DE2440344C3 - Elektronenlinsensystem - Google Patents

Elektronenlinsensystem

Info

Publication number
DE2440344C3
DE2440344C3 DE2440344A DE2440344A DE2440344C3 DE 2440344 C3 DE2440344 C3 DE 2440344C3 DE 2440344 A DE2440344 A DE 2440344A DE 2440344 A DE2440344 A DE 2440344A DE 2440344 C3 DE2440344 C3 DE 2440344C3
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
elements
lens
pole elements
pole
electron beam
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE2440344A
Other languages
English (en)
Other versions
DE2440344A1 (de
DE2440344B2 (de
Inventor
Teruo Tokyo Someya
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Original Assignee
Nihon Denshi KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nihon Denshi KK filed Critical Nihon Denshi KK
Publication of DE2440344A1 publication Critical patent/DE2440344A1/de
Publication of DE2440344B2 publication Critical patent/DE2440344B2/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2440344C3 publication Critical patent/DE2440344C3/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
    • H01J37/153Electron-optical or ion-optical arrangements for the correction of image defects, e.g. stigmators

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Particle Accelerators (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Description

in der F i g. 3 dargestellt ist
Obgleich, wie schon erwähnt es in der Theorie möglich ist die sphärische Aberration durch das im vorstehenden beschriebene Linsensystem zu korrigieren, erweist es sich jedoch in der Praxis als etwas fragwürdig.
Die Fig.5 zeigt ein Ausführun,/5beispiel der Erfindung, bei der Zylinderlinsen 9 und 10 an der Strahleinlaßseite und an der Strahlauslaßseite einer Linsenanordnung 8, welche aus Vierpol- und Achtpolelementen zusammengesetzt ist angeordnet sind. Die Linse 9 bestimmt die Richtung des einfallenden Elektronenstrahles und die Linse 10 stellt die Brennweite frei hiervon ein. Demgemäß wird der Verlauf des Elektronenstrahls durch diese beiden Linsen eingestellt Hierdurch wird eine komplizierte Einstellung der Vierpollinsenanordnung vermieden. Das bedeutet, daß es ausreicht, lediglich eine Vierpollinsenanordnung zu verwenden, um den Bahnverlauf des hindurchtretenden Elektronenstrahles axial symmetriscn zu machen. Demgemäß kann die Anordnung 8 mittels eines festgelegten bestimmten Erregerstromes betrieben werden. Da darüber hinaus in der Vierpollinsenanordnung der Elektronenstrahl immer durch einen Bereich hindurchtritt, der nahe der optischen Achse liegt, was aufgrund der Wirkung der Linse 9 erfolgt, kann man eine ausreichende Linsenstarke durch einen schwachen Erregerstrom erreichan. Da dies der Fall ist kann man nichtmagnetische Spulenkörper für die Achtpollinsen verwenden und die Spulen der Vierpolelemente können um die gleichen Spulenkörper gewickelt sein, so daß sie die Vierpollinsenspulen überlappen. Die Linsenanordnung 8, welche in der F i g. 5 dargestellt ist ist wie oben beschrieben zusammengesetzt Es sind acht nichtmagnetische Spulenkörper axial asymmetrisch zur optischen Achse Z, in vier Stufen 11a, 11 b, lic und Wd, entlang der optischen Achse Zangeordnet
Die Fig. 6 zeigt einen Querschnitt längs der Linie C-C'in der F i g. 5. Aus diesen Figuren ist ersichtlich, daß die Achtpolelemente um die Spulenkörper a, b, c, d. e, f,g und h gewickelt sind, so daß die entsprechenden Magnetpole abwechselnd als N- und S-PoIe gepolt sind. Die Vierpolelemente sind um die Spulenkörper so herumgewickelt, daß sie die im vorstehenden erwähnten Elemente überlappen. Die Vierpolelemente sind dabei so gewickelt, daß sie die gleichen magnetischen Pole in entsprechenden Paaren, d. h. a und b, cund d, eund /und g und Λ bilden. Die Magnetpole der entsprechenden Paare sind abwechselnd als N- und S-PoIe gepolt. Es sei noch darauf hingewiesen, daß die Vierpollinsenanordnung und die Achtpolelemente unabhängig voneinander gesteuert werden können.
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen

Claims (1)

  1. Patentanspruch:
    Elektronenlinsensystem mit mehreren Vierpolelementen und Achtpolelcmenten zur Korrektur der sphärischen Aberrationen der Vierpolelemente und einer an der Einlaßseite der aus den Vierpol- und Achtpolelementen bestehenden Korrekturanordnung angeordneten rotationssymmetrischen Linse, welche den Elektronenstrahl nahe der optischen Achse verlaufend ausrichtet, dadurch gekennzeichnet, daß an der Auslaßseite der Korrekturanordnung (8) ebenfalls eine rotationssymmetrische Linse (10) angeordnet ist, die zur Änderung der Brennweite mit einem veränderlichen Erregerstrom beaufschlagbar ist, während die Korrekturanordnung (8) und die an der Einlaßseite der Korrekturanordnung angeordnete Lins^ (9) mit festgelegten Erregerströmen versorgt sind.
    Die Erfindung betrifft ein Elektronenlinsensystem mit mehreren Vierpolelementen und Achtpolelementen zur Korrektur der sphärischen Aberrationen der Vierpolelemente und einer an der Einlaßseite der aus den Vierpol- und Achtpolelementen bestehenden Korrekturanordnung angeordneten rotationssymmetrischen Linse, weiche den Elektronenstrahl nahe der optischen Achse verlaufend ausrichtet.
    Ein derartiges Elektronenlinsensystem ist aus »Optik 34«, Heft 3,1971, Seiten 285 bis 311 zur Ausbildung von beispielsweise einzelnen Atomen organischer Makromoleküle bekannt. Das System besteht dabei aus einem Vierpolelemente und Achtpolelemente enthaltenden Apianator und einer an der Einlaßseite dieses Apianators befindliche rotationssymmetrischen Linse, die, wie aus Seite 286 dieser Literaturstelle bekannt ist, dafür sorgt, daß alle von der Objektmitte ausgehenden Elektronen nahe bei der Achse bleiben. Die Fontlinse besteht aus zwei räumlich getrennten Wicklungen, wobei durch Änderung des Stroms der ersten Wicklung eine Scharfstellung des Bildes erfolgen kann.
    Ein aus der US-PS 29 19 381 bekanntes Elektronenlinsensystem besteht aus einer rotationssymmetrischen Objektivlinse und einer daran anschließenden Projektionslinse. Die Projektionslinse ist aus mehreren Vierpolelementen und mehreren Achtpolelementen zusammengesetzt, wobei die Achtpolelemente zur Korrektur der sphärischen Aberration der Vierpolelemente vorgesehen sind.
    In Elektronenstrahlgeräten, die einen abtastenden Elektronenstrahl verwenden, wie beispielsweise einem Rasterelektronenmikroskop oder einem Röntgenstrahlmikroanalysiergerät, ist man bestrebt, den Durchmesser des Elektronenstrahles bei der Abtastung zu verringern und die Stromstärke des abtastenden Elektronenstrahles zu erhöhen.
    Dies läßt sich in der Praxiis aufgrund des Auftretens von sphärischen Aberrationen nur schwierig durchführen. Aus »Journal of Applied Physics« Band 38,1967, Nr. 11, Seiten 4257 bis 4266, ist es bei einem Rasterelektronenmikroskop bekannt, zur Erzeugung des das Objekt abtastenden Elektronenstrahls mit geringem Durchmesser mehrere Vierpolelernente und zur Korrektur von deren sphärischer Aberration drei Achtpolelemente zu verwenden.
    Beim Betrieb der bekannten Linsensysteme ergeben sich dahingehend Schwierigkeiten, daß bei Änderung der Brennweite der Linse die Erregerströme der Vierpolelemente stark verändert werden müssen. Wenn ferromagnetische Substanzen als Spulenkörper für die Vierpolelemente verwendet werden, ergeben sich zwangläufig wiederum Aberrationen, optische Nacheilungen und dergleichen aufgrund der Hysterese der magnetischen Substanz. Verwendet man eisenfreie Spulen, dann benötigt man jedoch Erzeugungsstromstärken vom Vier- bis Fünffachen derjenigen, welche für Spulen mit Eisenkern benötigt werden. Um Oberhitzungen zu vermeiden, benötigt man dann ein zusätzliches Kühlsystem.
    Aufgabe der Erfindung ist es demgegenüber, ein Elektronenlinsensystem der eingangs genannten Art so zu verbessern, daß die Brennweite des Systems ohne Schwierigkeiten bei der Korrektur der sphärischen Aberration geändert werden kann.
    Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß an der Auslaßseite der Korrekturanordnung ebenfalls eine rotationssymmetrische Linse angeordnet ist, die zur Änderung der Brennweite mit einem veränderlichen Erregerstrom beaufschlagbar ist, während die Korrekturanordnung mit einem festgelegten Erregerstrom versorgt ist.
    Vorteilhaft ist bei der Erfindung noch, daß die sphärische Aberration ohne Nacheilung in der optischen Achse korrigiert werden kann.
    In den Figuren sind bevorzugte Ausführungsbeispiele der Erfindung dargestellt Die Erfindung soll an Hand dieser Ausführungsbeispiele noch näher erläutert werden. Es zeigt
    F i g. 1 eine schnittbildliche Ansicht eines Elektronenlinsensystems aus vier Vierpolelementen und drei Achtpolelementen,
    Fig.2 und 3 Querschnitte entlang der Linien A-A' und 5-ß'im Linsensystem der F i g. 1,
    Fig.4 eine Kurvendarstellung des Strahlverlaufes des Elektronenstrahles im Linsensystem der Fig. 1,
    F i g. 5 und 6 schematische Ansichten eines Ausführungsbeispiels der Erfindung.
    In den Fig. 1, 2 und 3 sind Vierpolelemente dargestellt, welche aus Erregerspulen IA, IS, lCund \D sowie aus Magnetspulenkörpern la, \b, Ic und \d bestehen, um die die Erregerspulen gewickelt sind. Diese Vierpolelemente können so erregt werden, daß sie an sich gegenüberliegenden Polen die gleiche Polarität aufweisen, wie das in der F i g. 2 dargestellt ist. Wenn man auf diese Weise verfährt, ergeben sich Strahlenbahnen des Elektronenstrahles Exz, welche auf die XZ-Ebene projiziert sind und eine Strahlenbahn des Elektronenstrahles Eyz, welche auf die VZ-Ebene projiziert ist, wie das in der Fig.4 dargestellt ist. Demgemäß wird der Strahlenverlauf innerhalb der Vierpolelemente so gesteuert, daß alle Strahlenverläufe der Elektronen, vom gleichen Objektpunkt 2 ausgehend, ein Bild in der gleichen Brennpunktlage 3 bilden. Darüber hinaus kann die sphärische Aberration der Linse durch Steuerung des Magnetfeldes, das von 3 Achtpolelementen herrührt, korrigiert werden. Diese Achtpolelemente sind ebenfalls axial angeordnet und bestehen aus Erregerspulen 4A) 4ß und 4C, die um Magnetspulenkörper 4a, 46 und 4c gewickelt sind. Die entsprechenden Achtpolelemente werden so erregt, daß die Pole, wenn sie entgegen dem Uhrzeigersinn gezält werden, d. h. in der Reihenfolge a, b, c, d, e, f, g, h, abwechselnd als Nord- bzw. Südpol gepolt sind, wie das
DE2440344A 1973-09-03 1974-08-22 Elektronenlinsensystem Expired DE2440344C3 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9908873 1973-09-03

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE2440344A1 DE2440344A1 (de) 1975-03-27
DE2440344B2 DE2440344B2 (de) 1976-09-30
DE2440344C3 true DE2440344C3 (de) 1982-04-15

Family

ID=14238133

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2440344A Expired DE2440344C3 (de) 1973-09-03 1974-08-22 Elektronenlinsensystem

Country Status (4)

Country Link
US (1) US3952198A (de)
DE (1) DE2440344C3 (de)
FR (1) FR2246058B1 (de)
GB (1) GB1463748A (de)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5492050A (en) * 1977-12-29 1979-07-20 Jeol Ltd Method and apparatus for astigmatic correction of scanning electronic microscope and others
DD134582A1 (de) * 1978-01-19 1979-03-07 Eberhard Hahn Verfahren und einrichtung zur justierung einer elektronenstrahlbearbeitungsanlage
US4414474A (en) * 1982-02-17 1983-11-08 University Patents, Inc. Corrector for axial aberrations in electron optic instruments
DE3235068A1 (de) * 1982-09-22 1984-03-22 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Varioformstrahl-ablenkobjektiv fuer neutralteilchen und verfahren zu seinem betrieb
US4687936A (en) * 1985-07-11 1987-08-18 Varian Associates, Inc. In-line beam scanning system
US4962309A (en) * 1989-08-21 1990-10-09 Rockwell International Corporation Magnetic optics adaptive technique
NL9100294A (nl) * 1991-02-20 1992-09-16 Philips Nv Geladen deeltjesbundelinrichting.
DE69733873T2 (de) * 1996-05-21 2006-04-06 Fei Co., Hillsboro Vorrichtung zur korrektur von linsenfehlern in teilchen-optischer geräte
DE10159308A1 (de) * 2001-12-04 2003-06-12 Ceos Gmbh Teilchenoptischer Korrektor
DE10159454B4 (de) * 2001-12-04 2012-08-02 Carl Zeiss Nts Gmbh Korrektor zur Korrektion von Farbfehlern erster Ordnung, ersten Grades
JP4275441B2 (ja) * 2003-03-31 2009-06-10 株式会社日立ハイテクノロジーズ 収差補正器付電子線装置
US7391034B1 (en) * 2005-03-16 2008-06-24 Kla-Tencor Technologies Corporation Electron imaging beam with reduced space charge defocusing
US7888652B2 (en) * 2006-11-27 2011-02-15 Nissin Ion Equipment Co., Ltd. Ion implantation apparatus
DE112018007289B4 (de) * 2018-05-10 2023-11-30 Hitachi High-Tech Corporation Multipol-linse, aberrationsverbesserer unter verwendung derselben und vorrichtung für einen strahl geladener teilchen

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2919381A (en) * 1956-07-25 1959-12-29 Farrand Optical Co Inc Electron lens
US3201631A (en) * 1959-01-02 1965-08-17 High Voltage Engineering Corp Short focus lens at focal point of long focus lens

Also Published As

Publication number Publication date
GB1463748A (en) 1977-02-09
FR2246058A1 (de) 1975-04-25
US3952198A (en) 1976-04-20
DE2440344A1 (de) 1975-03-27
DE2440344B2 (de) 1976-09-30
FR2246058B1 (de) 1978-02-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2440344C3 (de) Elektronenlinsensystem
EP0530640B1 (de) Abbildungssystem für Strahlung geladener Teilchen mit Spiegelkorrektor
EP0373399B1 (de) Abbildender Korrektor vom Wien-Typ für Elektronenmikroskope
DE69733873T2 (de) Vorrichtung zur korrektur von linsenfehlern in teilchen-optischer geräte
DE895635C (de)
DE10107910A1 (de) Teilchenstrahlsystem mit einem Spiegelkorrektor
DE112012001937B4 (de) Spin-Drehvorrichtung
DE2449000A1 (de) Elektronenstrahlkolonne mit ablenkvorrichtung
DE102013113476B4 (de) Elektromagnetische Objektivlinse für ein Multisäulen-Elektronenstrahl-Belichtungsgerät sowie Elektronenstrahl-Belichtungsgerät
EP1958231B1 (de) Korrektiv zur beseitigung des öffnungsfehlers 3. ordnung und des axialen farbfehlers 1. ordnung 1. grades
DE69213157T2 (de) Elektronenstrahlvorrichtung
DE887685C (de) Elektronenmikroskop mit magnetischer Fokussierung
DE2339340C2 (de) Elektronenröhre
DE1804199C3 (de) Korpuskularstrahlgerät zur wahlweisen Abbildung eines Präparates oder seines Beugungsdiagrammes
DE2747441B2 (de) Als Einzellinse ausgebildete Fokussierlinse in einem Elektronenstrahlerzeugersystem
EP1451847B1 (de) Teilchenoptischer korrektor
DE2213208B2 (de) Rotationssymetrisches, sphärisch korrigiertes korpuskularstrahloptisches Abbildungssystem
DE10217507A1 (de) Anordnung zur Abbildung des von einer Probe gepulst emittierten Teilchenensembles auf einem Detektor
DE857991C (de) Mit permanentmagnetischer Erregung arbeitende Elektronenlinse
EP0920709B1 (de) Elektronenoptische linsenanordnung mit spaltförmigem öffnungsquerschnitt
DE10136190A1 (de) Schlitzlinsenanordnung für Teilchenstrahlen
WO2002058101A1 (de) Elektrostatischer korrektor
DE2107770C3 (de) Spulenanordnung fur Justier und Korrekturelemente zur elektro magnetischen Beeinflussung von Bundein geladener Teilchen, insbesondere fur Sektorfeldlinsen in Massenspektrometern
DE3047166A1 (de) Elektronenlinse mit drei magnetpolstuecken
DE1098634B (de) Stigmator fuer die Korrektion eines Abbildungsfehlers von Elektronenlinsen

Legal Events

Date Code Title Description
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)
8339 Ceased/non-payment of the annual fee