DE2354592A1 - Photoresist-entwicklungsverfahren und vorrichtung zur durchfuehrung desselben - Google Patents

Photoresist-entwicklungsverfahren und vorrichtung zur durchfuehrung desselben

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DE2354592A1
DE2354592A1 DE19732354592 DE2354592A DE2354592A1 DE 2354592 A1 DE2354592 A1 DE 2354592A1 DE 19732354592 DE19732354592 DE 19732354592 DE 2354592 A DE2354592 A DE 2354592A DE 2354592 A1 DE2354592 A1 DE 2354592A1
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Germany
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container
ultrasonic vibrator
ultrasonic
photoresist
developed
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Pending
Application number
DE19732354592
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German (de)
English (en)
Inventor
Keiichi Suzuki
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/3014—Imagewise removal using liquid means combined with ultrasonic means
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03D—APPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03D13/00—Processing apparatus or accessories therefor, not covered by groups G11B3/00 - G11B11/00
    • G03D13/02—Containers; Holding-devices
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03D—APPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03D3/00—Liquid processing apparatus involving immersion; Washing apparatus involving immersion
    • G03D3/02—Details of liquid circulation
    • G03D3/04—Liquid agitators

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3122544A1 (de) * 1981-06-05 1982-12-30 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren und vorrichtung zum aetzen von durchbruechen in glasplatten

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3122544A1 (de) * 1981-06-05 1982-12-30 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren und vorrichtung zum aetzen von durchbruechen in glasplatten

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