher
erläutert, wobei entsprechende Teile in den verschiedenen Figuren mit den gleichen Bezugsziffern bezeichnet
sind. Es zeigt
F i g. 1 eine perspektivische Darstellung einer erfindungsgemäßen Mikrowellenanordnung, wobei der
Deutlichkeit der Zeichnung halber die verschiedenen Einzelteile, aus denen die Anordnung zusammengesetzt
ist, getrennt dargestellt sind,
F i g. 2 eine Ansicht der Mikrowellenanordnung nach dem in F i g. 1 dargestellten Querschnitt A-A,
F i g. 3 eine Ansicht der Mikrowellenanordnung nach dem in F i g. 1 dargestellten Querschnitt B-B.
Die in F i g. 1 dargestellte Mikrowellenanordnung enthält einen rechteckigen Wellenleiter, dttr durch Fräsen
aus zwei Blöcken leitenden Materials 1 und 2 erhalten worden ist Die in der F i g. 1 sichtbaren Flächen
dieser Blöcke 1 und 2, die die Wände des Hohlleiters bilden, sind mit 3,4 und 5 bezeichnet
Die Trennfläche zwischen den Blöcken 1 und 2 wird
durch eine Symmetrieebene des Hohlleiters gebildet, die zu den elektrischen Feldlinien und der Längsachse
des Hohlleiters parallel verläuft
In der Symmetrieebene ist ein Substrat 6 aus zum Beispiel dielektrischem oder gyromagnetischem Material
angeordnet, das in montiertem Zustand der Anordnung zwischen den Blöcken 1 und 2 festgeklemmt wird.
Insbesondere wird das Substrat 6 zwischen den Rändern 7 und 8 und den Vorsprüngen 9 und 10 eingeklemmt.
Die Ränder 7 und 8 bilden in V« bindung mit den Vorsprüngen 9 und 10 Rillen, die sich an der der
Unter- und Oberwand 19 und 20 des Hohlleiters zugewandten Seite durch die Ränder 11, 12, 13 und 14
sprunghaft aufweiten und an der gegenüberliegenden Seite durch die Vorsprünge 15 und 16, die in die Ränder
17 und 18 passen, in montiertem Zustand abgeschlossen sind.
Zur Erläuterung der gegenseitigen Lagen, die die Blöcke 1 und 2 und das Substrat 6 in montiertem Zustand
in bezug aufeinander einnehmen, sind in der F i g. 1 mehrere gestrichelte Linien gezogen, an denen
entlang die Teile beim Montieren der Anordnung aufeinander zugeschoben werden müssen.
Das Substrat 6 ist an beiden Seitenflächen mit einem Leitermuster versehen, welche beiden Muster durch
Aufdampfen von Metall oder durch Abätzen ursprünglich die beiden Seitenflächen völlig bedeckender Metallschichten
erhalten werden. Diese Leitermuster werden anhand der in den F i g. 2 und 3 dargestellten Ansichten
der in der Fig. 1 dargestellten Querschnitte A-A und
B-B näher erläutert In diesen Figuren sind an den Vorderseiten des Substrats 6 liegende Leitermuster mit
durchgezogenen Linien und an der Rückseite liegende Leitermuster durch gestrichelte Linien dargestellt. Weiter
sind die Stellen der Ränder 11,12,13 und 14 und die Unter- und Oberwand 19 und 20 des Hohlleiters, die sich
alle hinter dem Substrat befinden, durch strichpunktierte Linien dargestellt.
Die Leitermuster enthalten eine an eine<· Seite des
Substrats 6 angeordnete, sich zwischen der Unter- und Oberwand 19 und 20 des Hohlleiters erstreckende leitende
Grundplatte 21. Diese Grundplatte 21 bildet zusammen mit dem an der gegenüberliegenden Seite halbwegs
zwischen der Unter- und Oberwand !9 und 20 angeordneten streifenförmigen Leiter 22 eine Microstripleiterstruktur.
Diese Microstripleiterstruktur erstreckt sich in F i g. 2 weiter nach links und in F i g. 3
weiter nach rechts, wobei der streifenförmige Leiter 22 jede beliebige Form besitzen kann. Hierbei sei bemerkt,
daß die Microstripleiterstruktur in der Verlängerung des Hohlleiters liegen kann, oder daß der Hohlleiter
nicht in den erwähnten Richtungen verlängert ist und sich die Microstripleiterstruktur außerhalb des Hohlleiters
fortsetzt, oder daß die Unter- und Oberwand 19 und 20 mit einem breiten Schlitz versehen sind, durch den
sich die Microstripleiterstruktur nach außen erstreckt.
Es stellt sich das Problem, die Microstripleiterstruktur möglichst optimal mit der I'5ohlleiterstruktur zu koppeln.
Erfindungsgemäß wird diese optimale Kopplung dadurch erhalten, daß ein zum Beispiel in diesem Ausführungsbeispiel
halbwegs zwischen der Unter- und Oberwand 19 und 20 des Hohlleiters auf dem Substrat 6 in
der Längsrichtung des Hohlleiters angeordneter Bandleiter angeordnet ist der die Leiter 23 und 24 enthält
und an einem Ende über einen symmetrisch-asymmetrischen Transformator, der durch die an beiden Seiten des
Microstripleiters 22 in der Grundfläche 21 angeordne-
ten Schlitze 25 und 26 und durch die zwischenliegenden Leiterteile 21 und 22 gebildet wird, mit der Microstripleiterstruktur
21 und 22 verbunden ist. Weiter ist am anderen Ende des Bandleiters der Leiter 23 mit Hilfe
eines auf dem Substrat angeordneten ersten sich aufweitenden Leiters 27 mit der Unterwand 19 des Hohlleiters
und der Leiter 24 über einen zweiten sich aufweitenden Leiter 28 mit der Oberwand des Hohlleiters für
HF-Energie leitend verbunden, wobei in diesem Ausführungsbeispiel die Leiter 27 und 28 in bezug auf die
Mittellinie des Bandleiters spiegelbildlich sind. Hierbei sei bemerkt, daß der Bandleiter 23,24 nicht zur Unter-
und Oberwand des Hohlleiters parallel zu laufen braucht und in jedem beliebigen Abstand von diesen
Wänden liegen kann. Bei einer Lage des Bandleiters, die von der in den Figuren dargestellten Lage abweicht,
muß auch die Form der sich aufweitenden Leiter 27 und 28 angepaßt werden, und sie sind einander dabei nicht
länger spiegelbildlich.
Die für HF-Energie leitende Verbindung zwischen den Leitern 27 und 28 und der Unter- und Oberwand 19
und 20 des Hohlleiters ist mit Hilfe eines Rechteckzahn-Kammes verwirklicht. Es sind also zahnförmige Leiterkämme
29, deren Zahnhöhe ungefähr ein Viertel der Wellenlänge der Arbeitsfrequenz der Anordnung beträgt.
Diese zahnförmigen Leiterkfimme 29 liegen in montiertem Zustand mit den Zähnen in den Rillen, wobei
- durch eine mit Hilfe der Ränder 11,12,13 und 14
erhaltene Aufweitung der Rillen und eine größere Rillentiefe als die Höhe der Zähne — vermieden wird, daß
die Leiterkämme 29 mit den Blöcken 1 und 2 galvanisch
kontaktieren. Die Zähne der Leiterkämme 29 bilden -j
Transformatoren, die an einer Seite offen sind. Dies bedeutet, daß sie an der Stelle der Unter- und Oberwand
19 und 20 des Hohlleiters einen Kurzschluß bilden. Dieser Aufbau bewirkt, daß auch bei Abweichungen von
der idealen Montageaufstellung des Substrats 6 im Hohlleiter ein guter HF-Kontakt gewährleistet ist.
Es sei bemerkt daß auch andere bauliche Konstruktionen angewandt werden können, wie ein zwischen Unter- und Oberwand eines ungeteilten Hohlleiters geklemmtes Substrat, wobei die erwähnten leitenden Verbindungen durch Löten erhalten werden, oder daß die Ränder 11, 12, 13 und 14 fortgelassen werden und eine ungezahnte Leiterkonfiguration 29 angewandt wird, wobei die leitenden Verbindungen durch das Anliegen der Leiter 29 an den Wänden der Rillen erhalten werden, obgleich diese Lösungen nicht ideal sind.
Es sei bemerkt daß auch andere bauliche Konstruktionen angewandt werden können, wie ein zwischen Unter- und Oberwand eines ungeteilten Hohlleiters geklemmtes Substrat, wobei die erwähnten leitenden Verbindungen durch Löten erhalten werden, oder daß die Ränder 11, 12, 13 und 14 fortgelassen werden und eine ungezahnte Leiterkonfiguration 29 angewandt wird, wobei die leitenden Verbindungen durch das Anliegen der Leiter 29 an den Wänden der Rillen erhalten werden, obgleich diese Lösungen nicht ideal sind.
Die Wirkungsweise der Anordnung ist wie folgt: Die
so elektrischen Feldlinien einer im Hohlleiter auftretenden E. M.-Schwingung vom Typ TEio stehen senkrecht auf
der Unter- und Oberwand 19 und 20 des Hohlleiters und liegen somit in der Zeichenebene. Eine derartige
Schwingung weist eine maximale Stärke des elektrisehen Feldes an der Stelle des Substrats auf, so daß
dieses Feld stark mit den Leitern 27 und 28 gekoppelt ist. Bei einer nach den in den Fig.2 und 3 durch eine
Pfeilspitze 30 angegebenen Fortpflanzungsrichtung der
Schwingung verlagern sich die Feldlinien auf den Rändern
der Leiter 27 und 28 zu den Leitern 23 und 24 dadurch, daß diese Leiter durch Halbierung der Hohlleiterbreite
weitere Fortpflanzung im Hohlleiter ausschließen, und die Feldlinien drehen sich dabei aus der Zeichenebene
heraus, bis sie senkrecht auf der Zeichenebene zwischen den Leitern 23 und 24 stehen. Diese Felder
sind dabei durch ihre Richtung nicht mehr mit möglichen Störfeldern im Hohlleiter gekoppelt. Die Feldstruktur
dieser symmetrischen Leiterstruktur 23 und 24 wird in die Feldstruktur der asymmetrischen Leiterstruktur
21, 22 mit Hilfe des Transformators 25, 26,21, 22 umgewandelt. Hierzu muß gleichfalls die Breite des
' Leiters 23 an der Stelle des Transformators auf die des streifenförmigen Leiters 21 herabgesetzt werden, wodurch
die charakteristischen Impedanzen beider Leiterstrukturen einander gleich sind. Durch diese Impedanz
und Feldstrukturanpassung ist eine optimale Kopplung der Bandleiter- mit der Microstripleiterstruktur erhalten,
die sehr wenig Reflexionen in einem breiten Frequenzbereich aufweist, was unter anderem eine Folge
davon ist, daß der Transformator in bezug auf die charakteristische impedanz der beiden erwähnten Leiterstrukturen
eine hohe Impedanz besitzt. Das Anwenden des symmetrisch-asymmetrischen Transformators ist
besonders dann wichtig, wenn HF-Energie der Microstripleiterstruktur 21,22 auf den Hohlleiter übertragen
werden muß, weil beim Fehlen eines derartigen Transformators die Microstripleiterstruktur 21, 22 nicht einwandfrei
abgeschlossen ist, wodurch unerwünschte Reflexionen auftreten.
Die Durchlaßdämpfung und der Reflexionskoeffizient s sind für einen Hohlleiter-Microstripleiterstrukturübergang
in Reihe mit einem identischen Mikrostripleiter-Hohlleiter-Strukturübergang
als Funktion der Frequenz gemessen. Daraus wurde ermittelt, daß die Durchlaßdämpfung im ganzen Frequenzbereich von
17,5 GHz ... 25 GHz kleiner ist als 0,5 dB und daß der
ReP.exionskoeffizient s weniger als 1,22 beträgt. In die
Durchlaßverluste von 0,5 dB ist auch der Verlust aufgenommen, der im Microstripleiter auftritt, der die beiden
erwähnten Obergänge verbindet
Es sei bemerkt, daß auch andere Hohlleiter als rechteckige, wie zum Beispiel runde Hohlleiter angewandt
werden können, insofern in diesen Hohlleitern mit denjenigen Arten von Schwingungen gearbeitet wird, deren
elektrische Feldlinien zu dem Substrat parallel liegen. Das Substrat 6 vergrößert die Kapazität zwischen der
Unter- und Oberwand 19 und 20 des Hohlleiters. Ein Ausgleich dafür kann gefunden werden, wenn die Höhe
des Hohlleiters auf der vollen Substratlänge in Abhängigkeit von der Dicke des Substrats und von der dielektrischen
Konstante größer gewählt wird.
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen
eo
Claims (3)
1. Hohlleiter/Microstrip-Übergang mit einem in
einer Symmetrieebene innerhalb des Hohlleiters parallel zu den elektrischen Feldlinien angeordneten,
sich in Wellenfortpflanzungsrichtung längserstreckenden gemeinsamen Substrat für einen Microstrip-Leitungs-Abschnitt
und einem damit gekoppelten Leitungs-Abschnitt einer symmetrischen Streifenleitung,
deren Streifenleiter auf den beiden großflächigen Substratseiten an ihren freien Enden dipolartig
in einander entgegengesetzten Richtungen nach gegenüber liegenden Hohlleiterwandungen hin
weggeführt sind, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden Streifenleitungsabschnitte über eine
als Symnietriertransformator wirkende Leiterstruktur
miteinander gekoppelt sind, die aus zwei mit gleichem Abstand parallel zum Streifenleiter (22) des
Microstrip-Leitungs-Abschnittes verlaufenden Schlitzen (25,26) im Massebelag (21) der Microstrip-Leitung
besteht, wobei der zwischen den beiden Schlitzen stehende Massebelag der Microstrip-Leitung
in den Belag des einen der beiden Streifenleiter (24) des symmetrischen Streifenleitungsabschnittes
übergeht und wobei eine Impedanzanpassung der beiden gekoppelten Streifenleitungsabschnitte
durch Leiterverbreiterung der Streifenleiter (23, 24) des symmetrischen Streifenleitungsabschnittes an
der Übergangsstelle bewirkt ist
2. Übergang nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die dipolartig in Richtung auf die Hohlleiterwandungen hin weggeführten Streifenleiter
(27, 28) des symmetrischen Leitungsabschnittes bis zum Substratrand reichen und hochfrequenzmäßig
mit den angrenzenden Hohlleiterwandungen verbunden sind, wobei die Streifenleiterbreite zu den
Enden der Streifenleiter hin stetig zunimmt.
3. Übergang nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat (6) zwischen in den Hohlleiterwandungen
angeordneten Rillen eingeklemmt ist und die sich auf dem Substrat zu den Hohlleiterwandungen
erstreckenden Leiter (27, 28) mit einer eingeschnittenen, kammartigen Leiterstruktur (29)
mit einer Tiefe der Einschnitte von ungefähr einem Viertel der Wellenlänge bei der Betriebsfrequenz
verlängert sind, daß die eingesägten kammartigen Leiterstrukturen (29) in den Rillen und isoliert von
der Hohlleiterwandung angeordnet sind, und daß die hochfrequenzmäßige Verbindung des Massebelages
des Microstrip-Leitungs-Abschnittes mit den angrenzenden Hohlleiterwandungen auf die gleiche
Weise vorgenommen ist.
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