DE2454676A1 - Lichtempfindliche harzmassen - Google Patents
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- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims description 34
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 88
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 56
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 50
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 25
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 24
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 claims description 22
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 claims description 22
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 17
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 15
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 13
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 12
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 12
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 claims description 10
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 9
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 8
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 8
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 claims description 8
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O ammonium group Chemical group [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 5
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 3
- 150000001450 anions Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims 1
- 229920006149 polyester-amide block copolymer Polymers 0.000 claims 1
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 63
- -1 hydrocarbon radicals Chemical class 0.000 description 49
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 11
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 10
- 229960005141 piperazine Drugs 0.000 description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 9
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 1,3-propanediol Substances OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- 229940035437 1,3-propanediol Drugs 0.000 description 6
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229940048053 acrylate Drugs 0.000 description 6
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 6
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 6
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 6
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 6
- WOZVHXUHUFLZGK-UHFFFAOYSA-N dimethyl terephthalate Chemical compound COC(=O)C1=CC=C(C(=O)OC)C=C1 WOZVHXUHUFLZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920000166 polytrimethylene carbonate Polymers 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 6
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 5
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 5
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 5
- 125000004202 aminomethyl group Chemical group [H]N([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 239000011260 aqueous acid Substances 0.000 description 5
- KRQQDOJWSDMFEG-UHFFFAOYSA-N deca-2,8-dienediamide Chemical compound NC(=O)C=CCCCCC=CC(N)=O KRQQDOJWSDMFEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 5
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 150000003839 salts Chemical group 0.000 description 5
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 4
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 4
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 4
- VHRGRCVQAFMJIZ-UHFFFAOYSA-N cadaverine Chemical compound NCCCCCN VHRGRCVQAFMJIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N cyclohexylamine Chemical compound NC1CCCCC1 PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 4
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 2-vinylpyridine Chemical group C=CC1=CC=CC=N1 KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 3
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 3
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 3
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PVOAHINGSUIXLS-UHFFFAOYSA-N 1-Methylpiperazine Chemical compound CN1CCNCC1 PVOAHINGSUIXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XAKIZRLIXGLPBW-UHFFFAOYSA-N 1-piperazin-1-ylpropan-2-ol Chemical compound CC(O)CN1CCNCC1 XAKIZRLIXGLPBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PIINGYXNCHTJTF-UHFFFAOYSA-N 2-(2-azaniumylethylamino)acetate Chemical compound NCCNCC(O)=O PIINGYXNCHTJTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSCRXCDDATUDLB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylpropoxymethyl)prop-2-enamide Chemical compound CC(C)COCC(=C)C(N)=O XSCRXCDDATUDLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WMRCTEPOPAZMMN-UHFFFAOYSA-N 2-undecylpropanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(C(O)=O)C(O)=O WMRCTEPOPAZMMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N acetic acid;zinc Chemical compound [Zn].CC(O)=O.CC(O)=O ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 239000002168 alkylating agent Substances 0.000 description 2
- 229940100198 alkylating agent Drugs 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- IMUDHTPIFIBORV-UHFFFAOYSA-N aminoethylpiperazine Chemical compound NCCN1CCNCC1 IMUDHTPIFIBORV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Chemical compound O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GZUXJHMPEANEGY-UHFFFAOYSA-N bromomethane Chemical compound BrC GZUXJHMPEANEGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 2
- 125000002057 carboxymethyl group Chemical group [H]OC(=O)C([H])([H])[*] 0.000 description 2
- 239000012876 carrier material Substances 0.000 description 2
- HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N chloroethane Chemical compound CCCl HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QYQADNCHXSEGJT-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,1-dicarboxylate;hydron Chemical compound OC(=O)C1(C(O)=O)CCCCC1 QYQADNCHXSEGJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960003750 ethyl chloride Drugs 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 150000001261 hydroxy acids Chemical class 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N isopropylamine Chemical compound CC(C)N JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003951 lactams Chemical class 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- UBTYFVJZTZYJHZ-UHFFFAOYSA-N n-[2-(prop-2-enoylamino)propyl]prop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NC(C)CNC(=O)C=C UBTYFVJZTZYJHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 239000004246 zinc acetate Substances 0.000 description 2
- PFTAWBLQPZVEMU-DZGCQCFKSA-N (+)-catechin Chemical compound C1([C@H]2OC3=CC(O)=CC(O)=C3C[C@@H]2O)=CC=C(O)C(O)=C1 PFTAWBLQPZVEMU-DZGCQCFKSA-N 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N (+)-propylene glycol Chemical compound C[C@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- BUPRYTFTHBNSBD-UHFFFAOYSA-N (2,3,4-tribromophenyl) prop-2-enoate Chemical compound BrC1=CC=C(OC(=O)C=C)C(Br)=C1Br BUPRYTFTHBNSBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBKHNGHPZZZJCI-UHFFFAOYSA-N (4-aminophenyl)-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 RBKHNGHPZZZJCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- HCNHNBLSNVSJTJ-UHFFFAOYSA-N 1,1-Bis(4-hydroxyphenyl)ethane Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)C1=CC=C(O)C=C1 HCNHNBLSNVSJTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005208 1,4-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 1,8-diaminooctane Chemical compound NCCCCCCCCN PWGJDPKCLMLPJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQUXFUBNSYCQAL-UHFFFAOYSA-N 1-(2,3-difluorophenyl)ethanone Chemical group CC(=O)C1=CC=CC(F)=C1F PQUXFUBNSYCQAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLEXWQCNANDXAS-UHFFFAOYSA-N 1-(2,5-dimethylpiperazin-1-yl)propan-2-ol Chemical compound CC(O)CN1CC(C)NCC1C KLEXWQCNANDXAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWKVFRNCODQPDB-UHFFFAOYSA-N 1-(2-aminoethylamino)propan-2-ol Chemical compound CC(O)CNCCN CWKVFRNCODQPDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKQMKMVTDKYWOX-UHFFFAOYSA-N 1-[2-hydroxypropyl(methyl)amino]propan-2-ol Chemical compound CC(O)CN(C)CC(C)O XKQMKMVTDKYWOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRNFXVSBBRLMDK-UHFFFAOYSA-N 1-[4-(2-hydroxy-3-methoxypropyl)piperazin-1-yl]-3-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(O)CN1CCN(CC(O)COC)CC1 XRNFXVSBBRLMDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHIJMIBVSIPDAN-UHFFFAOYSA-N 1-[4-(2-hydroxy-3-phenoxypropyl)piperazin-1-yl]-3-phenoxypropan-2-ol Chemical compound C1CN(CC(O)COC=2C=CC=CC=2)CCN1CC(O)COC1=CC=CC=C1 YHIJMIBVSIPDAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOCJQSFSGAZAPQ-UHFFFAOYSA-N 1-chloroanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2Cl BOCJQSFSGAZAPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAYNEUUHHLGGAH-UHFFFAOYSA-N 1-chlorododecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCl YAYNEUUHHLGGAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULZFCCWTGRUSPD-UHFFFAOYSA-N 1-phenyl-3-piperazin-1-ylpropan-2-ol Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC(O)CN1CCNCC1 ULZFCCWTGRUSPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJEGACMQQWBZTP-UHFFFAOYSA-N 1-piperazin-1-ylpropan-2-amine Chemical compound CC(N)CN1CCNCC1 NJEGACMQQWBZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZYASVWWDLJXIM-UHFFFAOYSA-N 2,5-di-tert-Butyl-1,4-benzoquinone Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(=O)C(C(C)(C)C)=CC1=O ZZYASVWWDLJXIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZODKRWQWUWGCD-UHFFFAOYSA-N 2,5-di-tert-butylbenzene-1,4-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(O)=C(C(C)(C)C)C=C1O JZODKRWQWUWGCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCSLWHMUQFZNRA-UHFFFAOYSA-N 2-(6-aminohexylamino)ethanol Chemical compound NCCCCCCNCCO VCSLWHMUQFZNRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJRUAPNVLBABCN-UHFFFAOYSA-N 2-(ethenoxymethyl)oxirane Chemical compound C=COCC1CO1 JJRUAPNVLBABCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGRGEJHAFNAVAS-UHFFFAOYSA-N 2-[(dibutylamino)methyl]-2-methylpropane-1,3-diol Chemical compound CCCCN(CCCC)CC(C)(CO)CO FGRGEJHAFNAVAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMKVHYKZOAEDEV-UHFFFAOYSA-N 2-[(dimethylamino)methyl]butane-1,3-diol Chemical compound CC(C(CO)CN(C)C)O KMKVHYKZOAEDEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDVGDVAQUYLWBY-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(2-hydroxycycloheptyl)piperazin-1-yl]cycloheptan-1-ol Chemical compound OC1CCCCCC1N1CCN(C2C(CCCCC2)O)CC1 SDVGDVAQUYLWBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRYGFOHQVMVHDM-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(carboxymethyl)-3,5-dimethylpiperazin-1-yl]acetic acid Chemical compound CC1CN(CC(O)=O)CC(C)N1CC(O)=O WRYGFOHQVMVHDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZTLRNYNDPZLFM-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(carboxymethyl)-3-methylpiperazin-1-yl]acetic acid Chemical compound CC1CN(CC(O)=O)CCN1CC(O)=O MZTLRNYNDPZLFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOBMEMBAPTUNSO-UHFFFAOYSA-N 2-[aminomethyl(methyl)amino]acetic acid Chemical compound NCN(C)CC(O)=O ZOBMEMBAPTUNSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XWSGEVNYFYKXCP-UHFFFAOYSA-N 2-[carboxymethyl(methyl)amino]acetic acid Chemical compound OC(=O)CN(C)CC(O)=O XWSGEVNYFYKXCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JINGUCXQUOKWKH-UHFFFAOYSA-N 2-aminodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCC(N)C(O)=O JINGUCXQUOKWKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUBNFZFTFXTLKH-UHFFFAOYSA-N 2-aminododecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCC(N)C(O)=O QUBNFZFTFXTLKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RDFMDVXONNIGBC-UHFFFAOYSA-N 2-aminoheptanoic acid Chemical compound CCCCCC(N)C(O)=O RDFMDVXONNIGBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKVBCGQVQXPRLD-UHFFFAOYSA-N 2-aminooctanoic acid Chemical compound CCCCCCC(N)C(O)=O AKVBCGQVQXPRLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWGATWIBSKHFMR-UHFFFAOYSA-N 2-anilinoethanol Chemical compound OCCNC1=CC=CC=C1 MWGATWIBSKHFMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000143 2-carboxyethyl group Chemical group [H]OC(=O)C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- FPKCTSIVDAWGFA-UHFFFAOYSA-N 2-chloroanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3C(=O)C2=C1 FPKCTSIVDAWGFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZIFAVKTNFCBPC-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethanol Chemical compound OCCCl SZIFAVKTNFCBPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHBAYNMEIXUTJV-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl prop-2-enoate Chemical compound ClCCOC(=O)C=C WHBAYNMEIXUTJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWFXBUNENSNBQ-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyacrylic acid Chemical compound OC(=C)C(O)=O FEWFXBUNENSNBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(O)COC(=O)C=C GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UVQPFUJQENDLBN-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-piperazin-1-ylbutan-2-ol Chemical compound CCC(C)(O)CN1CCNCC1 UVQPFUJQENDLBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUIRIPUTKCTCGV-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-piperazin-1-ylpropan-2-ol Chemical compound CC(C)(O)CN1CCNCC1 MUIRIPUTKCTCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQYJHQPVQRPDCY-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-2-(piperidin-1-ylmethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(C)(CO)CN1CCCCC1 BQYJHQPVQRPDCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXQOBTQMLMZFOW-UHFFFAOYSA-N 2-methylhex-2-enamide Chemical compound CCCC=C(C)C(N)=O ZXQOBTQMLMZFOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRJZKSHNBALIGH-UHFFFAOYSA-N 2-piperazin-1-ium-1-ylacetate Chemical compound OC(=O)CN1CCNCC1 WRJZKSHNBALIGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKONEIZKPVUGSO-UHFFFAOYSA-N 3-(2,5-dimethylpiperazin-1-yl)propan-1-amine Chemical compound CC1CN(CCCN)C(C)CN1 JKONEIZKPVUGSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKSSCYRRVNHNDF-UHFFFAOYSA-N 3-(propan-2-ylamino)propanoic acid Chemical compound CC(C)NCCC(O)=O AKSSCYRRVNHNDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDPCJXCPTIIMSV-UHFFFAOYSA-N 3-[2-[(dimethylamino)methyl]-2-methyl-3-propoxypropoxy]propane-1,1-diamine Chemical compound CCCOCC(C)(CN(C)C)COCCC(N)N XDPCJXCPTIIMSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHGCVLMOVTUDBT-UHFFFAOYSA-N 3-[2-carboxyethyl(cyclohexyl)amino]propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCN(CCC(O)=O)C1CCCCC1 KHGCVLMOVTUDBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOHAPDDPDSPUTE-UHFFFAOYSA-N 3-[carboxymethyl(methyl)amino]propanoic acid Chemical compound OC(=O)CN(C)CCC(O)=O ZOHAPDDPDSPUTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSEHHYMPNZWTGQ-UHFFFAOYSA-N 3-piperazin-4-ium-1-ylpropanoate Chemical compound OC(=O)CCN1CCNCC1 RSEHHYMPNZWTGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFLJTEHFZZNCTR-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxypropyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCOC(=O)C=C GFLJTEHFZZNCTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZGZVGZCIFZBNCN-UHFFFAOYSA-N 4,4'-(2-Methylpropylidene)bisphenol Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C(C)C)C1=CC=C(O)C=C1 ZGZVGZCIFZBNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GXDIDDARPBFKNG-UHFFFAOYSA-N 4,4'-(Butane-1,1-diyl)diphenol Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(CCC)C1=CC=C(O)C=C1 GXDIDDARPBFKNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMGVFXHQGJFXJW-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(3-carboxypropyl)piperazin-1-yl]butanoic acid Chemical compound OC(=O)CCCN1CCN(CCCC(O)=O)CC1 UMGVFXHQGJFXJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGVRJVHOJNYEHR-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobenzophenone Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 UGVRJVHOJNYEHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJAUOJTXSQGHIN-UHFFFAOYSA-N 5,6-dichloro-5,6-dimethylcyclohexa-1,3-diene Chemical group CC1(Cl)C=CC=CC1(C)Cl RJAUOJTXSQGHIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 6-(2-methylprop-2-enoyloxy)hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCCCOC(=O)C(C)=C SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLXKOJJOQWFEFD-UHFFFAOYSA-N 6-aminohexanoic acid Chemical compound NCCCCCC(O)=O SLXKOJJOQWFEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HTVITOHKHWFJKO-UHFFFAOYSA-N Bisphenol B Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(CC)C1=CC=C(O)C=C1 HTVITOHKHWFJKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 241000158147 Sator Species 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- BGNXCDMCOKJUMV-UHFFFAOYSA-N Tert-Butylhydroquinone Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(O)=CC=C1O BGNXCDMCOKJUMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZAHJRZBUWYCBM-UHFFFAOYSA-N [1-(aminomethyl)cyclohexyl]methanamine Chemical compound NCC1(CN)CCCCC1 XZAHJRZBUWYCBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKEZSJIWQWVVQR-UHFFFAOYSA-N [2-hydroxy-3-(2-methoxyphenoxy)propyl]-propan-2-ylazanium;chloride Chemical compound Cl.COC1=CC=CC=C1OCC(O)CNC(C)C JKEZSJIWQWVVQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=CC(CN)=C1 FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWMLORGQOFONNT-UHFFFAOYSA-N [3-(hydroxymethyl)phenyl]methanol Chemical compound OCC1=CC=CC(CO)=C1 YWMLORGQOFONNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=C(CN)C=C1 ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXBBUQROEKDHOT-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)-3-methylpiperazin-1-yl]methanol Chemical compound CC1CN(CO)CCN1CO OXBBUQROEKDHOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWVAOONFBYYRHY-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)phenyl]methanol Chemical compound OCC1=CC=C(CO)C=C1 BWVAOONFBYYRHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 229960002684 aminocaproic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- WPKYZIPODULRBM-UHFFFAOYSA-N azane;prop-2-enoic acid Chemical group N.OC(=O)C=C WPKYZIPODULRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 150000004054 benzoquinones Chemical class 0.000 description 1
- KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N benzyl chloride Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1 KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940073608 benzyl chloride Drugs 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- RDHPKYGYEGBMSE-UHFFFAOYSA-N bromoethane Chemical compound CCBr RDHPKYGYEGBMSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- ADRVNXBAWSRFAJ-UHFFFAOYSA-N catechin Natural products OC1Cc2cc(O)cc(O)c2OC1c3ccc(O)c(O)c3 ADRVNXBAWSRFAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000005487 catechin Nutrition 0.000 description 1
- NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N chloro(114C)methane Chemical compound [14CH3]Cl NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N chloroacetic acid Chemical compound OC(=O)CCl FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940106681 chloroacetic acid Drugs 0.000 description 1
- 229950001002 cianidanol Drugs 0.000 description 1
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- CGZZMOTZOONQIA-UHFFFAOYSA-N cycloheptanone Chemical compound O=C1CCCCCC1 CGZZMOTZOONQIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IIRFCWANHMSDCG-UHFFFAOYSA-N cyclooctanone Chemical compound O=C1CCCCCCC1 IIRFCWANHMSDCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQLZOAVZWJBZSY-UHFFFAOYSA-N decane-1,10-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCCN YQLZOAVZWJBZSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FOTKYAAJKYLFFN-UHFFFAOYSA-N decane-1,10-diol Chemical compound OCCCCCCCCCCO FOTKYAAJKYLFFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 125000006264 diethylaminomethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N(C([H])([H])*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- IQIJRJNHZYUQSD-UHFFFAOYSA-N ethenyl(phenyl)diazene Chemical compound C=CN=NC1=CC=CC=C1 IQIJRJNHZYUQSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- NQWGCDYUFHTAMR-UHFFFAOYSA-N ethyl n-(oxiran-2-ylmethyl)-n-prop-1-en-2-ylcarbamate Chemical compound CCOC(=O)N(C(C)=C)CC1CO1 NQWGCDYUFHTAMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000031 ethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N([H])[*] 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- PWSKHLMYTZNYKO-UHFFFAOYSA-N heptane-1,7-diamine Chemical compound NCCCCCCCN PWSKHLMYTZNYKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006017 homo-polyamide Polymers 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004464 hydroxyphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N iodomethane Chemical compound IC INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229940086559 methyl benzoin Drugs 0.000 description 1
- 229940102396 methyl bromide Drugs 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- AEBNSTBDWXUNIE-UHFFFAOYSA-N n'-(3-aminopropyl)hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCNCCCN AEBNSTBDWXUNIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZETYUTMSJWMKNQ-UHFFFAOYSA-N n,n',n'-trimethylhexane-1,6-diamine Chemical compound CNCCCCCCN(C)C ZETYUTMSJWMKNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTSYWKJYFPPRAP-UHFFFAOYSA-N n-(butoxymethyl)prop-2-enamide Chemical compound CCCCOCNC(=O)C=C UTSYWKJYFPPRAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- SXJVFQLYZSNZBT-UHFFFAOYSA-N nonane-1,9-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCN SXJVFQLYZSNZBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- YCNNCJXFNCVEOL-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl ethenesulfonate Chemical compound C=CS(=O)(=O)OCC1CO1 YCNNCJXFNCVEOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N p-cresol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1 IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000575 pesticide Substances 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 238000006552 photochemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- OXNIZHLAWKMVMX-UHFFFAOYSA-N picric acid Chemical compound OC1=C([N+]([O-])=O)C=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O OXNIZHLAWKMVMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002205 piperazine adipate Drugs 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- ULWHHBHJGPPBCO-UHFFFAOYSA-N propane-1,1-diol Chemical compound CCC(O)O ULWHHBHJGPPBCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- FSYKKLYZXJSNPZ-UHFFFAOYSA-N sarcosine Chemical compound C[NH2+]CC([O-])=O FSYKKLYZXJSNPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940047670 sodium acrylate Drugs 0.000 description 1
- MNCGMVDMOKPCSQ-UHFFFAOYSA-M sodium;2-phenylethenesulfonate Chemical group [Na+].[O-]S(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 MNCGMVDMOKPCSQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
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Description
PATENTANWÄLTE
DR.-ING. VON ICRI=ISLER DU.-ING. SCKCNWALD
DR.-li^G. TH. MEYER DR. FUSS DIPL-CSIEM. ALE& VON KüEISLER
DlPL-CKEM. CAROLA KELLER DR..-ING. ICLÖPSCH DIRL-ING. SELTING
5KOLN^DEIChMANNHAUS
Köln, den 18.11.74 AvK/Ax
3? ο y Q b ο L t d ., Ho. 8, Pou jimahamadouri -2-chome,
Kita-ku, Osaka-shi, Osaka-fu (Japan).
Reliefdruckformen können "bekanntlich hergestellt werden,
indem ein lichtempfindliches Material, das aus einer Schicht einer lichtempfindlichen Harzmasse (nachstehend
als "lichtempfindliche Schicht" "bezeichnet) und einem
Träger für die lichtempfindliche Schicht besteht, durch einen Negativ- oder Positivfilm, der transüarente BiId-
mit .aktivern bzw. aktinischem Li,cBt. _ . , ,
bereiche aufweist,/belxcntet wird, wodurcn .die lichtempfindliche
Harzmasse in den "belichteten Bereichen erhärtet und unlöslich wird, und dann die lichtempfindliche
Harzmasse aus den unbelichteten Bereichen durch Auflösen in einem geeigneten Lösungsmittel entfernt wird.
Eine solche lichtempfindliche Harzmasse "besteht im allgemeinen aus einem photopolymerisierbaren
ungesättigten Monomeren, einem in einem geeigneten Lösungsmittel löslichen Polymerisat, das" durch Photopolymerisation
mit dem Monomeren unlöslich wird, einem Photosensibilisator und einem Inhibitor der thermischen
Polymerisation. Die lichtempfindliche Harzmasse, insbesondere das Polymerisat, muß vor der Belichtung in
einem geeigneten Lösungsmittel löslich sein, jedoch nach der Belichtung im gleichen Lösungsmittel unlöslich werden.
Ferner muß das Polymerisat hohe mechanische'Pestig-
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keit haben und darf durch organische Lösungsmittel nach der Photopolymerisation mit dem ungesättigten
Monomeren nicht quellen. Als Polymerisate wurden für diesen Zweck gewisse copolymerisierte Polyester, die in wässrigen Alkalien löslich sind, vorgeschlagen
(japanische Patentveröffentlichungen 19 125/ 1968 und 14, 733/197.2) o Die Verwendung von wässrigen
Alkalien ist jedoch bekanntlich mit Gefahren im Betrieb verbunden und kann Korrosion von Apparaturen verursachen.
Außerdem ergibt sich hierbei häufig ein Verunreinigungsproblem auf Grund der pH-Werte der Abfallösungen.
Die Erfindung stellt sich die Aufgabe, lichtempfindliche
Harzmassen verfügbar zu machen, die vor der Photopolymerisation in Wasser oder ver- ■ \
dünnten wässrigen Säuren, leicht gelöst werden können, nach der Photopolymerisation unlöslich darin sind und
ausgezeichnete mechanische Festigkeit aufweisen.
Gegenstand der Erfindung sind lichtempfindliche Harzmassen, die ein Polymerisat, das ein Stickstoffatom in
Ammoniumsalzform in der Hauptkette oder Seitenkette enthält, ein -photopolymerisierbares ungesättigten
Monomerei und einen Photosensibilisator enthalten.
Die für die Zwecke der Erfindung zu verwendenden Polymerisate, die ein Stickstoffatom in Ammoniumsalzform
in der Hauptkette oder Seitenkette enthalten, können durch die folgende Formel dargestellt werden:
.R1 ' ■
Ι© Θ
R2-N- R„X (A)
l3
509821/1063
Hierin sind R1, R0, R, und R. jeweils Wasserstoffatome
oder substituierte oder unsubstituierte Kohlenwasserstoffreste, wobei wenigstens einer der Reste R1 bis R. eine Polymerkette
darstellt, und X ein Anion ist, das als Gegenion für ein Ammoniumion dient. Bei den Polymerisaten der Erfindung
kann es sich sowohl um Polymerisate im engeren Sinne des Wortes als auch beispielsweise um Polykondensate
handeln. · ;
Die-Polymerisate (A) können hergestellt werden, indem
Polymerisate, die ein basisches Stickstoffatom enthalten und die Formel
R,
I1
R2- N-R5 (B)
haben, in der R1, R2 und R5 jeweils Wasserstoffatome . '
oder substituierte oder unsubstituierte Kohlenwasserstoffreste, .sind,.-,wobei wenigstens einer der Reste R1
bis R~ eine Polymerkette darstellt, mit einer protonischen
Säure, einem Alkylierungsmittel oder einer Epoxyverbindung und einer protonischen Säure umgesetzt werden. Im
einzelnen kommen als Polymerisate (B) Polyester (B-1), Polyamide (B-2) und Viny!polymerisate (B-3), die je ein basisches
Stickstoffatom in der Hauptkette oder Seitenkette
enthalten, infrage. |
Der Polyester (B-1), der ein basisches Stickstoffatom in der
Hauptkette enthält, kann beispielsweise unter Verwendung wenigstens einer der durch die folgenden Formeln wiedergegebenen
Verbindungen hergestellt werdenI ;
(D
R
A-Rf-H-Rl-
A-Rf-H-Rl-
509821/1063
R R'
i-Bl-i-Rl-B .(HD
in denen R und R' für Wasserstoffatome oder Kohlenwasserstoffreste
(vorzugsweise mit 1 bis Io C-Atomen) stehen, R1, R9 und R-, jeweils Alkylenreste (vorzugsweise mit 1
bis 15-C-Atomen) und A und B jeweils eine Gruppe der
Formel -OH, -COOH oder -COOR" (worin R" ein Kohlenwasserstoffrest mit vorzugsweise 1 bis 1o C-Atomen ist) sind.
I Als Beispiele von geeigneten Monomeren (1) seien genannt:
Dicarbonsäuren wie Ν,Ν1-Bis(carboxymethyl)piperazin,
Ν,Ν'-Bis(carboxymethyljmethylpiperazin, N,N'-Bis(carboxymethyl)-2,6-dimethylpiparazin,
Ν,Ν'-Bis(2-carboxyäthyl )piperazin , N,N'-Bis(3-carboxypropyl)piperazin
und N-(2-0arboxyäthyl)-N'-(carboxymethyl)piperazin,
reaktive Derivate wie beispielsweise äie niederen Alkylreste,
die Säurehalogenide bzw. Glykole, z.B. i
Ν,Ν1-Bis(hydroxymethyl)piperatzin, \
N,N'-Bis(hydroxymethyl)methylpiperazin, Ν,Ν1-Bis(2-hydroxypropyl)piperazin,
Ν,Ν'-Bis(2-hydroxypropyl)-2,5-dimethylpiperazin,
N,N'-Bis(2-hydroxyäthyl)-2,5-dimethylpiperazin,
Ν,Ν1-Bis(2-hydroxy-2-methylpropyl)piperazin,
Ν,Ν1-Bis(3-methyl-2-hydroxy-2-methylpropyl)piperazin,
N,N'-Bis(2-hydroxycycloheptyl)piperazin, N,N'-Bis(2~methyl-2-hydroxynonyl)piperazin,
N,N'-Bis(2-hydroxy-3-methoxypropy1)piperazin,
N,N'-Bis(3-phenyl-2-hydroxypropylpiperazin
und N,N'-Bis(3-phenoxy-2-hydroxypropyl)piperazin.
Als Beispiele geeigneter Monomerer (il) seien genannt:
Dicarbonsäuren wie Ν,Ν-Bis (carboxymethyl)methylamin, N,N-Bis(2-carboxyäthyl)cyclohexylamin, N,N-Bis(2-carboxyäthyDmethylamin,
Ν,Ν-Bis(2-carboxyäthyl)isopropylamin und N-Carboxymethyl-N-(2-carboxyäthyl)methylamin,
reaktive Derivate wie beisp.weise die niederen Alkylreste, die Säurehalogenide bzw. Glykol wie Ν,Ν1-Bis(2-hydroxyäthyl)phenylamin,η,N-Bis(2hydroxyäthy1)methylamin,
509821/1063
N,N-Bi s(2-hydroxy-
/ äthyl) cycloh exylamin, N, ET-Bis (2-hydr oxypropyl) amin,
N,N-Bis(2-hydroxypropyl)methylamin und ·ET,ET-Bis (2-hydroxypropyl)isopropylaminο
Als Monomere (III) eignen sich beispielsweise Dicarbonsäuren,ζ.Β.
N,N'-Iiimethyl-]!I,N<-bis(carboxymethyl)äthy-•
lendiamin, li.H'-Dimethyl-N^'-bis (2-carboxyäthyl)äthy~
lendiarain und N,ltf'-Dimethyl-N,N'-bis(;5-carboxypropyl)-hexamethylendiamin,
reaktive Derivate wie beispielsweise die niederen Alkylreste, die Säurehalogenide bzw. Glykole
z.B. ^,N'i-Dimethyl-NjN1-ois(2-hyäroxyäthyl)äthylendiamin,
üi,N'-Dicyclohexyl-Nili'-bis(2-hydroxyäthyl)hexamethylendiamin,
Έ,U'-Diäthyl-N,ET1-bis
(2-hydroxypropyl)äthylendiaQiin, ETjEP-Dibutyl-Er,ETl-bis(2~hyäroxyprop'yl)pentamethylendiatnin
und N,N'-Dime thyl-U,U'-bis(2-hydroxyäthyl)-2,4,4-trimethylhexamethylendiamin.
Die Polyester (B-1), die ein basisches Stickstoffatom
in der Seitenkette enthalten, werden beispielsweise hergestellt durch Verwendung wenigstens einer der durch die
folgenden Formeln wiedergegebenen Verbindungen:
ΠΗο-Ν χΕ^
\a
5 '
5 '
HO-CH2-C-CH2-OH
in denen R^ und r| jeweils Kohlenwasserstoffreste mit vorzugsweise
1 bis 1o C-Atomen bedeuten, die zu einem Rin verknüpft sein können und Ra ein niederer Alkylrest mit vorzugsweise
1 bis 3 C-Atomen oder eine Gruppe der Formel
-CH2-N
(worin Ra und r| die oben genannten Bedeutungen haben)sind.
509821/10 6 3'
Als Monomere (IV) eignen sich beispielsweise Glykole,
z.B. 2-Methyl-2-(N)N--dimethylarainomethyl)-1,3-propandiol,
2-Methyl-2-(N,N~diäthylaminomethyl)-1,3-propandiol,
2-Methyl-2-(N,N-di-n-propylaminometbyl)-1, 3-ρΐΌ-pandiol,
2-Methyl-2-(N,N-di~isopropylaminomethyl)-1,3-propandiol,
2-Methyl-2-(N,N-di-n-butylaminomethyl)-1,3-propandiol,
2-Methyl~2-(:M,N-diisobutylaniinomethyl)-1 »3-propandiol,
2-Methyl-2-piperidinomethyl-1,3-propandiol,
2,2Bis (-N»N~dimethylaminomethyl)-1,3-propandiol und
2,2-BisiN,N~diisopropylaminomethyl)-1,3-propandiol.
Diese Monomeren
können allein oder in Kombination verwendet werden.
Außer den Monomeren (I) "bis (IV) können aliphatische
und/oder aromatische Dicarbonsäuren, Glykole und Hydroxysäuren, wie sie üblicherweise zur Herstellung von
Polyestern verwendet werden, ebenfalls als monomere Komponenten der Polyester (B-1) verwendet werden»
Als Beispiele solcher Dicarbonsäuren sind gesättigte aliphatische Dicarbonsäuren, s.B. Bernsteinsäure, Adipinsäure,
Azelainsäure, Sebacinsäure, Dodecandicarbonsäure und Cyclohexandicarbonsäure; aromatische Dicarbonsäuren,
z.B. Terephthalsäure, Isophthalsäure und
α,β-unsesättigte Dicarbonsäuren, z.B»
Eumarsäure,, Maleinsäure, Maleinsäureanhydrid und Itaconsäure,
und ihre niederen Alkylester und Säurehalogenide und -anhydride zu nennen.
Als Beispiele der vorstehend genannten Glykole sind Athylenglykol, Trimethylenglykol, Tetramethylenglykol,
Decamethylenglykol, Diäthylenglykol, Neopentylglykol,
Polyätbylenglykol (vorzugsweise mit einem Molekulargewicht von 200 bis 1000),7Bis(4-hydroxyphenyl)methan,
1,1-Bis(4-hydroxyphenyl)äthan, 1,1-Bis(4-hydroxyphenyl)-butan,
1,1-Bis(4-hydroxyphenyl)isobutan, 1,1-Bis(4-
7ßis(4-hydroxyphenylalkane, z.B.
.509821/1063
hydroxyphenyl)cyclohexan, 2,2-Bis(4-hydroxyphenyl)propan,
2,2-Bis(4-hydroxyphenyl)butan sowie die Alkylenoxydaddukte
der vorstehend genannten Alkan- und Cycloalkynderivate,
sowie m-Xylylenglykol und p-Xylylenglykol bzw. deren
Alkylenoxydaddukte zu nennen.
Geeignete Hydroxysäuren sind beispielsweise Glykolsäure und Hydroxyacrylsäure. ;
Die Umsetzung dieser Monomeren zur Herstellung der '. Polyester (B-1) kann nach beliebigen geeigneten Verfahren
erfolgen, die üblicherweise zur Herstellung von thermoplastischen Polyestern z.B. Polyäthylenterephthalat,
angewandt werden. Die Menge der ein basisches Stickstoffatom enthaltenden Monomerkomponente - beispielsweise der
Monomeren I bis IV - kann im allgemeinen 1o bis 1oo
Mol-% betragen und beträgt vorzugsweise 5o bis 1oo Mol-%
der Gesamtmenge der monomeren Komponenten des Polyesters.
Von den Polyamiden (B-2) werden diejenigenf die ein
basisches Stickstoffatom in der Hauptkette enthalten, beispielsweise hergestellt unter Verwendung wenigstens
eines Monomeren der folgenden Formeln. ' R
B°B (Y)
\ ν
N-B°-B
RR'
URb
URb
b-U-Rb-N-Rb^
worin R und R1 wie oben angegeben definiert sind, R^, R2
und R- jeweils Alkylenreste mit vorzugsweise 1 bis 15 C-Atomen und A' und B1 jeweils Gruppen der Formel
-NH2f -COOH oder -COOR", worin R" ein Kohlenwasserstoff-
509821/1063,
rest mit vorzugsweise 1 bis 1o C-Atomen ist) sind. Die Gruppe R^-B' kann auch Wasserstoff bedeuten, beispielsweise
in Formel V. '
Als Beispiele der Monomeren (V) seien genannt: Diamine, z.B. N-(2-Aminoäthyl)piperazin, N-(2-Aminopropyl)-piperazin,
N-(3-Aminopropyl)--2,5-dimethylpiperazin, N,N!-
Di(aminomethyl)piperazin, N,N'-Di(ß-aminoäthyl)piperazin,
Ν,Ν'-Di (ß-aminoäthy])methylpiperazin, N- (Aminomethyl)-N1-(ß-aminoäthyl)piperazin
und N,N'-Di(Ä^aminopentyl)-piperazin;
Dicarbonsäuren, z.B. Ν,Ν'-Di- |
(cartoxylmethyl)piperazin, N, N'-Di(carboxymethyl)methylpiperazin,
N,N'-Di(carboxymethyl)-2,6-dimethylpiperazin,
N,W'-Di(ß-carboxyäthyl)piperazin, N,N'-Di(Y-carboxypropyl)piperazin
und U-(ß-car'boxyäthyl-Nl-(car'boxymethyl)-piperazin,'
und deren reaktionsfähigen Derivate wie beispielsweise die niederen Alkylester und Säurehalogenide,
und«0-Aminosäuren, z.B. N-(Aminomethyl)-N'- <
carboxj^methyljpiperazin, N-(Aminomethyl)-N'-(ß-carboxyäthyl)piperazin,
N-(ß-Aminoäthyl)-N'-(kZcarboxyäthyl)-piperazin
und N-(Aminomethyl)-N'-(carboxymethyl)-2~ methylpiperazin.
Als Beispiele der Monomeren (VI) seien genannt: Diamine, z.B. N,N'-Di(ß-aminoäthyl)amin, N,N-Di-(Y-aminopropyl)~
amin, N,H-Di(ß-aminoäthyl)methylamin, N,U-(Di-'(γβπιΐηο-propyljäthylamin,
N,li-Di-(Y-aminopropyl)iSopropylamin,
N,N-Di-(Y-aminopropyl)cyclohexylamin, N,N-(J -amino-nbutyl)amin
und N-(ß-Aminoäthyl)-1,3-propandiamin;
Dicarbonsäuren and deren mktionsfähigen Derivate wie beispielsweise
die niederen Alkylester und Säurehalogenide, zum Beispiel N,N-Di-(carboxymethyl)methylamin. ,
N,N-Di(ß-carboxyäthyl)amin, N,N-(Di(ß-carboxyäthyl)-Diethylamin,
N,N-Di(ß-carboxyäthyl)isopropylamin und
N-Carboxymethyl-N-(ß-carboxyäthyl)methylamin und^-Aminosäuren,
z.B. N-(Aminomethyl)-N-(carboxymethyl)methylamin, N-(ß-Aminoäthyl)-N-(ß-carboxyäthyl)methylamin,
N-(Aminomethyl)-N-(ß-carboxyäthyl)is opropylamin, N-(γ-Aminopropyl)-N-(Y-carboxypropyl)amin
und Ν-(γ-Αηιίηο-propy1)-N-(ß-carboxyäthyl)-me
thylamin.
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Als Beispiele von Monomeren (VlI) seien genannt: Diamine, z.B. N,N'-Dimethyl-N,H!-di(γ-aminopropyl)-ätbylendiamin,
Ή,N'-Dimethyl-N,N'-di(γ-aminopropyl)-tetrametbylendiamin,
Ή,N'-Diisobutyl-N,Έ'-di(γ-aminopropyl
hexamethylendiamin, N,N'-Dicyclohexyl-N,li '-di-(Y-aminopropyl)hexamethyl,eüä±amin
und N,N'-Diäthyl-N,N'-di(γ-aminopropyl)-2,2,4~trime
tbylhexametbylendiamin,'
Dicarbonsäuren und deren reaktionsfähige Derivate wie beispielsweise
die niederen Alkylester und Säurehalogenide, zum Beispiel N,N1-Dimethyl-N,N1-di(carboxymethyl)-äthylendiamin,
NjN'-Dimethyl-NjN'^-di (ß-carboxyäthyl)-äthylendiamin
und Ν,Ν1 -Dimethyl-Ν,Ν1 -di (;"-carboxypropyl)hexamethylendiamin
und deren reaktionsfähige Derivate wie beispielsweise die niederen Alkylester und Säurehalogenide,
und CaD-Aminosäuren, zum Beispiel Ν,Ν1- :
Dimethyl-N-taminomethylJ-N'-tcarboxymetbylJäthylendiamin,
U,N'-Dimethyl-W-(ß-aminoäthyl)-1ϊf-(ß-carboxyätbyl)äthylendiamin
und NjN'-Dimethyl-N-iaminomethyl)-Nl-(carboxyäthyl)hexamethylendiamin.
Die Polyamide (B-2), die ein basisches Stickstoffatom in der Seitenkette enthalten, werden beispielsweise hergestellt
unter Verwendung wenigstens einer der Verbindungen
CH2-IT
R°
YO-CH2-G-CH2-OY
b
.6
in der R4 und r|? jeweils Kohlenwasserstoffreste mit vorzugsweise
1 bis 1o C-Atomen sind, die zu einem Ring verknüpft sein können, Rg ein niederer Alkylrest mit vorzugsweise
1 bis 3 C-Atomen oder eine Gruppe der Formel
Rb
/ R4
/ R4
-CH2-N ; *
\ pb
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- ίο -
(in der R^ u. Rr die oben genannten Bedeutungen haben) und
Y ein /-Aminopropylrest ist).
Als Beispiele der Monomeren (VIII) sind Diamine zu nennen, z.B. 6-Methyl-6-(N,N-dimethylaminomethyl)--4,8-dioxaundecandiamin,
6-Methyl-6-(Ki,N-diäthylaminomethyl)-4,8-dioxaundecandiamin,
6-Äthyl-6-(N,N-diiiietbylaminomethyl)-4j8-dioxaundecandi3mi-n
und 8,6~Bis.(üi,N-dimethylarainomethyl)-4,8-dioxaundecandiamin.
Diese Monomeren können allein oder in Kombination verwendet werden.
Außer den Monomeren (V) bis (VIII) können aliphatisch^
und/oder aromatische Dicarbonsäuren Diamine, ^'-Aminosäuren
und Lactame, wie sie üblicherweise für die Herstellung von Polyamiden verwendet werden, ebenfalls als
monomere Komponenten der Polyamide (B-2) verwendet werden. Als Beispiele solcher Dicarbonsäuren sind aliphatische
und/oder aromatische Dicarbonsäuren, z.B. Bernsteinsäure, Adipinsäure, Glutarsäure, Azelainsäure,
Sebacinsäure, Dodecandicarbonsäure, Terephthalsäure, Isophthalsäure und Cyclohexandicarbonsäure sowie niedere
Alkylester und Säurehalogenide dieser Dicarbonsäuren zu nennen. :
Als Diamine eignen sich beispielsweise gesättigte aliphatische
geradkettige Diamine, z.B. Tetramethylendiamin, Pentamethylendiamin, Hexamethylendiamin, Heptamethylendiamin,
Octamethylendiamin, Nonamethylendiamin und Decamethylendiamin, aromatische Diamine, z.B.
m-Xylylendiamin und p-Xylylendiamin, und alicyclische
Diamine, z.B. Cyclohexanbismethylamin,,
Als Beispiele geeigneter k?-Aminosäuren sind Aminocapronsäure,
Aminoheptanßäure, Aminocaprylsäure, Aminocaprinsäure
und Aminolaurinsäure zu nennen«
Als lactame eignen sich beispielsweise t -Caprolactam,
a-Mthyl- έ-caprolactam, d-Methyl-<f-caprolactam, Gycloheptanonisoxim
und Cyclooctanonisoxim.
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Die Polyamide (B-2) können nach üblichen Verfahren hergestellt werden. Die Menge der monomeren -Komponente, die
ein basisches Stickstoffatom enthält, beispielsweise der Monomeren V bis VIII, kann gewöhnlich 1o bis 1oo Mol-%
betragen und beträgt vorzugsweise 2o bis 5o Mol-% der Gesamtmenge der monomeren Komponenten der Polyamide.
Die Vinylpolymerisate (B-3) können unter Verwendung von Verbindungen der Formel CH2=C(R^)-Q-R^-N(ϊφ (R^),
in der R^ Wasserstoff oder ein Kohlenwasserstoffrest
(vorzugsweise mit 1 "bis 10 C-Atomen), RpB ein Alkylenrest
(vorzugsweise mit 1 "bis 15 C-Atomen), R^B und R.B
jeweils Kohlenwasserstoffreste (vorzugsweise mit 1 bis 10 C-Atomen) sind und Q eine Esterbindung oder Amidbindung
ist, als Ausgangsmonomere hergestellt werden. Als Beispiele solcher Monomeren seien genannt: 2-(N,N-Di—
«ethylamino)äthylacrylat, 2-(Er,N-Diäthylamino)äthylmethacrylat,
3~(N,N-Dimethylamino)propylacrylamid,
3-(N,lT-Diäthylamino)propylmethacryl·amid usw. Außer
diesen Monomeren können beliebige andere Vinylmonomere verwendet werden, die üblicherweise für die Herstellung
von Viny!polymerisaten verwendet werden. Als Beispiele
solcher Vinylmonomerer sind Styrol, Vinylchlorid, Vinylidenchlorid, Acrylnitril, Methacrylamid, Methylacrylat,
Äthylen und Propylen zu nennen. Im Vinylpolymerisat ist das spezielle Monomere im allgemeinen in
einer -Menge von 10 bis 100 Mol.-$, vorzugsweise 20 bis
50 Mol.-%, enthalten.
Das in der beschriebenen Weise hergestellte Polymerisat (B) wird mit einer Protonsäure, einem Alkylierungsmittel
oder einer Protonsäure und einer Epoxyverbindung be-
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i -12·- !
handelt, wobei das Polymerisat (A) erhalten wird.
Die Reaktion kann beispielsweise durchgeführt werden, indem das Polymerisat (B) zusammen mit. einer protonischen Säure,
einem Quaternierungsmittel oder einer Protonsäure und einer Epoxyverbindung , vorzugsweise einer ungesättigten
Epoxyverbindung, in einem geeigneten Lösungsmittel bei einer geeigneten Temperatur gelöst oder das Polymerisat (B)
mit dem genannten Reagenz bzw. den Reagenzien vermischt, geschmolzen oder mit den Reagenzien im gasförmigem Zustand
zusammengeführt wird. Es ist auch möglich, diese Behandlung des Polymerisats (B) während oder nach der Vermischung
des Polymerisats mit einem photopolymerisierbaren ungesättigten
Monomeren, eines Photosensibilisators und/oder einem Inhibitor der thermischen Polymerisation durchzuführen.
Als protonische Säuren eignen sich anorganische Säuren, z.B. Salzsäure oder Schwefelsäure, und organische
Säuren, z.B„ Ameisensäure, Essigsäure, Chloressigsäure, Maleinsäure, Phthalsäure, Adipinsäure und Acrylsäure.
Hiervon wird die Säure, die eine polymerisierbare ungesättigte Bindung im Molekül enthält, z.B. Acrylsäure,
Maleinsäure oder Zimtsäure gleichzeitig als Vernetzungsmittel zur Beschleunigung des Aushärtens dienen.
Als Quaternisierungsmittel eignen sich beispielsweise
Alkylhalogenide, z.B. Methylchlorid, Äthylchlorid, Methylbromid, Methyljodid, Äthylchlorid, Äthylbromid, Laurylcllorid;
Aralkylhalogenide, z.B. Benzylchlorid, 1,2-Dichlorxylol,
1,3-Dichlorxyclol; Äthylenchlorhydrin, 2-Chloräthylacrylat
und -methacrylat, 2,3-Di"brompropylacrylat und
-methacrylat, 3-Chlor-2-hydroxypropylaorylat und
-methacrylat, Dialkylschwefelsäure und Alicyl-p-toluol-
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sulfonate.
ungesättigte Als Epoxyverbindungen werden vorzugsweise/Verbindungen
der allgemeinen Formel
CH9-CH-(CH9) -y-(CH9)~C=CH9 (C)
\ / η
R"
verwendet, in der /ein Wasserstoffatom oder ein niederer
Alkylrest, Y* eine Gruppe der Formel -00C-, -Et-ICO-, -0-,
-SO,- oder -HNCONH-, η eine ganze Zahl von 0 bis 3 ist
und m den Wert 0 oder 1 hat. Als spezielle Beispiele
sind Glycidylacrylat und -methacrylat, N-G-lycidylacrylamid
und -methacrylamid, Vinylglycidyläther, Allylglycidyläther, Glycidylvinylsulfonat und N-Isopropenylglycidylurethan
zu nennen. Die Menge der Epoxyverbindung kann 0,02 bis 10 Mol betragen und' beträgt vorzugsweise
0,05 bis 5 Mol pro Mol des basischen Stickstoffatoms
im Polymerisat (B).
Die Mengen der protonischen Säure und des Quaternierungtmittels
werden in Abhängigkeit von der Menge des basi-sehen
Stickstoffatoms im Polymerisat, von der gewünschten Löslichkeit des gebildeten Polymerisats u.dgl» in
geeigneter Weise gewählte
Die in der beschriebenen Weise hergestellten Polymerisate
(A) enthalten ein Stickstoffatom in Ammoniumsalzform
in der Hauptkette oder Seitenkette und sind in Wasser und verdünnten wässrigen Säuren leicht löslich.
Insbesondere wird hohe Wasserlöslichkeit erzielt, wenn
wenigstens 1 χ 10 Mol des Stickstoffatoms in Ammoniumer
salzform in 1 g Polymerisat enthalten ist.
509821/10,6 3
AIs Beispiele photopolymerisierbarer ungesättigter Monomere,
die sich für die Zwecke der Erfindung eignen, . seien genannt: Monomere, die eine Doppelbindung enthalten,
z.B. Acrylsäure, Methacrylsäure, Methylacrylat,
Methylmethacrylat, Benzylacrylat, Tribromphenylacrylats
Cyclohexylacrylat, 2-Hydroxypropylacrylat, Acrylamid,
Methacrylamid, ϊΓ-Methylolacrylamid, n-Butoxymethylacrylamid,
Isobutoxymethylacrylamid, N-tert,-Butylacrylamid,
Hatriumacrylat, Ammoniumacrylat, Acrylnitril,
Styrol, Natriumstyrolsulfonat und Vinylpyridin, und
Monomere, die zwei oder mehr Doppelbindungen enthalten,
z.B. Glycidylmethacrylat, Allylniethacrylat, Äthylenglykoldiacrylat,
Äthylenglykoldimethacrylat, 1,3-Propandioldiacrylat,
1,3-Propandioldimethacrylat, 1,4-Butandioldiacrylat,
1,4-Butandioldimethacrylat, 1,6-Hexandioldiacrylat,
1,6-Hexandioldimethacrylat, Trimethylolpropantriacrylat,
Crimethylolpropantrimethacrylat, Tetrarnethylolmethantriacrylat, Triacryloyloxyäthyl- ,
phosphat, Methylenbisacrylamid, Äthylenbisacrylamid, Propylenbisacrylamid, Butylenbisacrylamid, Methylenbismethacrylamid,
Athylenbismethacrylamid und Propylenbismethacrylamido
Diese Monomeren zeigen gu.,te Verträglichkeit mit den genannten Polymerisaten A bzw. B und können
allein oder in Korabination verwendet werden. Die alleinige Verwendung von Monomeren, die wenigstens zwei Doppelbindungen
enthalten, oder die gemeinsame Verwendung von Monomeren, die wenigstens eine Doppelbindung enthalten,
ist besonders günstig.
Die Menge des Monomeren kann 5 bis 15o Gew.-%, vorzugsweise
1o bis 1oo Gew.-%, bezogen auf das Polymerisat (A)
in der lichtempfindlichen Harzmasse betragen. Wenn der Anteil unter 5 Gew.-% liegt, so ist die Unlöslichkeit der
belichteten Anteile ungenügend; liegt der Anteil oberhalb von 15o Gew.-%, so ergibt sich eine Verschlechterung der
mechanischen Festigkeit der lichtempfindlichen Schicht nach der Belichtung.
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Beliebige P'hotosensibilisatoren, die die Polymerisation der genannten Monomeren innerhalb der Polymermatrix
beschleunigen und "begünstigen, können verwendet werden. Als spezielle Beispiele sind Anthrachinone, z.B. 9» 10-Anthrachinon,
1-Chloranthrachinon und 2-Chloranthrachinon,
Benzophenone, Z0B. Benzophenon, p-Aminobenzophenon
und p-Chlorbenzophenon, Benzoine, z.B. Benzoin, Benzoinmethyläther, Benzoinäthyläther und a-Methylbenzoin,
und Benzyle zu nennen. Die Menge· des Photosensibilisators kann 0,01 bis 5 Gewo-fo betragen und beträgt
vorzugsweise 0,1 bis 2 Gew.-^, bezogen auf die Gesamtmenge
von Polymerisat und photopolymerisierbaren ungesättigten Monomeren.
Beliebige Inhibitoren der thermischen Polymerisation,
die die thermische Polymerisation der photopolymerisierbaren ungesättigten Monomeren während der Herstellung,
Formung oder Verarbeitung der lichtempfindlichen Harzmasse
unter Wärmeeinwirkung oder die Dunkelreaktion der lichempfindlichen Harzmasse während der Lagerung zu verhindern
vermögen, können verwendet werden. Als spezielle Beispiele sind Hydrochinone, z.B. Hydrochinon, Monotert.-butylhydrochinon
und 2,5-Di-terto-butylhydrochinon, Benzochinone, z.B. Benzochinon und 2,5-Di-tert.-butylp-benzochinon,
Catecbine, z.B. Catechin·· und p-tert,-Butylcatechin,
und Picrinsäure/? zu nennen. Die Menge des Inhibitors der thermischen Polymerisation kann 0 bis
2 Gew.~% betragen und beträgt vorzugsweise 0,05 bis 0,5 -^,· bezogen auf die Gesamtmenge von Polymerisat und
photopolymerisierbarem ungesättigtem Monomeren. i
Die lichtempfindlichen Harzmassen können durch gleichmässiges
Mischen des Polymerisats A, des photopolymerisierbaren
ungesättigten Monomeren, des Photosensibilisators und des Inhibitors der thermischen Polymerisation oder durch
gleichmässiges Mischen des Polymerisats B, der protonischen
Säure, des Quaternisierungsmittels oder der protonischen Säure und der Epoxyverbindung, des photopolymerisierbaren
ungesättigten Monomeren, des Photosensibili-
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sators und des Inhibitors der thermischen Polymerisation hergestellt werden. Das Mischen kann beispielsweise
durch Auflösen der Materialien in einem geeigneten Lösungsmittel, z.B. Wasser, Methanol, Äthanol, Isopropanol,
Chloroform, Tetrachlorkohlenstoff, Toluol oder Xylol, und Abdampfen des Lösungsmittels oder durch
Mischen der Materialien im geschmolzenen Zustand unter Bedingungen, unter denen keine thermische Polymerisation
der gebildeten lichtempfindlichen Harzmasse und damit Unlöslichmachung stattfindet , erfolgen.
Die lichtempfindlichen Harzmassen gemäss der Erfindung
sind in Wasser oder verdünnten wässrigen Säuren leicht löslich.
Die zur vollständigen Auflösung erforderliche Zeit ist ebenso lang oder wesentlich kurzer als die Zeit, die
zum Auflösen von Polymerisaten, die kein Stickstoffatom in der Hauptkette oder Seitenkette enthalten, in -wässrigem
Alkali erforderlich ist.
Wenn die lichtempfindlichen Harzmassen gemäß der Erfindung mit aktivem Licht aus verschiedenen Lichtquellen,
z.B. Quecksilberultrahochdrucklampen, Quecksilberhochdrucklampen, Quecksilberniederdrucklampen, Xenonlampen
und Kohlebogenlampen, bestrahlt wird, findet die photochemische Reaktion des photopolymerisierbaren ungesättigten
Monomeren in der Polymermatrix statt, wodurch die Harzmasse in Wasser und verdünnten wässrigen Säuren
unlöslich wird. Die in dieser Weise belichtete lichtempfindliche Harzmasse wird durch Umgebungsfeuchtigkeit
oder durch Berührung mit wässrigen Substanzen kaum beeinflußt und hat ausgezeichnete physikalische Festigkeit
„
Die lichtempfindlichen Harzmassen gemäß der Erfindung
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können als lichtempfindliche Materialien in Form einfacher Flächengebilde oder in Schichtform auf geeigneten
Trägermaterialien verwendet werden. Flächenge-Mlde
können "beispielsweise hergestellt werden, indem die lichtempfindliche Harzmasse durch Pressen unter
Wärmeeinwirkung, durch Gießen oder Schmelzextrudieren
in der gewünschten Dicke hergestellt werden. Ein Laminat kann beispielsweise hergestellt werden, indem
die lichtempfindliche Harzmasse in flächiger Form mit
oder ohne Klebmasse auf ein Trägermaterial aufgebracht wird. Als Trägermaterialien eignen sich beispielsweise
Stahl, Aluminium, Eisen, Glas und Kunststoffolien. Für die Belichtung wird die lichtempfindliche Schicht
in enge Berührung mit einem Negativ- oder Positivfilm
gebracht, der transparente Bildbereiche aufweist, und mit aktivem Licht bestrahlt. Das belichtete Material
wird zur Entfernung der unbelichteten Bereiche in Wasser oder verdünnte wässrige Säuren getaucht und getrocknet,
wobei eine Hochdruckform mit einem Bild mit scharfen und deutlichen Umrissen erhalten-wird. Das
lichtempfindliche Material kann vorteilhaft nicht nur für Druckformen, sondern auch auf verschiedenen Gebieten
der Industrie, z.B. in der graphischen Technik, zur Dekoration, für Baumaterialien und Elektroteile,
verwendet werden.
Praktische und zur Zeit bevorzugte Ausführungsformen der Erfindung werden in den folgenden Beispielen beschrieben,
in denen die Teile sich als %-Angaben auf das Gewi ent/62J1Ta^. s nicht anders angegeben. Die reduzierte
Viskosität wird bei 300C bei einer Konzentration des Polymerisats von 400 mg/100 ml in einem Gemisch von
Phenol und Tetrachloräthan (6:4) bestimmt» Der Gelbildungsgrad wird durch Extraktion der Probe nach Belichtung
mit Methanol mit Hilfe eines Soxhlet-Extraktors für 24 Stunden, Wiegen der Probe nach der Extraktion
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und Berechnung nach der folgenden Gleichung bestimmt:
Gewicht der Probe nach
Gelbildungsgrad = Extrak χ 1(χ) .
Gewicht der Probe vor Extraktion (g)
In einen Reaktor werden 1 Mol Dimethylterephthalat, 2,5 Mol Methyl-2-(N,N-dimethylaminomethyl)-1,3-propandiol
und 0,1$ (bezogen auf das Dimethylterephthalat) Zinkacetat gegeben. Das Gemisch wird 60 Minuten auf
20O0C erhitzt, wobei das gebildete Methanol abdestilliert
wird. Die Temperatur wird dann auf 2180C erhöht
und die Reaktion 60 Minuten fortgesetzt. Die Temperatur wird weiter auf 255 C erhöht und der Druck allmählich
innerhalb von 30 Minuten auf 0,03 mm Hg gesenkt. Die
Reaktion wird unter diesen Bedingungen 3 Stunden fortgesetzt, während das überschüssige Glykol abdestilliert
wird. Hierbei wird ein Polymerisat, das ein basisches Stickstoffatom in der Seitenkette enthält, in Form eines
weißen Feststoffs mit einem Erweichungspunkt von 86 bis 950C erhalten. Reduzierte Viskosität 0,083.
100 Teile des hergestellten Polymerisats, 28 Teile Methacrylsäure f
50 Teile Äthylenglykol, 10 Teile Methacrylamid, 2 Teile Benzoin und 0,05 Teile Hydrochinon werden
in 300 Teilen Chloroform gelöst. Die erhaltene viskose Lösung wird auf die Oberfläche einer Platte aus PoIytetrafluoräthylen
gegossen und stehen gelassen, um das Chloroform abzudämpfen. Hierbei wird ein 0,8 mm dicker
lichtempfindlicher Harzfilm erhalten,, Der so gebildete
Film hat eine Härte von 38, bestimmt mit dem Härteprüfgerät gemäß ASTM Shore D.
Der lichtempfindliche Harzfilm wird mit einem Kleber
auf Polyesterbasis ("Toyobo Pyrlon" Hersteller Toyobo
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K.Ko) auf eine Polyätbylenterephthalatfolle geklebt.
Auf die lichtempfindliche Harzschicht wird enganliegend ein Negativfilm mit Schriftbild gelegt. Dann
wird mit einer Quecksilberhochdrucklampe (1 kW) 5 Minuten aus einem Abstand von 10 cm belichtet. Das belichtete
Material wird in fließendem V/asser von pH 3,4 bei 3O0G unter einem Druck von 1 kg/cm entwickelt, wobei
eine bildscharfe Druckplatte mit Buchstaben von etwa
0,7 mm Tiefe und 60 bis 70° Schulterwinkel erhalten wird. Der Reliefteil hat eine Shore D-Härte von 67 bis
70, und die drucktechnischen Eigenschaften sind ausgezeichnet.
In einen Reaktor werden 100 Teile Dimethylterephthalat,
223 Teile N>Hl-Bis(2-hydroxypropyl)piperazinJ 0,06 Teile
Zinkacetat .und 0,03 'ieile Antimontrioxyd gegeben« Das
Gemisch wird 60 Minuten auf 2000C erhitzt, während das
gebildete Methanol abdestilliert wird. Anschließend wird die Temperatur auf 255 C erhöht und der Druck allmählich
in 30 Minuten auf 0,03 mm Hg gesenkt. Die Reaktion wird 3 Stunden unter diesen Bedingungen fortgesetzt,
während das überschüssige Glykol abdestilliert wird. Hierbei wird ein Polymerisat, das ein basisches
Stickstoffatom in der Hauptkette enthält, als gelblichweißer Feststoff erhalten. Schmelzpunkt 193°C Reduzierte
Viskosität 0,4.
. i
In 500 Teile Wasser werden 100 Teile des in der beschriebenen
Weise hergestellten Polymerisats, 20 Teile Acrylsäure . ■
•30 Teile Äthylenglykolditnethacrylat, 2 Teile
Benzoin und 2 Teile Anthrachinon gegeben. Das Gemisch wird 1 Stunde bei 40 C gerührt, wobei sich eine Lösung
bildet. Die Temperatur wird dann auf 700C erhöht und
das Wasser unter vermindertem Druck entfernt, wobei
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eine lichtempfindliche Harzmasse erhalten wird, die auf die Oberfläche einer Polyäthylenterephthalatfolie unter
Einwirkung von Wärme aufgewalzt wird, wobei eine lichtempfindliche Harzplatte von 1 mm Dicke erhalten wird»
Auf die lichtempfindliche Schicht der Platte wird ein Negativfilm eines Schriftbildes gelegt, worauf mit einer
Quecksilberhochdrucklampe (1 kW) 5 Minuten aus einem Abstand von 10 cm belichtet, wird. Das belichtete Material
wird iry WgPs ffer eoei 35°C etwa 5 Minuten unter einem
Druck von 3 kg/cm entwickelt, wobei eine bildscharfe Reliefdruckplatte mit Drucktypen von etwa 1 mm Tiefe
und 70 bis 50° Schulterwinkel erhalten wird. Der Reliefteil hat eine Shore D-Härte von 70 bis 75. Die Druckplatte
hat ausgezeichnete drucktechnische Eigenschaften.
In einen Reaktor werden 40 Teile N,Nf-Bis(y-aminopropyl)piperazinadipat,
60 Teile £-Capro lactam, 50 Teile Wasser und 0,3 Teile n-Butylamin gegeben.. Nach genü£ender
Verdrängung der Luft durch Stickstoff wird der Reaktor verschlossen und die Temperatur allmählich erhöht. Wenn
der Innendruck 10 kg/cm erreicht, wird mit dem Abdestillieren.des
V/assers begonnen, bis der Druck nicht mehr
bei diesem Wert gehalten werden kann. Der Druck wird
in etwa 1 Stunde auf Normaldruck gesenkt, worauf die Reaktion 1,5 Stunden unter Normaldruck fortgesetzt wird.
Die höchste Polymerisationstemperatur beträgt 255 C. Hierbei wird ein Polyamid als milchig-weißer Peststoff
erbalten, der in Wasser im wesentlichen unlöslich ist. Erweichungspunkt etwa 1100O. Spezifische Viskosität
1,59.
100 Teile des erhaltenen Polymerisats, -10 Teile Methacrylsäure
20 Teile Acrylamid, 10 Teile Methylen-bis-acryl-
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amid, 2 Teile-Eenzophenon und 0,2 Teile Hydrochinon
werden in 300 Teilen Methanol gelöst, während erhitzt wird. Die erhaltene Lösung wird auf eine Glasplatte gegossen
und unter vermindertem Druck gehalten, "bis das Methanol vollständig, abgedampft ist. Hierbei wird ein
0,8 mm dicker Film aus einer transparenten lichtempfindlichen Harzmasse erhalten. Die Harzmasse ist in Wasser
bei Raumtemperatur leicht löslich.
Der Film wird mit einem o,2 mm dicken Polyäthylenterephthalatfilm verklebt. Auf die lichtempfindliche Schicht
wird ein Negativfilm gelegt. Dann wird 4 Minuten mit einer Fluoreszenzlampe für Reproduktion "BA-37" (Hersteller
Electric Industrial Co. Ltd.) belichtet. Das belichtete Material wird in neutralem fließendem Wasser 3 Minuten
bei 2o°C unter einem Druck von o,5 kg/cm2 entwickelt, wobei eine Reliefdruckplatte erhalten wird, die das Originalbild
scharf wiedergibt und ausgezeichnete Druckfähigkeit aufweist.
In einen Reaktor werden 100 Teile des Nylonsalzes von 6-Methyl-6-(N1N'-diäthylaminomethyl)-4,8-dioxaundecandiamin
mit Adipinsäure und 100 Teile Wasser gegeben. Nach genügender Verdrängung der Luft durch Stickstoff
wird die Temperatur erhöht. Wenn der Innendruck 5 kg/cm2
erreicht hat, wird mit dem Abdestillieren von Wasser begonnen und das Wasser so abdestilliert, daß der Druck
bei diesem Wert gehalten wird. Wenn 80?fa des zugesetzten
Waseers abdestilliert sind, beginnt der Druck allmählich zu fallen. Nach etwa 30 Minuten ist Normaldruck erreicht.
Die Reaktion wird 2 Stunden bei 2600O unter"Normaldruck
unter strömendem Stickstoff fortgesetzt, wobei ein Polyamid als blaßgelber Feststoff erhalten wird0
Erweichungspunkt 125 - 127°C, spez.Viskosität 1,58.
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Das so erhaltene Polyamid (1oo Teile) wird mit Methacrylsäure (12 Teile), Äthylenglykoldimethacrylat (8 Teile),
Methylmethacrylat (15 Teile), Benzophenon (2 Teile) und Hydrochinon (o,1 Teile) unter Erwärmen in 2oo Teilen
Methanol gelöst, worauf die erhaltene Lösung zur Entfernung des Methanols eingeengt wird, woraufhin eine feste,
transparente, lichtempfindliche Harzmasse erhalten wird. Die erhaltene Masse ist in kaltem Wasser leicht löslich.
Die so erhaltene lichtempfindliche Harzmasse wird zu einem lichtempfindlichen Material verarbeitet, welches
belichtet, entwickelt und getrocknet wird, wie in Beispiel 3 im einzelnen beschrieben. Dabei wird eine Hochdruckplatte
mit guten drucktechnischen Eigenschaften erhalten, die eine präzise Reproduktion des ursprünglichen
Bildes darstellt.
1oo Teile eines Homopolyamids, welches durch Polykondensation
des Nylonsalzes von N,N1-Bis(3-aminopropyl)piperazin
mit Sebacinsäure erhalten worden war, wurden in 3oo Teilen Methanol aufgelöst. Der erhaltenen Lösung
wurden 5o Teile 2o%ige Salzsäure und 58,5 Teile Glycidylmethacrylat
zugeführt, worauf das Gemisch 24 Stunden lang in einem Wasserbad von 75°C unter Rückfluss gerührt wurde.
Das Reaktionsgemisch wurde dann unter Rühren in erheblich überschüssiges Äthylacetat eingetropft, wodurch ein mit
Glycidylmethacrylat modifiziertes Polyamid ausgefe11t
wurde, welches abfiltriert und getrocknet wurde. Das Polyamid wurde erneut in etwa der 3fachen Menge Methanol
aufgelöst und mit Äthylacetat ein weiteres Mal ausgefällt, wodurch das modifizierte Polyamid (123 Teile)
als weisser, in Wasser und Methanol löslicher Festkörper erhalten wurde.
Einer Lösungvon Io Teilen des so erhaltenen modifizierten
Polyamids in 4o Teilen Methanol wurden o,1 Teile Benzoin-
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methyläther und o,o2 Teile Hydrochinonmonomethyläther
zugefügt, wobei sich eine einheitliche Lösung bildete. Von dieser wurde das Methanol in einem verdunkelten
Raum abgedampft, worauf der Rückstand bei 4o°C 16 Stunden
lang bei vermindertem Druck getrocknet wurde. Es wurde so eine, gleichförmige, transparente Platte bzw. Schicht
von o,54 mm Dicke erhalten. ;
Ein Teil der so erhaltenen Schicht wurde 5 Minuten lang im Abstand von 1o cm der Strahlung einer Quecksilberniederdrucklampe
(5oo W) ausgesetzt und anschließend in einem Sxhlet-Extraktor 24 Stunden lang mit Methanol
behandelt. Der Geliergrad wurde zu 93,4 % ermittelt. Die unbelichtete Schicht ist in Wasser und Methanol löslich.
Der in Beispiel 5 beschriebene Versuch wird wiederholt mit dem Unterschied, daß 50 Teile Wasser an Stelle von
50 Teilen der 20$igen Salzsäure verwendet werden, wobei
ein Polyamid, das in Methanol löslich, aber in Wasser unlöslich ist, erhalten wird.
Unter Verwendung von 10 Teilen dieses Polyamids wird der in Beispiel 5 beschriebene Versuch wiederholt, wobei
einegleichförmige, transparente Schicht erhalten wird und
nach der Extraktion mit Methanol und Belichtung ein Gelbildungsgrad von O % ermittelt wird. Die unbelichtete
Schicht ist ebenfalls in Methanol löslich. :
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Teile eines copolymerisierten Polyamids, hergestellt durch Polykondensation von 50 Teilen 6-Caprolactam und
Teilen eines Nylonsalzes von N-(2-Aminoäthyl)piperazin mit Adipinsäure, werden in 40 Teilen Äthanol gelöste
Zur lösung werden 3,05 Teile 20$ige Salzsäure und 3»22
Teile Glycidylacrylat gegeben. Das Gemisch wird 24 Stunden unter Rückfluß in einem Wasserbad von 85°C gerührte
Das Reaktionsgemisch wird mit Äthylacetat behandelt,
wobei ein mit Glycidylacrylat modifiziertes Polyamid als weisser Feststoff wie in Beispiel 5 ausgefällt,
5 Teile des erhaltenen modifizierten Polyamids, 0,05 Teile Benzophenon und 0,01 Teile Hydrochinonmonomethyl"
äther werden gleichmäßig in 20 Teilen Methanol gelöste Die Lösung wird £ur Entfernung des Methanols' in einem
dunklen Raum eingedampft. Der Rückstand wird 16 Stunden bei 40 C und unter vermindertem Druck getrocknet, wobei
eine gleichmäßige, transparente, 0,47 mm dicke Platte erhalten wird.
Ein Teil der Platte wird mit einer Quecksilberniederdrucklampe
(500 W) 4 Minuten aus einem Abstand von 10 cm belichtet und dann mit Methanol extrahiert, wobei
ein Gelbildungsgrad von 87,6$ erreicht wird. Die unbelichtete
Platte ist i,n Wasser und Methanol löslich.
509821 /1063
10 Teile eines Copolyamids, hergestellt durch Copolymerisation
von 60 Teilen (f -Caprolactatn und 40 Teilen
eines Nylonsalzes von N)Nl-(3-Aminopropyl)piperazin
mit Adipinsäure wird in 30 Teilen Äthanol und 10 Teilen Wasser gelbst, worauf 0,94 Teile Acrylsäure und 2,70
Teile Glycidylmethacrylat 'zugesetzt werden. Das Geraisch
wird 24 Stunden im Wasserbad von 85°C am Rückflußkühler
unter Rühren erhitzt. Dem Reaktionsgemisch werden 0,2 Teile Benzoinmethyläther und 0,05 Teile Hydrochinonmonomethyläther
zugesetzt, wobei eine gleichmäßige Lösung gebildet wird, aus der das Äthanol durch Abdampfen
in einem dunklen Raum entfernt wird. Der Rückstand wird 24 Stunden bei 400C und unter vermindertem Druck getrocknet, wobei eine Platte erhalten wird. Die Platte
wird zerkleinert und bei 13O0C zu einer gleichmäßigen, transparenten, 0,65 mm dicken Platte gepresst, die mit
einer Eisenplatte verklebt wird, wobei ein gleichmäßiges lichtempfindliches Material erhalten wird»
Das lichtempfindliche Material wird unter Vakuum mit einem Negativfilm in enge Berührung gebracht und mit
einer chemischen Lampe (400 W) 3 Minuten aus einem Abstand von etwa 5 cm belichtet. Das belichtete Material
wird durch eine Düse unter einem Druck von 4 kg/cm mit Leitungswasser von 3O0C besprüht, wobei der unbelich·
tete Teil entfernt und eine bildscharfe Reliefdruckplatte,
die ein genaues Abbild der Vorlage zeigt, erhalten wird. Die Druckfähigkeit der erhaltenen Reliefdruckplatte
ist ausgezeichnet.
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Claims (5)
1) Lichtempfindliche Harzmasse, dadurch gekennzeichnet, daß sie ein Polymerisat, welches ein Stickstoffatom als Ammoniumsalz
in der Hauptkette oder Seitenkette enthält, ein photopolymerisierbares ungesättigtes Monomeres und einen
Photosensibilisator sowie gegebenenfalls einen Inhibitor der thermischen Polymerisation enthält,
2) Lichtmepfindliche Harzmasse nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß sie ein Polymerisat der Formel
©ι1 &
d I 4
R-J I
enthält, in der R,, Rp, R, und R, jeweils Wasserstoffatome
oder substituierte oder unsubstituierte Kohlenwasserstoffreste sind und wenigstens einer der
Reste R1, R2, R3 und R^ eine Polymerisatkette dar- ;
stellt und X ein Anion ist. j
3) Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 1 und 2, da- :
durch gekennzeichnet, daß sie ein Polymerisat enthält, das hergestellt worden ist durch Behandlung
eines Aus£angspolymerisats der Formel ',
1 i
in der R1, R2 und R5 jeweils Wasserstoffatome oder
substituierte oder unsubstituierte Kohlenwasserstoffreste sind und wenigstens einer dieser ■"■este eine ;
Polymerisatkette darstellt, mit einer protonischen Säure, einem Quaternisierungsmittel oder mit einer Epoxyverbindung
in Gegenwart einer protonischen Säure.
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4) Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 1 Ms 3> dadurch
gekennzeichnet, daß als Ausgangspolymerisat
zur Herstellung des Polymerisats ein Polyester verwendet worden ist, der hergestellt worden ist unter
. Verwendung wenigstens einer der Verbindungen der folgenden Formeln
(D
N-Rf-B (ID
R R'
A-r![-S-Bl-N-Rl-B ■ -(HD
A-r![-S-Bl-N-Rl-B ■ -(HD
worin R und R1 jeweils Wasserstoffatome oder Kohlenwasserstoffreste,
Ra, Ra und Ra jeweils Alkylenreste
und A und B jeweils für eine Gruppe der Formel -OH,
-GOOH oder -COOR" (worin R" ein Kohlenwasserstoffrest
mit 1 "bis 10 C-Atomen ist) stehen.
5) Lichtempfindliche Harzmasse nach Anspruch 1 his 3, dadurch gekennzeichnet, daß als Ausgangspolymerisat
für die Herstellung des Polymerisats ein Polyester verwendet worden ist, der hergestellt worden ist
unter Verwendung wenigstens eines Ausgangsmonomeren der formel j
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CH2-N
Ra
5 '
HO-CH2-C-CH2-OH (IV)
in der R^ und r| jeweils Kohlenwasserstoffreste sind
und unter Bildung eines Ringes miteinander verknüpft sein können und R^ ein niederer Alkylrest oder eine
Gruppe der Formel
-CH2-N
ist, in der R^ und R? die oben genannten Bedeutungen
haben.
6) lichtempfindliche Harzmasse nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß als Ausgangspolymerisat
zur Herstellung des Polymerisats ein Polyamid verwendet worden ist, das hergestellt worden ist unter
Verwendung wenigstens einer Verbindung der folgenden
Formeln
l.
f-N H-R^-
1 νμν 2
N-R|~Bf . (VI)
R R»
ALRb_N_Rb_N_Rb_B'
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worin R und R1 jeweils Wasserstoffatorae oder Kohlenwasserstoffreste,
R1, R~ und Ic? jeweils Alkylenreste sind und A'und
B' jeweils für Gruppen der Formel -NH2, -COOH oder -COOR",
worin R" ein Kohlenwasserstoffrest ist,·stehen.
lichtempfindliche Harzmasse nach Anspruch 1 "bis 3,
dadurch gekennzeichnet, daß als Ausgangspolymerisat zur Herstellung des Polymerisats ein Polyamid verwendet
worden ist, das hergestellt worden ist unter Verwendung wenigstens eines Ausgangsmonoiiieren der Formel
TO-OH2-G-OH2-OY (VIII)
in der R^ und R^ jeweils Kohlenwasserstoffreste sind und
unter Bildung eines Ringes miteinander verknüpft sein können, R, ein niederer Alkylrest oder eine Gruppe der
Formel
Rb
-CH2-N C Rb
-CH2-N C Rb
in der R^ und R° die oben genannten Bedeutungen haben
und Y ein ^-Aminopropylrest ist.
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-3ο-
8. Lichtempfindliche flarzmacse nach An&priu-hen 4-7,
dadurch gekennzeichnet, daß die ein basisches Stickstoffatom aufweisende Monomerkomponente 1o bis 1oo Mol-%
der Gesamtmenge der Mononierbestandteile des Polyesters
bzw. Polyamids ausmacht.
9. Lichtempfindliche Harzmasse nach Anspruch 2, dadurch
gekennzeichnet, daß das ein Stickstoffatom in Ammoniumforra enthaltende Polymerisat wenigstens 1 χ Io
Mol Stickstoffatome in der Ammoniumform pro g enthält.
10. Lichtempfindliche Harzmasse nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet, daß das photopolymerisierbare ungesättigte Monomere 5 bis 15o Gew.-% bezogen auf das
ein Stickstoffatom in Ammoniumform enthaltende Polymere ausmacht.
11. Lichtempfindliche Harzmasse nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Photosensibilisator
in einer Menge von o,o1 bis 5 Gew.-% bezogen auf das Gesamtgewicht des ein Stickstoffatom in. Ammoniumform aufweisenden
Polymeren und des photopolymerisierbaren ungesättigten Monomeren vorliegt.
12. Lichtempfindliche Harzmasse nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß in der lichtempfindlichen
Masse ein Inhibitor der thermischen Polymerisation in einer Menge von bis zu 2 Gew.-%, bezogen auf die Gesamtmenge
des ein Stickstoffatom in Ammoniumform enthaltenden Polymeren und des photopolymerisierbaren ungesättigten
Monomeren, vorliegt.
13. Eerwendung der lichtempfindlichen Harzmassen der Ansprüche 1 bis 12 als Bestandteil - gegebenenfalls
auf einem gesonderten Schichtträger befindlich - von lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien.
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13039073A JPS5236042B2 (de) | 1973-11-19 | 1973-11-19 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2454676A1 true DE2454676A1 (de) | 1975-05-22 |
DE2454676B2 DE2454676B2 (de) | 1980-01-31 |
DE2454676C3 DE2454676C3 (de) | 1985-08-29 |
Family
ID=15033163
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19742454676 Expired DE2454676C3 (de) | 1973-11-19 | 1974-11-19 | Lichtempfindliches Gemisch |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5236042B2 (de) |
DE (1) | DE2454676C3 (de) |
FR (1) | FR2251838A1 (de) |
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- 1973-11-19 JP JP13039073A patent/JPS5236042B2/ja not_active Expired
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1974
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DE2454676C3 (de) | 1985-08-29 |
FR2251838A1 (en) | 1975-06-13 |
JPS5236042B2 (de) | 1977-09-13 |
FR2251838B1 (de) | 1981-12-31 |
JPS5078401A (de) | 1975-06-26 |
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