DE2425311C2 - Walze zur Musterung von Oberflächen aus hochviskosem Material unter Bildung von unebenen strukturierten Mustern und ihre Verwendung - Google Patents

Walze zur Musterung von Oberflächen aus hochviskosem Material unter Bildung von unebenen strukturierten Mustern und ihre Verwendung

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Description

Die Erfindung betrifft eine Walze zur Herstellung von unebenen (konvexen und konkaven) Phantasiemustern unter Verwendung von hochviskosen Materialien, z. B. Anstrichmitteln.
Bisher wurden verschiedene Verfahren zur Herstellung von Mustern aus hochviskosen Materialien unter Verwendung einer Rolle oder Walze angewandt, jedoch wird die Wiedergabe der gebildeten Muster durch die Oberflächenbeschaffenheit der Walze oder das in die Walze gravierte Muster sowie durch die Drehung und den Bewegungszustand der Walze beeinflußt. Die bisher verwendeten verschiedenen Walzen sind hauptsächlich die Walzen mit glatter Oberfläche, poröse elastische Walzen mit Poren auf der Oberfläche, mit Übertragungsmustern gravierte Walzen, mit Reliefbildern gravierte Walzen usw. Zur Bildung eines Musters auf der zu behandelnden Oberfläche unter Verwendung dieser Walzen wird grundsätzlich die jeweilige Walze nur einmal mechanisch oder von Hand über die Unterlage geführt. Bei Verwendung einer Walze mit glatter Oberfläche wird das hierbei gebildete Muster nur in eine Schicht einer flachen Oberfläche eingebaut. Bei Verwendung eines porösen Elastomeren werden ein Tupfenmuster und ein feines unebenes Gefüge ausgebildet. Bei Verwendung von Übertragungs- und Reliefwalzen werden flache oder kleine unebene Druckmuster gebildet. In jedem Fall entspricht dieses Muster der Oberfläche der Walze, oder es steht in positiver und negativer Beziehung zu den Oberflächen, und dennoch besteht es aus einer Reihe von Musterelementen, die sich in Richtung der Drehbewegung der Walze ständig wiederholen, d. h. das Muster kann als ausgerichtetes Muster eingestuft werden.
Zur Herstellung des Musters bei dem vorstehend genannten Verfahren ist es — abgesehen von dem Fall, in dem das Muster augenblicklich maschinell auf der gesamten Oberfläche des zu musternden Gegenstandes gebildet wird — normale Praxis, die Walze bis zur Vollendung der ersten Bahn über die Oberfläche zu rollen, sie dann seitlich im rechten Winkel zu ihrer Drehbewegung am ihre Breite zu versetzen, sie parallel zur ersten Bahn über die Oberfläche zu rollen, bis die zweite Bahn beendet ist, und diese Bewegung zu wiederholen, bis das Muster auf der gesamten 5 Oberfläche gebildet worden ist Bei dieser Arbeitsweise weiden die Grenzlinien zwischen dem auf der ersten Bahn gebildeten Muster und dem auf der folgenden Bahn gebildeten Muster, d. h. die Ränder der Bahnen von Mustern sichtbar, und stellen eine auffallende
ίο Richtungsspur für das gebildete Muster dar. Diese Grenzlinienbildung fällt besonders ins Auge, wenn das Muster nach Art eines Druckverfahrens unter Verwendung einer Walze für den Übertragungsdruck oder Reliefdruck gebildet wird. Gegenstände, die in dieser Weise mit Mustern versehen werden, erfahren demgemäß eine starke Minderung ihres Handelswertes und vermitteln den starken Eindruck, daß das Muster künstlich gebildet worden ist.
Zur Herstellung des gewünschten Musters auf dem zu musternden Gegenstand, beispielsweise auf dem Wandmateriaf für Bauwerke, kann die Arbeit fabrikmäßig durchgeführt werden, aber in der Praxis wird diese Arbeit häufig in einer Phase vorgenommen, in der das zu musternde Element für das fertiggestellte Bauwerk gebraucht wird. Im letzteren Fall wird die Behandlung in den meisten Fällen von Hand mit einer Rolle oder Walze vorgenommen, aber in Abhängigkeit von den Arbeitsbedingungen ist es nicht immer möglich, die Walze mit gleichbleibender Richtung über die Oberfläehe zu rollen. Unter diesen Bedingungen gilt es somit als praktisch unmöglich, das gewünschte Muster mit der vorstehend genannten Walze für den Übertragungsdruck oder Reliefdruck gleichmäßig wie beim Druckverfahren auf die gesamte Oberfläche des Wandmaterials aufzubringen. Um diese Schwierigkeit auszuschalten, ist es üblich, Walzen aus einem porösen Elastomeren zu verwenden, mit denen es jedoch ein hoffnungsloses Unterfangen ist, das Muster gleichmäßig auf der gesamten Wandfläche durch gleichbleibendes
•»ο Rollen mit der Walze zu bilden. Es ist vielmehr notwendig, das gebildete Muster von Zeit zu Zeit durch Änderung der Richtung, in der die Walze über die Oberfläche gerollt wird, oder durch Überschneiden der Bahnen, in denen die Walze über die Wandfläche gerollt wird, zu verändern. Durch diese Arbeitsweisen entstehen natürlich Richtungsspuren auf dem in dieser Weise gebildeten Muster. Ferner verlaufen die Richtungsspuren nicht in einer bestimmten Richtung, sondern in verschiedenen Richtungen in Abhängigkeit von den Richtungsänderungen der Walze. Ferner verursacht das Rollen der Walze in sich überschneidenden Bahnen die unerwünschte Erscheinung der Raupenbildung (eine lineare Unebenheit, die auf hochviskosem Material in Richtung der Drehbewegung der Walze gebildet wird), die die gleichmäßige Bildung des gewünschten Musters verhindert.
In der beschriebenen Weise ergeben sich bei Verwendung eines hochviskosen Materials, in dem die gemusterte Prägung gebildet wird, und durch Überrollen mit einer gewöhnlichen Walze die Nachteile, daß das gebildete Muster eine direkte Wiedergabe der Oberflächenform dei Walze ist und im gebildeten Muster unerwünschte Erscheinungen in Abhängigkeit von der Art und Weise der Anwendung der Walze auftreten können.
Walzen und Verfahren der vorstehend genannten Art sind z. B. in dem Lexikon der Anstrichtechnik (1968), S. 202/203. 364/365 und 367 und den US-PS 53 922,
2 69 144, 4 30 284, 6 65 336, 14 36 155, 24 85 42S, 25 77 241 und 26 16 367 beschrieben.
Die Walzen 1 — 5 aus dem Lexikon der Anstrichtechnik haben kein konvexes Muster auf ihrer Oberfläche. Die Walzen 6—8 aus diesem Lexikon bestehen aus zwei oder mehreren Walzen, von denen eine ein konvexes Muster auf der Oberfläche aufweist und die andere oder die anderen Walzen keine Muster auf ihrer Oberfläche aufweisen, sondern dazu dienen, Farbe auf die Oberfläche der Musterwalzen zu bringen. Diese Walzen können nicht dazu verwendet werden, ein Muster auf der Oberfläche einer Beschichtungsmasse, die bereits auf der Oberfläche eines Substrats aufgebracht ist, zu bilden. Darüber hinaus wird gemäß vorliegender Erfindung nur eine Walze oder Rolle verwendet.
Gegenüber den in den obengenannten US-Patentschriften beschriebenen verschiedenen üblichen Walzen wurden mit der Walze gemäß der Erfindung Vergleichsversuche durchgeführt Dabei ergab sich, daß die mit den Walzen gemäß der Erfindung gebildeten Muster überhaupt keine Spur oder irgendein Anzeichen zeigen, in welcher Richtung die letzte und vorletzte Walzung mit der Walze vorgenommen worden ist und daß diese Muster sehr eben und gleichförmig sind, während ganz im Gegensatz dazu die Muster, die mit den Walzen und Rollen gemäß Stand der Technik hergestellt worden sind, ganz klar erkennen lassen, welche Richtung die letzten beiden Anwendungen der Walze genommen haben, wodurch ungleichmäßige und nicht glatte Muster erhalten werden.
Die Erfindung stellt sich die Aufgabe, die vorstehend genannten Nachteile auszuschalten und eine Walze zur Herstellung von Mustern verfügbar zu machen, bei denen das gebildete Muster keine direkte Wiedergabe der Oberflächenform der Walze ist und die unterschiedliche Anwendung der Walze bei Verwendung von hochviskosem Material keine unerwünschten Erscheinungen hervorruft, wobei die Möglichkeit geschaffen werden soll, mit Hilfe einer Walze, deren Oberflächenform den jeweiligen Anwendungsbedingungen angepaßt ist, unebene Phantasiemuster zu bilden, die nach den üblichen Verfahren der Musterherstellung nicht verwirklicht werden können.
Die Erfindung betrifft demgemäß die in den Ansprüchen dargelegten Gegenstände.
Die Erfindung wird nachstehend unter Bezugnahme auf die Abbildungen ausführlich beschrieben.
F i g. 1 zeigt in ausgebreiteter Form die Musterformen, die auf der Oberfläche der Walze gemäß der Erfindung zu bilden sind, und zwar jeweils ein Musterelement in den verschiedenen Formen;
F i g. 2(a) bis 6(a) zeigen in ausgebreiteter Form jeweils ein Beispiel des Musters, das auf der Oberfläche der Walze gemäß der Erfindung gebildet worden ist;
F i g. 2(b) bis 6(b) zeigen als Draufsicht die jnebenen Muster, die durch die Muster auf den entsprechenden Oberflächen der Walzen gebildet worden sind.
F i g. 1 zeigt als Beispiele für die Walze gemäß der Erfindung einzelne Musterelemente, die ?ls gebogene und gekrümmte erhabene Gebilde auf die Oberfläche der Walze aufgebracht worden sind, und zwar geschlossene ringförmige Musterelemente bei (a) bis (f), nicht vollständig, jedoch nahezu geschlossene Musterelemente bei (g) und (h), spiralförmige Musterelemente bei (i), ein Kurvenmuster bei (j) und Kombinationen dieser Elemente. Ein einzelnes Musterelement mit diesen Formen kann in ununterbrochenen Linien, unterbrochenen Linien oder punktierten Linien gebildet werden, wie bei (A), (B) und (C) dargestellt Ferner können die Musterelemente Kombinationen mehrerer gleicher Figuren sein, wie sie bei (a), (b), (f) und (g) dargestellt sind. Das Muster kann auch eine Kombination von sich schneidenden Musterelementen sein, wie bei (f) dargestellt
Durch Eingravieren mehrerer solcher Musterelemente im erhabenen Zustand in die gesamte Oberfläche der Walze können erfindungsgemäße Weizen hergestellt
ίο werden, die die bei (a) von F i g. 2 bis 6 in ausgebreiteter Form dargestellten verschiedenen Muster zeigen. Bei (a) von F i g. 4 bis 6 sind die erhabenen Gebilde schwarz ausgefüllt dargestellt, um den Umriß einer Mustereinheit deutlich zu veranschaulichen. Bei der Herstellung der vorstehend genannten Musterformen muß die Mehrzahl der jeweiligen erhabenen Gebilde an einer bestimmten Stelle eines Walzenabschnitts, beispielsweise längs der Linie II bis VI bei (a) von F i g. 2 bis 6 den gleichen Abstand zu den benachbarten erhabenen Gebilden haben. Diese Abstände müßten nicht genau gleich sein, sondern nach dem Augenmaß ungefähr die gleiche Beziehung zueinander haben. Wenn ein Musterelement nicht in Richtung der Drehbewegung der Walze oder parallel zu den Linien II bis VI bei (a) von F i g. 2 bis 6 ausgerichtet wird, sondern die Ausrichtung jedes Musterelements verschieden ist, wie in den Abbildungen dargestellt, können weitere Phantasiemuster auf dem zu musternden Gegenstand gebildet werden. Es ist ferner zweckmäßig, die relative Lage jedes Musterelements zu verändern, und vorzugsweise Musterelemente von verschiedener Größe oder die Muster oder die in Fig. 1 dargestellten Musterelemente in geeigneter Weise zu kombinieren. Wie ferner bei (a) von Fig.6 dargestellt, können die Musterelemente einander überschneiden, wobei die Musterelemente so angeordnet sind, daß die erhabenen Krümmungen und Bögen an den Schnittpunkten unterbrochen sind. Wie bereits erwähnt, ist es wesentlich, gewisse erhabene Gebilde, die ein Musterelement darstellen, auf einer gegebenen Seite der Walzenoberfläche in gleicher oder nahezu gleicher Beziehung zueinander anzuordnen.
Das Muster kann nach den vorstehenden Gesichtspunkten auf der Oberfläche der Walze gebildet werden.
Die Größe eines Musterelements kann in Abhängigkeit von der zu verwendenden Walze in geeigneter Weise bestimmt werden. Das gleiche gilt für den Abstand der gekrümmten und gebogenen erhabenen Gebilde und den Abstand jedes Musterelements. Dieser Abstand beträgt normalerweise 3 bis 50 mm, vorzugsweise 5 bis 20 mm. Die Dicke einer ununterbrochenen Linie, einer unterbrochenen Linie oder punktierten Linie, die das gekrümmte und gebogene erhabene Gebilde bilden, wird so gewählt, daß sie einem Musterelement entspricht. Sie sollte normalerweise 1 bis 50 mm, vorzugsweise 2 bis 20 mm betragen. Die Höhe des erhabenen Teils beträgt normalerweise 1 bis 50 mm, vorzugsweise 2 bis 20 mm.
Die Walze gemäß der Erfindung kann aus einem elastischen Werkstoff oder einem nicht-eiastischen Werkstoff bestehen. Bei Verwendung eines elastischen Werkstoffs muß dieser eine solche Elastizität haben, daß das erhabene Muster auf der Walze bei der Bildung des Musters auf dem zu musternden Gegenstand nicht vollständig deformiert wird. Als hochviskoses Material wird normalerweise ein wäßriges System verwendet, jedoch werden in gewissen Fällen auch in Lösungsmitteln gelöste Materialien verwenden. Von diesem
Gesichtspunkt aus sollte die Walze vorzugsweise aus einem lösungsmittelbeständigen Werkstoff, zweckmäßig aus einem Spezialkautschuk, Kunststoff usw. hergestellt werden.
Das für die Zwecke der Erfindung verwendete hochviskose Material muß eine solche Viskosität haben, daß ein mit Hilfe der vorstehend beschriebenen Walze auf der Schicht des viskosen Materials unebenes Muster sich nicht leicht verändert, bis das Material von sich aus oder durch entsprechende äußere Behandlung gehärtet ist. Das viskose Material kann eine Viskosität von etwa 2000 bis 50 000 cP haben. Die Höhe dieser Viskosität hat einen Einfluß auf die endgültige Oberflächenbeschaffenheit des mit der Walze gebildeten Musters. Beispielsweise wird bei Verwendung eines viskosen Materials mit niedriger Viskosität ein unebenes Muster gebildet, das sich im allgemeinen weich anfühlt. Das viskose Material kann somit in geeigneter Weise aus dem vorstehend genannten Bereich gewählt werden. Als viskose Materialien werden normalerweise Anstrichmittel, Zement, Gips, Mörtel und Ton verwendet, die allein oder in Mischung gebraucht werden können.
Bei der Durchführung der Erfindung ist es üblich, vorher eine Schicht des obengenannten hochviskosen Materials auf der Oberfläche des zu musternden Gegenstandes zu bilden. Die Dicke der Schicht wird in Abhängigkeit von dem Grad der Unebenheit des zu bildenden Musters und der Höhe der das Muster bildenden erhabenen Elemente auf der Walzenoberfläche gewählt. Die Walze kann maschinell oder von Hand mehrmals, vorzugsweise zwei bis fünfmal über den gleichen Teil der Schicht gerollt werden, um das unebene Phantasiemuster zu bilden. Die Musterbildung kann entweder mit einer einzelnen Walze oder mit kombinierten Walzen erfolgen. Das Überrollen mit der Walze kann entweder wiederholt in der gleichen Zone oder durch allmähliche Verschiebung der Zonen erfolgen, wobei die Walzen parallel geführt werden oder ihre Rollrichtungen sich überschneiden.
Bisher galt es als unmöglich, bei den üblichen Verfahren der Musterbildung die Walze mit dieser Häufigkeit und in der vorstehend beschriebenen Weise anzuwenden. Ferner wurde angenommen, daß bei Fühmng der Walze in der vorstehend beschriebenen Weise unerwünschte Bedingungen, z. B. Raupenbildung, Richtungsspuren des Musters usw., zum Zeitpunkt der Bildung des Musters auftreten würden. Gerade durch Verwendung einer Walze mit der vorstehend beschriebenen neuen Oberflächenform ist es jedoch möglich geworden, die Walzen in der vorstehend beschriebenen Weise beim Verfahren gemäß der Erfindung zu verwenden. Die nach d?m Verfahren gemäft der Erfindung gebildeten unebenen Muster sind demgemäß als neue Phantasiemuster anzusehen, die bei den üblichen Verfahren, z. B. beim Übertragungsdruck, bei dem das gebildete Muster eine genaue Wiedergabe der Oberflächenform der verwendeten Walze darstellt, nicht vorstellbar sind, und keinen direkten Zusammenhang mit der Oberflächenform der Walze haben.
Bei einer anderen Ausführungsform der Erfindung, d. h. einer anderen Methode zur Bildung des Musters, wird die Walze über die Oberfläche gerollt, während das hochviskose Material auf den zu musternden Gegenstand aufgebracht wird. Die Zuführung des hochviskosen Materials kann beispielsweise so erfolgen, daß man eine hohle Walze verwendet, den Hohlraum mit dem konkaven Teil der Walzenoberfläche verbindet und das viskose Material unter Druck aus einer geeigneten Versorgung dem Hohlraum der Walze zuführt und auf die Oberfläche der Walze auspreßt. Bei Verwendung von Walzen, die aus einem elastomeren Schaumstoff bestehen, kann die Walze in das viskose Material getaucht werden.
Nach der Bildung des gewünschten unebenen Musters bringt man dieses durch die Härtbarkeit des hochviskosen Materials selbst oder durch übliche äußere Einwirkung zum Erstarren. Auf diese Weise wird
ίο das gewünschte unebene Phantasiemuster erhalten. Anschließend kann das Muster nach Bedarf mit einem Pigment getönt werden. Ferner ist es möglich, am halberstarrten unebenen Muster die Oberseite der erhabenen Teile des Musters mit einem Spatel, Spachtel oder mit einer Rolle mit glatter Oberfläche abzuflachen oder das Muster mit einer Schleifvorrichtung zu polieren. Dann kann durch Tönen der gesamten Fläche des unebenen Musters und anschließendes Markieren nur der abgeflachten Oberseite der erhabenen Teile in einer anderen Farbe in der gleichen Weise ein weiterer dekorativer Effekt erzielt werden.
Die Erfindung wird in den folgenden Beispielen weiter erläutert.
^5 Beispiel 1
1) Walze
Verwendet wird eine Walze aus nichtelastischem Polyvinylformal, an deren Oberfläche die Unebenheiten
durch ein Epoxyharz als Grundiermittel ausgeglichen worden sind. Die Walze hat einen Innendurchmesser von 40 mm, einen Außendurchmesser von 72 mm und eine Länge von 180 mm. Auf der Oberfläche der Walze ist das bei (a) von Fig. 2 dargestellte Muster ausgebildet. Die Größe eines Musterelements beträgt 30 bis 40 mm sowohl in Längs- als auch Querrichtung. Die Abstände der Elemente betragen 5 bis 10 mm. Der erhabene Teil hat eine Dicke von 2 bis 4 mm und eine Höhe von 3 bis 4 mm.
2) Hochviskoses Material
Anstrichmiueliösung:
Epoxyharz 29,0Gew.-%
Verschnittmittel für Pigment 59,0 Gew.-%
Buntes Pigment 4,OGew.-°/o
Lösungsmittel 8,0Gew.-%
Härtemittel:
Härtemittel 30,0Gew.-%
Stabilisator 03 Gew.-%
Zusatzstoff 3,0Gew.-%
Verschnittmittel für Pigment 59,0 Gew.-%
Lösungsmittel 63 Gew.-%
Eine im Handel erhältliche dicke Anstrichfarbe auf Epoxyharzbasis, hergestellt durch Mischen der Anstrichmittellösung und des Härtemittels der vorstehend genannten Zusammensetzung im Gewichtsverhältnis von 4:1, wird verwendet Das Anstrichmittel hat eine Viskosität von 48 000 cP (bei 230C).
3) Bildung des unebenen, strukturierten Musters
Eine Schicht des viskosen Materials wird gebildet indem 42 g des vorstehend beschriebenen viskosen Materials mit einem Holzspatel auf eine flexible Platte (Schiefertafel) (300 mm x 200 mm χ 3 cm) aufgetragen werden. Über diese Schicht wird die oben beschriebene Walze zweimal in Längsrichtung, einmal links diagonal und einmal rechts diagonal (insgesamt viermal) gerollt
4) Nachbehandlung
Nach der Bildung des strukturierten Musters wird das Material 15 Stunden bei Raumtemperatur liegengelassen. Die Oberseite des erhabenen Teils des hierbei erstarrten unebenen Musters wird mit Sandpapier abgeflacht. Dann wird die gesamte Oberfläche des unebenen Musters durch Spritzauftrag mit Polyurethanharz-Emaillefarbe (hellgrün) beschichtet. Die Lackschicht wird 5 Stunden der Trocknung überlassen. Nach der Trocknung wird die gleiche Emaillefarbe (dunkelgrün) nur auf die Oberseite der erhabenen Teile des unebenen Musters mit der Rolle aufgetragen.
5) Das in dieser Weise gebildete unebene Muster hat ein weiches Gefüge wie Melonenhaut, wie in Fig. 2(b) dargestellt. Dieses Muster eignet sich für Innenräume (z. B. Vorhallen, Wandelhallen, Wohnzimmer, Sprechzimmer und Badezimmer).
Verschnittmittel für Pigment
und Füllstoff 60,0Gew.-%
Buntes Pigment 10,0Gew.-%
Verdickungsmittel 0,5 Gew.-%
Stabilisator 0,2 Gew.-°/o
Schaumverhütungsmittel 0,4 Gew.-°/o
Pilz- und Schimmelvernichtungsmittel 0,4 Gew.-%
Wasser 12,5Gew.-%
Beispiel 2
1) Walze
Eine Walze aus elastischem Polyvinylalkohol mit einem Innendurchmesser von 38 mm, einem Außendurchmesser von 80 mm und einer Länge von 180 mm und dem in Fig.3(a) dargestellten Muster auf der Oberfläche wird verwendet. Das einzelne Musterelement hat eine Länge von 40 bis 60 mm, eine Breite von 60 bis 90 mm, einen Abstand zu den benachbarten Elementen von 10 bis 15 mm, eine Dicke des erhabenen Teils von 5 bis 7 mm und eine Höhe des erhabenen Teils von 6 bis 7 mm.
2) Hochviskoses Material
Vinylacetat-Emulsion 16,0Gew.-%
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Verwendet wird eine im Handel erhältliche stark verdickte Anstrichfarbe auf Basis der Vinylacetat-Emulsion der vorstehend genannten Zusammensetzung. Das Anstrichmittel hat eine Viskosität von 22 00OcP (bei 18° C).
3) Bildung des unebenen, strukturierten Musters
Vor der Bildung des Musters wird die oben beschriebene Walze 5 Minuten in warmes Wasser getaucht, um das Material zu erweichen. Während das vorstehend beschriebene viskose Material der Walze von der seitlichen Stirnfläche in einer Menge von 800 g/Min, mit Hilfe einer luftlosen Druckspeisepumpe zugeführt wird, wird die Walze über die in Beispiel 1 beschriebene flexible Platte einmal senkrecht, einmal links diagonal und einmal rechts diagonal (insgesamt dreimal) gerollt Die aufgetragene Menge beträgt 130 g.
4) Nachbehandlung
Nach der Bildung des unebenen, strukturierten Musters wird der behandelte Gegenstand 2 Stunden liegengelassen. Wenn die Schicht halb erstarrt ist, wird die Walze über den erhabenen Teil des unebenen Musters gerollt, um den oberen Teil abzuflachen. Anschließend wird der Gegenstand 15 Stunden bei Raumtemperatur gehalten. Auf die gesamte Oberfläche des erstarrten unebenen Musters wird eine Metallanstrichfarbe auf Polyurethanharzbasis zweimal aufgetragen.
5) Das in dieser Weise gebildete unebene Muster hat das Gefüge von großen Figuren ohne jede Richtungsspur, wie in Fig. 3(b) dargestellt. Sie eignet sich für Außenflächen von Gebäuden.
Beispiel 3
1) Walze
Eine Walze, die aus dem gleichen Werkstoff wie die in Beispiel 2 beschriebene Walze besteht, einen Innendurchmesser von 38 mm, einen Außendurchmesser von 70 mm und eine Länge von 180 mm hat und auf der Oberfläche mit dem in Fig.4(a) dargestellten Muster versehen ist, wird verwendet. Das einzelne Musterelement hat eine Größe von 70 bis 80 mm (Umriß). Die einzelnen Elemente sind mit einem Abstand von 5 bis 8 mm angeordnet. Der erhabene Teil hat eine Dicke von 2 bis 3 mm und eine Höhe von 4 bis 5 mm.
2) Hochviskoses Material
Vinylacetat-Acrylharz-Emulsion 20,0Gew.-%
Füllstoff (Siliciumdioxyd) 40,0 Gew.-%
Verschnittmittel für Pigment 13,0Gew.-%
Buntes Pigment 12,0Gew.-%
Dispergiermittel l,5Gew.-%
Verdickungsmittel l,5Gew.-%
Wasser 12,0Gew.-%
Die im Handel erhältliche Spachtelmasse auf Basis der Vinylacetat-Acrylharz-Emulsion wird verwendet. Das Anstrichmittel hat eine Viskosität von 27 00OcP (bei 18°C).
3) Bildung des unebenen, strukturierten Musters
Auf die in Beispiel 2 beschriebene Weise wird die gesamte Walze erweicht, worauf das unebene Muster auf der flexiblen Platte gebildet wird. Das viskose Material wird der Walze in einer Menge von 560 g/Min, zugeführt. Die auf die Walze aufgetragene Menge beträgt 92 g.
4) Nachbehandlung
Nach der Bildung des unebenen Musters wird der behandelte Gegenstand zum Erstarren der Schicht 15 Stunden bei Raumtemperatur gehalten.
5) Das in dieser Weise gebildete unebene Muster hat das in F i g. 4(b) dargestellte nicht-ausgerichtete Gefüge und eignet sich sowohl für Innenflächen und Außenflächen von Gebäuden.
Beispiel 4
1) Walze
Eine Walze aus dem gleichen Werkstoff wie die in Beispiel 1 beschriebene Walze wird verwendet Sie hat einen Innendurchmesser von 43 mm, einen Außendurchmesser von 70 mm und eine Länge von 180 mm. Auf der Oberfläche ist das in Fig.5(a) dargestellte Muster ausgebildet Ein einzelnes Musterelement hat eine Größe von 40 bis 80 mm im Umriß. Der Abstand zwischen den Elementen beträgt 5 bis 8 mm, die Dicke
55
des erhabenen Teils 2 bis 3 mm und die Höhe des erhabenen Teils 3 bis 4 mm.
2) Hochviskoses Material
Ein stark verdicktes Anstrichmittel auf Basis der Vinylacetat-Emulsion der gleichen Zusammensetzung wie in Beispiel 2 wird verwendet.
3) Bildung des unebenen Musters
Auf die gleiche flexible Platte wie in Beispiel 1 wird das vorstehend genannte viskose Material in einer Menge von 110 g mit einem Holzspatel unter Bildung einer Schicht gleichmäßig aufgetragen. Dann wird die vorstehend genannte Walze zweimal in Längsrichtung, einmal links diagonal und einmal rechts diagonal (insgesamt viermal) über die Schicht gerollt.
4) Nachbehandlung
Nach der Bildung des strukturierten Musters wird der behandelte Gegenstand 15 Stunden bei Raumtemperatur gehalten. Die Oberseite des erhabenen Teils des erstarrten Musters wird mit grobem Sandpapier abgeflacht Dann wird eine Polyurethanharzfarbe (hellblau oder hellgrün) durch Spritzauftrag zweimal auf die gesamte Oberfläche des Musters aufgetragen. Das behandelte Werkstück wird dann 15 Stunden der Trocknung überlassen, worauf das gleiche Anstrichmittel (weiß) mit der Rolle nur auf die Oberseite der erhabenen Teile des abgeflachten unebenen Musters aufgetragen wird.
5) Das in der beschriebenen Weise gebildete unebene Muster hat ein richtungsloses Gefüge, das in Fig. 5(b) dargestellt ist, und eignet sich für die Innenflächen und Außenflächen von Gebäuden.
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Beispiel 5
1) Walze
Eine Walze aus dem gleichen Werkstoff und mit der gleichen Form, wie in Beispiel 4 beschrieben, wird verwendet. Die Oberfläche der Walze ist mit dem in F i g. 6(a) dargestellten Muster versehen. Ein Musterelement hat eine Größe von 60 bis 80 mm im Umriß. Der Abstand der Musterelemente beträgt 5 bis 8 mm, die ίο Dicke des erhabenen Teils 2 bis 3 mm und die Höhe des erhabenen Teils 3 bis 4 mm.
2) Hochviskoses Material
Die in Beispiel 2 beschriebene stark verdickte Anstrichfarbe auf Basis der Vinylacetat-Emulsion wird verwendet.
3) Bildung des unebenen Musters
Das Muster wird auf die in Beispiel 4 beschriebene Weise gebildet.
4) Nachbehandlung
Nach der Bildung des strukturierten Musters wird das behandelte Werkstück zum Erstarren der Schicht 15 Stunden bei Raumtemperatur gehalten. Dann wird eine Polyurethanharzfarbe (hellcremefarben) durch zweimaligen Spritzauftrag auf die gesamte Oberfläche aufgetragen, worauf das Werkstück 15 Stunden bei Raumtemperatur gehalten wird.
5) Das in dieser Weise gebildete strukturierte Muster hat das in Fig.6(b) dargestellte richtungslose Gefüge, das sich hauptsächlich für Außenflächen von Gebäuden eignet.
Hierzu 4 Blatt Zeichnungen

Claims (2)

Patentansprüche:
1. Walze zur Musterung von Oberflächen aus hochviskosem Material unter Bildung unebener, strukturierter Muster, wobei die Walze auf der Oberfläche erhabene Gebilde aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß die Gebilde auf der Oberfläche im ausgebreiteten Zustand die Form von gekrümmten, bogenförmigen, erhabenen Musterelementen aufweisen, die aus ununterbrochenen und/ oder unterbrochenen und/oder punktierten Linien bestehen, wobei die Abstände zwischen den gekrümmten, bogenförmigen, erhabenen Musterelementen gleich oder nahezu gleich sind.
2. Verwendung der Walze nach Anspruch 1 zur Bildung von unebenen, strukturierten Mustern, wobei man eine Schicht aus hochviskosem Material auf die Oberfläche des zu musternden Gegenstandes aufbringt und anschließend die Schicht mehrmals mit der Walze nach Anspruch 1 überrollt oder daß man die Walze nach Anspruch 1 mehrmals über die Oberfläche des zu musternden Gegenstandes rollt, während man das hochviskose Material der Walze zuführt.
DE2425311A 1974-05-24 1974-05-24 Walze zur Musterung von Oberflächen aus hochviskosem Material unter Bildung von unebenen strukturierten Mustern und ihre Verwendung Expired DE2425311C2 (de)

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FR7419617A FR2273675A1 (fr) 1974-05-24 1974-06-06 Procede de fabrication de motifs rugueux et rouleau servant a cet usage

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