DE2449545A1 - Aetzloesungen fuer kupfer und kupferlegierungen - Google Patents

Aetzloesungen fuer kupfer und kupferlegierungen

Info

Publication number
DE2449545A1
DE2449545A1 DE19742449545 DE2449545A DE2449545A1 DE 2449545 A1 DE2449545 A1 DE 2449545A1 DE 19742449545 DE19742449545 DE 19742449545 DE 2449545 A DE2449545 A DE 2449545A DE 2449545 A1 DE2449545 A1 DE 2449545A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
copper
acid
concentration
purine
ppm
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE19742449545
Other languages
German (de)
English (en)
Inventor
Katsutoshi Itani
Akira Matsumoto
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Adeka Corp
Original Assignee
Tokai Denka Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokai Denka Industrial Co Ltd filed Critical Tokai Denka Industrial Co Ltd
Publication of DE2449545A1 publication Critical patent/DE2449545A1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/10—Etching compositions
    • C23F1/14—Aqueous compositions
    • C23F1/16—Acidic compositions
    • C23F1/18—Acidic compositions for etching copper or alloys thereof

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
  • Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
DE19742449545 1973-10-17 1974-10-17 Aetzloesungen fuer kupfer und kupferlegierungen Pending DE2449545A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11571173A JPS533975B2 (enExample) 1973-10-17 1973-10-17

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE2449545A1 true DE2449545A1 (de) 1975-04-30

Family

ID=14669289

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19742449545 Pending DE2449545A1 (de) 1973-10-17 1974-10-17 Aetzloesungen fuer kupfer und kupferlegierungen

Country Status (7)

Country Link
US (1) US3939089A (enExample)
JP (1) JPS533975B2 (enExample)
CA (1) CA1038736A (enExample)
DE (1) DE2449545A1 (enExample)
FR (1) FR2248329B1 (enExample)
GB (1) GB1466778A (enExample)
IT (1) IT1022771B (enExample)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4233111A (en) * 1979-06-25 1980-11-11 Dart Industries Inc. Dissolution of metals utilizing an aqueous H2 SO4 -H2 O2 -3-sulfopropyldithiocarbamate etchant
US4233113A (en) * 1979-06-25 1980-11-11 Dart Industries Inc. Dissolution of metals utilizing an aqueous H2 O2 -H2 SO4 -thioamide etchant
US4236957A (en) * 1979-06-25 1980-12-02 Dart Industries Inc. Dissolution of metals utilizing an aqueous H2 SOY --H2 O.sub. -mercapto containing heterocyclic nitrogen etchant
US4233112A (en) * 1979-06-25 1980-11-11 Dart Industries Inc. Dissolution of metals utilizing an aqueous H2 SO4 -H2 O2 -polysulfide etchant
JPS5933743U (ja) * 1982-08-26 1984-03-02 村上　進 接着テ−プ
US4725374A (en) * 1983-10-06 1988-02-16 Olin Corporation Process and apparatus for etching copper base materials
US4973380A (en) * 1983-10-06 1990-11-27 Olin Corporation Process for etching copper base materials
US5248386A (en) * 1991-02-08 1993-09-28 Aluminum Company Of America Milling solution and method
DE4402788A1 (de) * 1994-01-31 1995-08-10 Emil Krechen Industrievertretu Verfahren zum Abtragen von Metallen
JP3400558B2 (ja) * 1994-08-12 2003-04-28 メック株式会社 銅および銅合金のエッチング液
ATE178953T1 (de) * 1994-12-23 1999-04-15 Cookson Group Plc Verfahren zur korrosionshemmung von kupfer- und kupferlegierungen
DE10150445A1 (de) * 2001-10-12 2003-04-17 Beiersdorf Ag Verwendung einer oder mehreren Substanzen, gewählt aus der Gruppe der Pyrimidine und Purine in kosmetischen Zubereitungen zur Haarfärbung
JP5604056B2 (ja) * 2009-05-15 2014-10-08 関東化学株式会社 銅含有積層膜用エッチング液

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3216873A (en) * 1961-08-04 1965-11-09 Fmc Corp Method of etching photoengraving plates and etching solution used therefor
US3410802A (en) * 1966-02-21 1968-11-12 Fmc Corp Process and composition for etching of copper metal
JPS5221460B1 (enExample) * 1971-04-26 1977-06-10

Also Published As

Publication number Publication date
US3939089A (en) 1976-02-17
JPS533975B2 (enExample) 1978-02-13
IT1022771B (it) 1978-04-20
FR2248329A1 (enExample) 1975-05-16
CA1038736A (en) 1978-09-19
JPS5066422A (enExample) 1975-06-04
FR2248329B1 (enExample) 1978-06-09
GB1466778A (en) 1977-03-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2449545A1 (de) Aetzloesungen fuer kupfer und kupferlegierungen
DE2149196C2 (de) Verfahren und Lösung zum Ätzen von Kupfer oder Kupferlegierungen
DE2130945C3 (de) Verfahren zur Entfernung von Quecksilberdampf aus damit verunreinigten Gasen
DE2405215C3 (de) Stabilisierte konzentrierte wäßrige Wasserstoffperoxidlösungen
US2908557A (en) Method of etching copper
DE1467019B2 (de) Verfahren zur Herstellung von feinteiliger Kieselsäure durch Umsetzung von Alkalisilikatlösungen mit Säurelösungen
DE3115323C2 (enExample)
DE2453429A1 (de) Aetzloesungen fuer kupfer und kupferlegierungen
CH642676A5 (de) Verfahren und mittel zum aufloesen von metallen.
JPH0379778A (ja) 銅のエッチング液組成物およびエッチング方法
DE3430341A1 (de) Verfahren zum loesen von metallen unter verwendung eines glykolethers
EP1200340A1 (de) Verfahren zur herstellung von hochreinen stabilisierten hydroxylaminlösungen
EP0110088B1 (de) Verfahren zur Regenerierung des Al203-Trägermaterials gebrauchter Ag/Al203-Trägerkatalysatoren
DE69027952T2 (de) Verfahren zum Auflösen von Zinn und Zinnlegierungen
EP0043164B1 (de) Ergänzungskonzentrat für Aluminiumreiniger
US4673521A (en) Process for regenerating solder stripping solutions
DE2800760C2 (de) Verfahren zur Herstellung von Natriumpercarbonat aus einer Sodalösung bzw. -suspension
EP0463304B1 (de) Verfahren zur Herstellung von lagerstabilen wässrigen Natriumperoxomonosulfatlösungen
EP0031793A2 (de) Verfahren zur Herstellung von Phosphorsäure, bei dem Uran in einer gewinnbaren Form erhalten wird
DE2752482A1 (de) Aetzmittel zum aetzen von silicium
DE1771064C3 (de) Verfahren zum Ätzen von metallischem Kupfer mittels Wasserstoffperoxidlösung
DE2748279B2 (de) Verfahren zur Herstellung vonreiÄer Phosphorsäure aus Naßphosphorsäure
DE1592533C3 (enExample)
DE2053043A1 (de) Verfahren zur Herstellung von Magnesiumperchlorat hohen Reinheitsgrades
DE2340842A1 (de) Verfahren zur entfernung von quecksilber aus hochkonzentrierter schwefelsaeure

Legal Events

Date Code Title Description
OHJ Non-payment of the annual fee