DE2326731B2 - Halbleiteranordnung mit mehreren hall- elementen - Google Patents
Halbleiteranordnung mit mehreren hall- elementenInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Halbleiteranordnung mit einem Halbleiterkörper, der mehrere Hall-Elemente
mit nebeneinanderliegenden schichtförmigen, sich praktisch parallel zu einer Oberfläche des
Halbleiterkörpers erstreckenden Halbleiter-Hall-Körpern
enthält, welche Hall-Körper mit zwei Anschlußkontakten, mit deren Hilfe ein Strom in lateraler
Richtung durch die Hall-Körper hindurchgeführt wird, und mit mindestens einem weiteren Anschlußkontakt
versehen sind, über den die elektrischen Hall-Signale entnommen werden können, die in lateraler Richtung
senkrecht zu der Stromrichtung mit Hilfe eines Magnetfeldes erzeugt werden und deren Stromanschlußkontakte
parallel geschaltet sind.
Hall-Elemente mit einem schichtförmigen Hall-Körper, der als Insel in einer epitaktischen, auch weitere
Schaltungselemente enthaltenden Schicht eines Halbleiterkörpers ausgebildet ist, sind 2. B. aus der DT-OS
17 90 055 bekannt und haben einen großen Anwendungsbereich. Sie können z. B. in kollektorlosen
Elektromotoren verwendet werden, bei denen der elektrische Strom durch die Spulen abwechselnd mit
Hilfe elektronischer Schaltungselemente ein- und ausgeschaltet wird, die von einem Hall-Element
gesteuert werden. Weiter können derartige Halbleiteranordnungen z. B. als Verstärkerschaltungen ausgebildet
werden, deren Verstärkungsfaktor mit Hilfe der Hall-Elemente geregelt werden kann; auch können sie
als kontaktlose Schalter für z. B. Tastenfelder ausgebildet werden, wobei ein solcher Schalter zwischen den
»Ein«- und dem »Aus«-Zustand z. B. dadurch hin und her geschaltet werden kann, daß die Hall-Elemente in
bezug auf ein nichthomogenes Magnetfeld verschoben werden.
Der Halbleiterkörper des Hall-Elements weist, in einer Richtung quer zu einer Hauptoberfläche des
Halbleiterkörpers gesehen, meistens eine im wesentlichen rechteckige Form auf, wobei die Elektroden zum
Hindurchführen des Stromes auf zwei einander gegenüberliegenden kurzen Seiten des Rechtecks
angebracht sind.
Obgleich bei einer Anzahl Anwendungen ein Anschlußkontakt zum Entnehmen des Hall-Signals
ausreicht, sind in den meisten Fällen zwei Kontakte angebracht, zwischen denen das Hall-Signal entnommen
werden kann. Für diese Anschlußkontakte kann der Halbleiterkörper, durch den der Strom hindurchgeführt
wird, noch mit lateral hervorragenden Teilen versehen sein. Dadurch kann die ganze Breite des Halbleiterkörpers
zum Entnehmen der elektrischen Hall-Signale benutzt werden. Außerdem können größere Anschlußkontakte
zum Entnehmen des Hall-Signals angebracht
werden, als wenn die Anschlußkontakte direkt auf dem Teil des Halbleiterkörpers angebracht werden, durch
den der Strom hindurchgeführt wird.
Es ist bekannt, daß eine Größe, die bei praktisch jeder Anwendung eines Hall-Elements eine wichtige Rolle S
spielt, durch die Nullspannung des Hall-Elements gebildet wird. Dabei ist unter Nullspannung die
Erscheinung zu verstehen, daß beim Betrieb der Spannungsunterschied zwischen den AnschlußKontakten
zum Entnehmen des Hall-Signals beim Fehlen eines Magnetfeldes nicht gleich Null ist. Nullspannung kann
z. B. als die Größe des genannten Spannungsunterschiedes ausgedrückt werden. Oft wird jedoch die Nullspannung
auch als die Größe des Magnetfeldes ausgedrückt,
bei der kein Spannungsunterschied mehr zwischen den genannten Anschlußkontakten gemessen wird.
Diese Nullspannung ist in einer Vielzahl von Anwendungen unerwünscht und im allgemeinen wird
man versuchen, die Nullspannung Hal'i-Elements möglichst
klein zu halten, insbesondere dadurch, daß die Anschlußkontakte zum Entnehmen der Hall-Signale
möglichst genau in bezug aufeinander positioniert werden Eine derartige genaue Positionierung der
Anschlußkontakte erweist sich in den meisten Fällen jedoch als ungenügend, um zu verhindern, daß eine
Nullspannung auftritt, wie nachstehend noch dargelegt wird, so daß im allgemeinen doch die Tatsache
berücksichtigt werden muß, daß beim Betrieb das Hall-Element eine Nullspannung aufweist. Dies bedeutet
u. a., daß bei vielen Anwendungen eines Hall-Elements
das benötigte magnetische Steuerfeld größer sein muß als erforderlich wäre, wenn das Hall-Element keine
oder nur eine vernachlässigbare Nullspannung aufweisen würde. Es stellt sich heraus, daß durch das Auftreten
einer Nullspannung häufig sogar Magnetfelder von 1500
Gauß oder mehr erforderlich sind, wobei bemerkt wird, daß derartige starke Felder im allgemeinen nicht ohne
Mittel zum Erreichen zusätzlicher Feldkonzentrationen realisierbar sind.
Eine Halbleiteranordnung der eingangs genannten Art (IBM Technical Disclosure Bulletin, 12 [1970], 12,
2163) enthält neben dem eigentlichen Hall-Element ein zweites Hall-Element, das dieselbe Nullspannung
aufweisen soll als das eigentliche Hall-Element. Während des Betriebes wird zwischen den Hall-Elementen
die Differenz ihrer Hall-Spannungen entnommen, wobei davon ausgegangen wird, daß das
Magnetfeld nur auf das erste, eigentliche Hall-Element einwirkt. Oft weisen jedoch die Magnetfelder eine
solche Ausdehnung auf, daß eine solche Anordnung nicht angewendet werden kann.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Hall-Element zu schaffen, das keine oder nur eine
geringe Nullspannung aufweist.
Die Erfindung geht dabei u. a. von der Erkenntnis aus, daß es möglich ist, Hall-Elemente mit einander
entgegengesetzten Nullspannungen zu erhalten und durch Parallelschaltung derartiger Elemente ein kombiniertes
Hall-Element mit einer wenigstens teilweise kompensierten Nullspannung zu bilden.
Es sei bemerkt, daß zwei Hall-Elemente dadurch parallel geschaltet werden können, daß die Anschlußkontakte
zum Hindurchführen eines Stromes eines Hall-Elements mit denen des anderen Hall-Elements
verbunden werden und daß ebenfalls die Kontakte, über die den Hall-Elementen die Hall-Signale entnommen
werden können, derart miteinander verbunden werden, daß die miteinander verbundenen Kontakte beim
Betrieb und bei einem vorgegebenen Magnetfeld ein Hall-Signal der gleichen Polarität abgeben.
Der Erfindung liegt weiter die Erkenntnis zugrunde, daß eine derartige Kompensation möglich ist, indem die
Nullsparinung zu einem großen Teil durch Störungen und Ungleichmäßigkeiten in dem Halbleiterkörper
herbeigeführt wird, die nicht örtlich begrenzt sind, sondern die sich über einen verhältnismäßig großen Teil
des Halbleiterkörpers erstrecken. Derartige Störungen
und Ungleichmäßigkeiten ermöglichen es, in einem Halbleiterkörper Hall-Elemente anzubringen, deren
Nullspannungen einander entgegengesetzt sind, wie nachstehend erläutert wird.
Die störenden Einflüsse, infolge deren ein Hall-Element beim Betrieb beim Fehlen eines Magnetfeldes
dennoch eine Spannung ungleich Null abgibt, können in zwei Arten unterschieden werden. Eine erste Art wird
durch Störungen gebildet, die örtlich begrenzt sind und z. B. durch örtliche Kristallfehler im Halbleiterkörper
herbeigeführt werden.
Eine zweite Art Störungen wird durch Störungen gebildet, die sich, wie oben bereits angegeben wurde,
über ein großes Gebiet des Halbleiterkörpers erstrekken und sich z. B. als eine gleichmäßige Änderung des
Quadratwiderstandes im Halbleiterkörper äußern. Unter derartigen Störungen sind z. B. Ungleichmäßigkeiten
im Halbleiterkörper, wie eine allmähliche Änderung der Dicke des Halbleiterkörpers oder eine allmähliche
Änderung der Dotierungskonzentration im Halbleiterkörper zu verstehen. Der Einfluß dieser Ungleichmäßigkeiten
im Halbleiterkörper auf die Nullspannung — der, sofern er durch die genannten Ungleichmäßigkeitcn
herbeigeführt wird, praktisch konstant ist — könnte teilweise z. B. dadurch herabgesetzt werden, daß
während der Herstellung eines Hall-Elements das Ausgangsmaterial äußerst genau gewählt wird. Eine
derartige Selektion weist jedoch den Nachteil auf, daß die Ausbeute bei der Herstellung erheblich herabgesetzt
werden kann.
Außerdem wird der Effekt einer derartigen Selektion dadurch beeinträchtigt, daß insbesondere beim Betrieb
des Hall-Elements, weitere Störungen der genannten zweiten Art im Halbleiterkörper auftreten können, die
eine allmähliche Änderung des spezifischen Widerstandes oder des Quadratwiderstanries des Halbleitermaterials
zur Folge haben können. Derartige Störungen mit einem damit einhergehenden Gradienten im Quadratwiderstand
können z. B. durch die Abführung der Verlustleistung beim Betrieb des Hall-Elements herbeigeführt
werden, die einen Temperaturgradienten im Halbleiterkörper zur Folge haben kann.
Wichtige Störungen, die sich über einen verhältnismäßig großen Teil des Halbleiterkörpers erstrecken und
eine allmähliche Änderung des Quadratwiderstandes im Halbleiterkörper zur Folge haben, können weiter durch
Spannungen und Druckunterschiede im Halbleiterkörper herbeigeführt werden.
Derartige Druckunterschiede werden z. B. durch die Umhüllung eingeführt, die am Ende des Herstellungsvorgangs
rings um den Halbleiterkörper angebracht wird. Diese Druckgradienten sind im allgemeinen nicht
konstant als Funktion der Zeit Dadurch, daß außerdem, wie sich herausgestellt hat, die Druckempfindlichkeit
eines Hall-Elements besonders groß sein kann, kann die Nullspannung infolge eines Druckgradienten im Halbleiterkörper,
ebenso wie die Änderung in der Nullspannung infolge der Änderungen im Halbleiterkörper,
besonders groß sein.
Zusammenfassend kann daher festgestellt werden, daß es, sogar wenn als Ausgangskörper ein praktisch
homogener und gleichmäßiger Halbleiterkörper für die Herstellung eines Hall-Elements verwendet wird, doch
wahrscheinlich ist, daß im Halbleiterkörper Störungen auftreten werden, die sich über einen verhältnismäßig
großen Teil des Halbleiterkörpers erstrecken und die eine Nullspannung des Hall-Signals zur Folge haben
können.
Wenn nun in einem Ausgangskörper zwei Hall-Elemente angebracht werden, werden die Nullspannungen
dieser Hall-Elemente, sofern sie von Störungen der zuerst genannten Art herrühren, unkorreliert sein.
Dagegen werden die Nullspannungen, sofern sie durch Störungen der zuletzt genannten Art herbeigeführt
werden, miteinander korreliert sein.
Untersuchungen, die zu der vorliegenden Erfindung geführt haben, haben weiter ergeben, daß, indem in
einem Halbleiterkörper Hall-Elemente mit verschiedenen Stromrichtungen angebracht und diese Hall-Elemente
paraUel geschaltet werden, ein kombiniertes Hall-Element mit einer geringeren Nullspannung als die
gesonderten Hall-Elemente erhalten werden kann.
Dies bedeutet, daß die Nullspannung eines Hall-Elements in erheblichem Maße durch Störungen bestimmt
wird, die sich über einen verhältnismäßig großen Teil des Halbleiterkörpers erstrecken, und daß Kompensation
der Nullspannung möglich ist.
In Anwendung dieser Erkenntnisse wird also die
obengenannte Aufgabe bei einer Halbleiteranordnung der eingangs genannten Art erfindungsgemäß dadurch
gelöst, daß auch die Anschlußkontakte für die Hall-Signale parallel geschaltet sind und daß die
Hall-Elemente verschiedene Stromrichtungen aufweisen.
Aus einer Vielzahl von Messungen hat sich ergeben, daß sowohl die mittlere Größe der Nullspannung als
auch die statistische Streuung in der Nullspannung einer Halbleiteranordnung nach der Erfindung erheblich
geringer sind als bei bekannten, nur aus einem einzigen Bauelement bestehenden Hall-Elementen.
Außerdem hat sich herausgestellt, daß die Temperaturempfindlichkeit
und insbesondere die Druckempfindlichkeit einer Halbleiteranordnung nach der Erfindung
gering sind, wodurch die Stabilität erheblich größer als bei den bekannten Hall-Elementen ist. Dadurch ist bei
vielen Anwendungen eines Hall-Elements, wie z. B. in kollektorlosen Motoren, ein Magnetfeld von weniger als
1500 Gauß ausreichend, was in baulicher Hinsicht große
Vorteile bietet.
Die Hall-Elemente weisen je zwei Kontakte zum Hindurchführen des Stromes auf. Entsprechende Kontakte
der verschiedenen Hall-Elemente können miteinander z. B. mittels einer Metallschicht verbunden sein,
die auf einer auf der genannten Oberfläche des Halbleiterkörpers angebrachten passivlerenden und
isolierenden Schicht niedergeschlagen und über eine oder mehrere öffnungen in dieser isolierenden Schicht
mit den Hall-Elementen verbunden ist und die einen Anschlußkontakt für die gesamte Anordnung bildet. Die
Kontakte können aber auch auf der Außenseite, d. h. außerhalb der üblichen Umhüllung, miteinander verbunden
werden.
Weiter weist jedes Hall-Element mindestens einen, in den meisten Fällen jedoch zwei Kontakte zum
Entnehmen der Hall-Signale auf. Dabei können entsprechende Kontakte der Hall-Elemente ebenfalls
sowohl auf der Innen- als auch auf der Außenseite miteinander verbunden werden.
Die Nullspannungen der Hall-Elemente werden sich um so besser ausgleichen, um so größer die Korrelation
zwischen den Störungen in den Hall-Körpern der Hall-Elemente ist. Daher ist eine bevorzugte Ausführungsform
einer Halbleiteranordnung nach der Erfindung dadurch gekennzeichnet, daß die Hall-Elemente,
auf die Oberfläche des Halbleiterkörpers gesehen, nahe beieinander liegen und höchstens durch ein zwischenlie-
lo' gendes Isoliergebiet voneinander getrennt sind.
Falls die Hall-Elemente nich untereinander gleich sind, z. B. dadurch, daß die Längsabstände zwischen den
stromführenden Kontakten verschieden sind, sollen die Kontakte zum Entnehmen der Hall-Spannung der
is verschiedenen Hall-Elemente derart angebracht sein,
daß die Hall-Elemente an der Stelle dieser Kontakte beim Betrieb und beim Fehlen eines Magnetfeldes,
abgesehen von Nullspannungen, praktisch das gleiche Potential aufweisen.
Weiter haben Messungen an einer Anzahl praktisch identischer und in demselben Halbleiterkörper angebrachter
H all-Elemente mit voneinander verschiedenen Stromrichtungen ergeben, daß die Nullspannung eines
Hall-Elements von der Stromrichtung dieses Hall-Ele-
2s ments abhängig ist, und zwar derart, daß die
Nullspannung als Funktion des Zweifachen des Winkels zwischen der Stromrichtung und einer beliebigen
Achse parallel zu der Oberfläche des Halbleiterkörpers etwa einen kosinusförmigen oder einen etwa sinusförmigen
Verlauf aufweist. Außerdem hat sich gezeigt, daß das genannte kosinusartige Verhalten im allgemeinen
um so besser ist, je näher die Hall-Elemente beieinanderliegen, was auch ein Grund dafür ist, in einer
Halbleiteranordnung nach der Erfindung die HaII-EIemente möglichst nahe beieinander anzuordnen.
Aus dem beschriebenen kosinusartigen Verhalten der Nullspannung ergibt sich weiter, daß für bestimmte
Werte des Winkels zwischen der Stromrichtung eines Hall-Elements und der genannten zu der Oberfläche des
Halbleiterkörpers parallelen Achse die Nullspannung des Hall-Elements praktisch gleich Null sein kann. Diese
Tatsache könnte dazu benutzt werden, ein einfaches Hall-Element, dessen Nullspannung praktisch gleich
Null ist, herzustellen. In der Praxis erweist sich dies jedoch als besonders schwierig, u.a. infolge der
Tatsache, daß sich der Winkel zwischen der Stromrichtung und der genannten Achse, für den die Nullspannung
praktisch gleich Null ist, im Laufe der Zeit ändern kann.
so Eine bevorzugte Ausführungsform mit einer sehr guten Kompensation ist daher dadurch gekennzeichnet
daß die Hall-Elemente einander praktisch gleich sind und Stromrichtungen aufweisen, bei denen die Summe
der Kosinuswerte des Zweifachen der Winkel zwlscher
SS der Stromrichtung jedes der Hall-Elemente und elnei
beliebigen zu der Oberfläche des Halbleiterkörper! parallelen Achse praktisch gleich Null iit.
Eine günstige Konfiguration ist dabei dadurcl gekennzeichnet, daß Halbleiteranordnung nnch dei
Erfindung eine Anzahl von Hall-Elementen enthält deren Stromrlchtungen zu den Hauptdiagonalen eine
regelmäßigen Vielecks praktisch parallel sind und dal die Zahl er Ecken dieses Vielecks gleich den
Zweifachen der Zahl der Hall-Elemente ist.
Die Anzahl der Hall-Elemente kann durch ein Anzahl Faktoren, wie das verfügbare Volumen de
Halbleiterkörpers und die maximal abzuleitende Vet lustlelstung, bestimmt werden. Im allgemeinen wird di
Kompensation der Nullspannung besser sein, um so größer die Zahl der Hall-Elemente ist. Insbesondere
kann bei einer großen Anzahl von Hall-Elementen der Vorteil erhalten werden, daß auch die Nullspannungen
der Hall-Elemente, sofern sie durch die zufälligen Fehler im Kristallgitter herbeigeführt werden, sich ausmitteln
können. Dabei kann aber die Verlustleistung ebenfalls hoch werden, weil, zum Erhalten einer Hall-Spannung
einer bestimmten Größe bei einem vorgegebenen Magnetfeld, der vom Hall-Element zuführende Strom
der Anzahl der Hall-Elemente proportional ist.
Eine bevorzugte Ausführungsform einer Halbleiteranordnung nach der Erfindung, bei der die Verlustleistung
minimal ist, ist dadurch gekennzeichnet, daß sie zwei Hall-Elemente enthält, deren Stromrichtungen
zueinander praktisch senkrecht sind.
Nach einer weiteren bevorzugten Ausführungsform, die auch große Vorteile aufweist, enthält die Halbleiteranordnung
nach der Erfindung drei Hall-Elemente, deren Stromrichtungen Winkel miteinander einschlie-Ben,
die praktisch gleich 120° sind.
Es sei bemerkt, daß in dieser Ausführungsform — gleich wie in den obenstehenden Ausführungsformen —
die Summe der Kosinuswerte des Zweifachen der Winkel zwischen der Stromrichtung jedes der Hall-EIemente
und einer beliebigen zu der Oberfläche des Halbleiterkörpers parallelen Achse praktisch gleich
Null ist.
Der Halbleiterkörper kann z. B. aus einer geeigneten
AmBv-Verbindung, wie z. B. Indium-Antimonid oder
Indium-Arsenid, bestehen. In einem derartigen Halbleiterkörper
können die Hall-Elemente z. B. dadurch gebildet werden, daß in den Halbleiterkörper eine Nut
geätzt wird, die die zu den Hall-Elementen gehörigen Teile des Halbleiterkörpers elektrisch nahezu völlig 3s
gegeneinander isoliert. Weiter kann als Halbleiterkörper eine Siliciumschicht dienen, die z. B. auf einem
Träger aus Isoliermaterial angebracht ist.
Eine bevorzugte Ausführungsform einer Halbleiteranordnung nach der Erfindung ist aber dadurch
gekennzeichnet, daß der Halbleiterkörper ein Substrat von eines Leitfähigkeitstyps und eine auf dem Substrat
angebracht epitaktische Schicht des entgegengesetzten Leitfähigkeitstyps enthält, und daß die Hall-Körper der
Hall-Elemente durch einen inselförmigen Teil der epitaktischen Schicht gebildet werden.
Eine Halbleiteranordnung gemäß dieser Ausführungsform
kann, wie aus der nachstehenden Figurbeschreibung hervorgehen wird, durch für die Herstellung
Integrierter Schaltungen allgemein übliche Techniken so
hergestellt werden. Diese Techniken können vorteilhaft zur Herstellung sogenannter diskreter Hall-Elemente
verwendet werden, wobei, außer den Hall-Elementen, Im Halbleiterkörper keine weiteren Schaltungselemente
angebracht werden. Die Hall-Elemente können jedoch in dieser Ausfuhrungsform auch mit anderen Schaltungselementen, wie z. B. Transistoren, Dioden, Widerständen und Kapazitäten, zu einer Integrierten Schaltung Integriert werden. Dies ist besonders wichtig, well
In vielen Fällen das Hall-Signal doch von einer Verstärkerschaltung verstärkt werden muß, deren
Schaltungselemente nun zusammen mit den Hall-Elementen in demselben Halbleiterkörper integriert
werden können.
In einer einfachen Ausfuhrungsform wird der Halbleiterkörper durch eine Anzahl gegeneinander
Isolierter und nahe beieinander liegender Inseln in der epitaktischen Schicht gebildet, die je zu einem der
Hall-Elemente gehören. Die Inseln können dabei auf übliche Weise durch schalenförmige Isolierzonen vom
entgegengesetzten Leitfähigkeitstyp oder dadurch ein schichtförmiges Muster aus Isoliermaterial, z. B. Siliciumoxyd,
das über wenigstens einen Teil seiner Dicke in den Halbleiterkörper versenkt ist, gegeneinander
isoliert werden.
Eine weitere bevorzugte Ausführungsform ist dadurch gekennzeichnet, daß die Hall-Körper der
Hall-Elemente einer Halbleiteranordnung nach der Erfindung eine Insel bilden, die eine Anzahl Teile
enthält, die sich von einem mittleren Teil der Insel her in lateraler Richtung in der epitaktischen Schicht erstrekken
und die je einen Teil des Hall-Körpers eines der Hall-Elemente bilden, daß der mittlere Teil der Insel den
Hall-Körpern der Hall-Elemente gemeinsam ist und mit einem ebenfalls gemeinsamen Anschlußkontakt zum
Hindurchführen eines Stromes in lateraler Richtung durch die Hall-Körper der Hall-Elemente versehen ist.
Diese bevorzugte Ausführungsart bietet u. a. den Vorteil, daß eine Raumersparung dadurch erhalten wird,
daß nun nicht jedes Hall-Element in der epitaktischen Schicht völlig von einer Isolierzone umgeben zu werden
braucht.
Einige Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in der
Zeichnung dargestellt und werden im folgenden näher beschrieben. Es zeigt
F i g. 1 eine Draufsicht auf einen Teil einer Halbleiteranordnung mit zwei Hall-Elementen,
F i g. 2 einen Querschnitt durch die Halbleiteranordnung nach F i g. 1 gemäß der Linie 11-11 der F i g. 1,
F i g. 3 eine Draufsicht auf einen Halbleiterkörper mit einer Anzahl schematisch dargestellter Hall-Elemente,
F i g. 4 den Verlauf der Nullspannung der in F i g. 3 dargestellten Hall-Elemente als Funktion der Stromrichtung,
Fig.5 eine schematische Draufischt auf einen anderen Halbleiterkörper mit einer Anzahl schematisch
dargestellter Hall-Elemente,
F i g. 6 eine Draufsicht auf einen Teil eines anderen Ausführungsbeispiels einer Halbleiteranordnung nach
der Erfindung,
Fig.7 einen Querschnitt durch die Anordnung nach
F i g. 6 längs der Linie VIl-VlI der F i g. 6, F i g. 8 schematisch die Anordnung nach F i g. 6,
F i g. 9 schematisch ein weiteres Ausführungsbeispiel
einer Halbleiteranordnung nach der Erfindung, und
F i g. 10 schematisch ein weiteres Ausführungsbeispiel einer Halbleiteranordnung nach der Erfindung.
Fig. 1 zeigt eine Draufsicht aut und Fig.2 einen
Querschnitt durch einen Teil einer Halbleiteranordnung mit einem Halbleiterkörper 50. Der Halbleiterkörper
enthält eine Hall-Anordnung 1 mit einem schiohtförml· gen Halbleiter-Hall-Körper 2, der sich praktisch parallel
zu einer Oberfläche Sl des Halbleiterkörpers SC erstreckt.
Der Hall-Körper 2 ist mit zwei Anschlußkontakten 3
und 4 versehen, mit deren Hilfe ein Strom in lateralei Richtung durch den Hall-Körper 2 hlndurchgefUhri
wird. Unter Anschlußkontakten sind dabei weiter alle Mittel zu verstehen, mit deren Hilfe der schichtförmlg«
Hall-Körper 2 mit einer Strom- oder Spannungsquell«
verbunden werden kann. Diese Mittel, von denen ir P i g. 1 u. a. die mit 3 und 4 bezeichneten Verbindungs
bahnen dargestellt sind, können also weiter auch z. G Kontaktflächen umfassen, mit deren Hilfe das HaII-EIe
ment an eine außerhalb der Üblichen Umhülluni befindliche Spannungsquelle angeschlossen werdei
709 634/24
Der Hall-Körper 2 ist weiter mit mindestens einem
Anschlußkontakt, im vorliegenden Ausführungsbeispiel jedoch zwei Anschlußkontakten 5 und 6 zum Entnehmen der elektrischen Hall-Signale, versehen, die in einer
lateralen Richtung quer zu der genannten Stromrichtuiig mit Hilfe eines Magnetfeldes senkrecht zu der
Oberfläche 51 des Halbleiterkörpers 50 erzeugt werden können.
Zur Herabsetzung der Nullspannung besteht die Hall-Anordnung 1 aus mehreren, im vorliegenden
Ausführungsbeispiel zwei, parallelgeschalteten Hall-Elementen 7 und 8. Diese Hall-Elemente enthalten je
einen schichtförmigen Halbleiter-Hall-Körper 11 bzw. 12, der sich parallel zu der genannten Oberfläche 51 des
Halbleiterkörpers 50 erstreckt.
Die Hall-Körper 11 und 12 liegen, auf die genannte Oberfläche 51 des Halbleiterkörpers 50 gesehen,
nebeneinander, wobei die Hall-Elemente 7 und 8 verschiedene Stromrichtungen aufweisen, die mit den
Pfeilen Pn und Pi2 angedeutet sind.
In der Hall-Anordnung können Störungen, die sich über ein verhältnismäßig großes Gebiet des Halbleiterkörpers 50 erstrecken, in jedem einzelnen der
Hall-Elemente 7 und 8 eine Nullspannung herbeiführen. Dadurch, daß jedoch diese Nullspannungen miteinander
korreliert sein werden und daß die Hall-Elemente auf richtige Weise in bezug aufeinander positioniert sind,
werden sich diese Nullspannungen wenigstens größtenteils ausgleichen, wodurch zwischen den Anschlußkontakten 5 und 6 zum Entnehmen der Hall-Signale nur eine
Nullspannung auftreten kann, die erheblich kleiner als die Nullspannungen ist, die in den einzelnen Hall-Elementen 7 und 8 auftreten können.
Dadurch, daß die genannten Störungen im Halbleiterkörper insbesondere durch die Temperatur- und
Druckempfindlichkeit des Halbleitermaterials herbeigeführt werden, weist die Hall-Anordnung weiter den
wichtigen Vorteil auf, daß, obgleich die Nuilspannungen der Hall-Elemente 7 und 8 infolge Druck oder
Temperaturänderungen stark variieren können, die Temperatur· und Drückempfindlichkeit der Kombination der parallelgeschalteten Hall-Elemente erheblich
kleiner als bei bekannten einfachen Hall-Elementen sind.
Eine Halbleiteranordnung nach der Erfindung weist weiter den Vorteil auf, daß bei vielen wichtigen
Anwendungen ein kleineres Magnetfeld als bei Anwendung eines bekannten Hall-Elements ausreichend ist.
Insbesondere können bei Anwendungen einer Halbleiteranordnung nach der Erfindung oft Magnetfelder
verwendet werden, die kleiner als ISOO Oauß sind, was in baulicher Hinsicht große Vorteile ergibt, well
derartige Felder im allgemeinen ohne Anwendung von Mitteln zur zusätzlichen Feldkonzentration realisiert
werden können.
Im vorliegenden Ausführungsbeispiel sind die Hall-Elemente 7 und 8 einander praktisch gleich. In diesem
Falle kann eine gute Kompensation der Null-Spannungen der einzelnen Hall-Elemente erhalten werden, wenn
die Hall-Elemente Sttromrlchtungen aufweisen, bei denen die Summe der Kosinuswerte des Zweifachen der
Winkel zwischen der Stromrichtung Jedes der Hall-Elemente und einer bliebigen zu der Oberflache des
Halbleiterkörpers parallelen Achse praktisch gleich Null ist.
Dies wird nunmehr an Hand der F i g. 3,4 und 5 näher
erläutert.
F i g. 3 zeigt eine Draufsicht auf einen Halbleiterkör
per mit einer Anzahl praktisch gleichen Hall-Elementer die nahe beieinanderliegen und schematisch mit den dii
Stromrichtungen darstellenden Pfeilen Pi-A angedeu
tet sind. Die Stromrichtungen Pi-Pe schließen, in de
mit P0 angegebenen Drehrichtung gesehen, Winke
(Xi-«8 mit einer beliebigen Achse A parallel zu de
Oberfläche des Halbleiterkörpers ein. Von den Winkeli
αϊ—«8 sind in Fig.3 der Deutlichkeit halber nur di<
Messungen haben ergeben, daß die Nullspannungei
der einzelnen Hall-Elemente als Funktion des Zweifa chen der Winkel α einen praktisch kosinusförmigei
Verlauf aufweisen, wie in F i g. 4 dargestellt ist.
Außerdem ergibt sich aus Fig.4, daß sich di(
Nullspannungen einer Anzahl der Hall-Elemente Pi-P bei Parallelschaltung der Hall-Elemente wenigsten:
größtenteils ausgleichen werden. So werden sich ζ. Β die Nullspannungen der Hall-Elemente P1, P2 und P
oder der Hall-Elemente P5, P6 und P8 oder dei
Hall-Elemente P2 und P3 größtenteils ausgleichei
können.
Die Nullspannungen z. B. der Hall-Elemente P2 und P
werden sich bei Änderungen der Störungen in
äußern - derart ändern können, daß der kompensie
rende Effekt verschwindet.
beliebige Hall-Elemente, deren Stromrichtungen zuein
->nder prak»isch senkrecht sind, parallel geschalte!
werden, die Nullspannungen dieser Hall-Elemente siel· stets größtenteils ausgleichen werden. Ein derartige!
Hall-Elementepaar wird in Fig.3 durch die HaII-EIe
mentc P1 und P3 gebildet. Auf ähnliche Weise werder
sich die Nullspannungen der drei Hall-Elemente, z. B. Pi
P4 und P6, die miteinander Winkel von etwa 120°
einschließen, größtenteils bei Parallelschaltung diesel Hall-Elemente ausgleichen können. Allgemein laßt sich
sagen, daß sich die Nullspannungen von Hall-Elementen, deren Stromrichtungen zu den Hauptdiagonalen
eines regelmäßigen Vielecks parallel sind, wobei die Anzahl Ecken dieses Vielecks gleich dem Zweifachen
der Anzahl Hall-Elemente ist, größtenteils ausgleichen
werden können. Zur Illustrierung sind in Fig.5
schematisch fünf Hall-Elemente P13-P17 dargestellt deren S'romrichtungen zu den Hauptdiagonalen eines
regelmüßigen Zehnecks parallel sind und deren Nullspannungen sich bei Parallelschaltung größtenteils
ausgleichen werden, wie aus Fig.4 deutlich ersichtlich
ist·
Im Ausführungsbeispiel nach den F i g. 1 und 2, in dem
zwei Hal.-Elemente vorgesehen sind, sind die Stromrichtungen Pn und P,j parallel zu den Diagonalen eines
Quadrats, wie auch deutlich ersichtlich ist.
Der Halbleiterkörper 50 enthält In dem hier zu
beschreibenden Ausführungsbeispiel ein Substrat 9 aus p-leitendem Silicium und eine auf dem Substrat
angebrachte η-leitende epitaktische Schloht to aus
Silicium. Die Hall-Körper It und 12 werden durch einen
Inselförmigen Teil der epitaktischen Schicht 10 gebildet
Dadurch kann die Hall-Anordnung mit Hilfe der
üblichen planaren Halbleitertechniken, die zur Herste!·
I!5J3Sä Schaltun8en angewandt werdeni
Außerdem kann die Hall-Anordnung In dieser
Au8fünrungsform mit anderen Schaltungselementen,
wie z.B. Transistoren, Dioden, Widerständen usw.,
integriert werden, von denen beispielsweise in den F i g. 1 und 2 nur ein Transistor mit einer Emitterzone
52, einer Basiszone 53 und einer Kollektorzone 54 dargestellt ist, wobei die Basiszone 53 mit dem Kontakt
5 des H all-Elements verbunden ist.
Im vorliegenden Ausführungsbeispiel werden die Hall-Körper 11 und 12 durch Inseln gebildet, die nahe
beieinanderliegen. Diese Inseln sind nur durch eine Isolierzone 13 gegeneinander isoliert, die völlig aus
einer Halbleiterzone vom gleichen Leitfähigkeitstyp wie das Substrat 9 besteht, aber die auch völlig oder
teilweise durch eine Zone aus Isoliermaterial, wie Siliciumoxyd, gebildet werden kann, das durch örtliche
Oxydation der epitaktischen Schicht 10 erhalten werden kann.
Die Hall-Elemente 7 und 8 sind dadurch parallel geschaltet, daß die Anschlußkontakte 3 und 4 (siehe
F i g. 1) zum Hindurchführen eines elektrischen Stromes, ebenso wie die Kontakte 5 und 6 zum Entnehmen der
elektrischen Hall-Sigale, mit den beiden Hall-Elementen
7 und 8 kontaktiert sind. Die Kontakte werden durch Metallbahnen gebildet, die von dem Halbleiterkörper
durch eine Isolierschicht 23 aus Siliciumoxyd getrennt sind, die auf der Oberfläche 51 des Halbleiterkörper 50
angebracht sind. Die Anschlußkontakte 3 und 4 sind an der Stelle von Kontaktöffnungen 14 und 15 in der
Isolierschicht 23 mit dem Hall-Element 7 und an der Stelle der öffnungen 16 und 17 mit dem Hall-Element 8
kontaktiert. Auf entsprechende Weise sind die Kontakte 5 und 6 zum Entnehmen der elektrischen Hall-Signale
an der Stelle der öffnungen 18 und 19 mit dem Hall-Element 7 und an der Stelle der öffnungen 20 und
21 mit dem Hall-Element 8 kontaktiert. Es sei bemerkt, daß die Isolierschicht 23 in Fig. 1 nicht gezeichnet ist
und daß daher die Kontaktöffnungen durch gestrichelte Linien bezeichnet sind. Außerdem sind in der epitaktischen
Schicht 10 an der Stelle der Kontaktfenster 14—20 niederohmigc und in F i g. 1 nicht dargestellte
Kontaktzonen 22 (siehe F i g. 2) angebracht, die den gleichen Leitfähigkeitstyp und eine höhere Dotierung
als die epitaktische Schicht 10 aufweisen.
Die Anschlußkontakte 3 und 4 bzw. 5 und 6 können mit z. B. äußeren Zufuhrleitern oder, wenn die
Hall-Anordnung einen Teil einer integrierten Schaltung bildet, mit anderen Schaltungselementen verbunden
werden, wie im vorliegenden Ausfuhrungsbeispiel veranschaulicht wird, indem der Kontakt 5 mit der
Basiszone 53 eines Bipolartransistors verbunden ist, dessen Emitter 52 mit dem Anschluß 55 und dessen
Kollektor 34 mit dem Anschluß 56 verbunden ist.
Bei der Herstellung der Halbleiternanordnung nach den F1 g. 1 und 2 wird von dem p-leitenden Substrat 9
aus Silicium mit einer Dicke von etwa 200 μπι und einem
spezifischen Widerstand von etwa 2Ω·αη ausgegangen.
Auf in der HaIbIe'tertechnologle übliche Weise wird
auf dem Substrat 9 die n-leitendo epitaktische
Slllciumschlcht 10 mit einer Dicke von etwa 10 μπι und
einem spezifischen Widerstand von etwa 0,5 Ω ■ cm angebracht.
Es sei bemerkt, daß In demselben Halbleiterkörper
zugleich mehrere Halbleiteranordnungen mit Hall-Elementen oder mehrere integrierte Schaltungen mit einer
Halbleiteranordnung mit Hall-Elementen hergestellt werden können, die dann in einer späteren Herstellungsstufe in einzelne Teile unterteilt werden können.
Nach dem Anbringen der epitaktischen Schicht 10 werden mit Hilfe der üblichen Photoresisttechniken die
p-leltenden Isolierzonen 13 durch Diffusion von Bor
angebracht. Die Isolierzonen 13 schließen die Inseln 11 und 12 ein und definieren auch die Kollektorzone 54 des
Bipolartransistors (52,53,54).
Die Inseln, die die Hall-Körper 11 und 12 der Hall-Elemente 7 und 9 bilden, weisen, in einer Richtung
quer zu der Oberfläche 51 des Halbleiterkörpers 50 gesehen, eine im wesentlichen rechteckige Form auf,
deren Abmessungen etwa 100 χ 250 μπι betragen. Diese
Inseln weisen weiter lateral hervorragende Teile für die
ίο Kontakte zum Entnehmen der Hall-Signale auf.
Mit Hilfe üblicher Maskierungs- und Diffusions- oder
lorienimplantationstechniken wird dann die p-leitende
Basiszone 53 angebracht. Zugleich mit der Basiszone 53 kann in jeder der Inseln 11 und 12 erwünschtenfalls eine
p-leitende Oberflächenzone angebracht werden, wodurch die Dicke der Hall-Körper 11 und 12 verringert
und somit der Widerstand vergrößert wird.
Durch Diffusion von Phosphor werden die Emitterzone 52, die Kontaktzonen 22 und eine übliche, in F i g. 1
auch nicht dargestellte Kollektorkontaktzone angebracht. Auf der epitaktischen Schicht 10 wird eine
isolierende und passivierende Schicht 23, z. B. aus Siliciumoxyd, angebracht, die an der Stelle der
Kontaktzonen 22 mit den Kontaktfenstern 14—21 und mit Fenstern 57, 58 und 59 zum Kontaktieren der
Emitterzone 52, der Basiszone 53 bzw. der Kollektorzone 54 des Transistors versehen wird.
Die Anschlußkontakte 3—6 der Hallanordnung, der Emitterkontakt 55 und der Kollektorkontakt 56 können
zugleich mit weiteren Verbindungsbahnen auf übliche Weise durch Ablagerung von Aluminium und mit Hilfe
üblicher Photoätztechniken angebracht v/erden.
Dann kann der Halbleiterkörper in dem, wie üblich, eine Vielzahl der hier beschriebenen Halbleiteranordnungen
zugleich hergestellt ist, in einzelne Elemente unterteilt werden, die in einer geeigneten Umhüllung
untergebracht werden können.
Zur lllusirierung des Effekts der Erfindung sei noch
bemerkt, daß eine Vielzahl von Messungen ergeben hat, daß die mittlere Größe der Nullspannung von
Hall-Elementen der beschriebenen Art praktisch gleich NuP ist und daß die statistische Streuung in den
Nullspannungen um einen Faktor 2 bis 3 und die Druckempfindlichkeit um einen Faktor 10 oder mehr
kleiner als bei den einzelnen Hall-Elementen ist, was bedeutet, daß bei einer Anzahl \on Anwendungen das
benötigte magnetische Streufeld um einen Faktor 2 kleiner sein kann als bei Anwendung eines einfacher
Hall-Elements.
so Nun wird an Hand der Fig.6 und 7 ein andere;
Ausführungsbeispiel einer Halbleiteranordnung nacl der Erfindung beschrieben. Die Anordnung nach P i g. 6
die in F1 g. 7 Im Querschnitt dargestellt ist, enthält einei
schichtförmigen Halbleiter-Hall-Körper 30, der, ebens«
js wie im vorangehenden Ausführungsbeispiel, durcl
einen inselförmigen Teil einer n-leitendon epitaktischei
substrat 32 angebracht ist, gebildet wird.
33 und 34 versehen, mit deren Hilfe ein Strom i lateraler Richtung durch den Hall-Körper 30 hindurch
geführt wird, während dieser Hall-Körper weiter zwt Anschlußkontakte 35 und 36 zum Entnehmen de
elektrischen Hall-Signale aufweist.
6s Zur Herabsetzung der Nullspannung weist di Halbleiteranordnung im vorliegenden Ausführungsbe
spiel drei parallelgeschaltete Hall-Elemente 37,38 un
39 auf, deren Stromrichtungen Pv-Pn zu de
Diagonalen eines regelmäßigen Sechsecks nach F i g. 8 parallel sind und miteinander Winkel einschließen, die
praktisch gleich 120° sind.
Es sei bemerkt, daß in diesem Ausführungsbeispiel ebenfalls die Summe der Kosinus werte des Zweifachen
der Winkel zwischen der Stromrichtung jedes der Hall-Elemente 37—39 und einer beliebigen zu der
Oberfläche des Halbleiterkörpers parallelen Achse praktisch gleich Null ist.
Die Hall-Elemente weisen je einen Hall-Körper auf, ιό
wobei die Hall-Körper der Hall-Elemente zusammen die Insel 30 bilden, die drei Teile 40, 41 und 42 enthält,
die sich von einem mittleren Teil 43 her in lateraler Richtung in der epitaktischen Schicht 31 erstrecken. Die
Teile 40—42 bilden einen Teil des Hall-Körpers eines der Hall-Elemente, wobei der Teil 40 einen Teil des
Hall-Körpers des Hall-Elements 37, der Teil 41 einen Teil des Hall-Körpers des Hall-Elements 38 und der Teil
42 einen Teil des Hall-Körpers des Hall-Elements 39 bildet. zo
Der mittlere Teil 43 der Insel 30 ist den Hall-Körpern der Hall-Elemente 37, 38 und 39 gemeinsam, wodurch
das Hall-Element 37 den Hall-Körper (40; 43), das Hall-Element 38 den Hall-Körper (41; 43) und das
Hall-Element 39 den Hall-Körper (42;43) enthält.
Der mittlere Teil 43 ist mit einem ebenfalls gemeinsamen Anschlußkontakt 34 zum Hindurchführen
eines Stromes in lateraler Richtung durch die Hall-Körper (40,41,42,43) versehen.
Die Insel 30 wird in p-leitenden Isolierzonen 44
begrenzt, die sich über die ganze Dicke der epitaktischen Schicht 31 bis zu dem p-leitenden Substrat 32
erstrecken. In der Insel 30 sind weiter eine Anzahl Kontaktzonen 45 angebracht, die den gleichen Leitfähigkeitstyp
wie und eine höhere Dotierung als die epitaktische Schicht 3t aufweisen.
Die Kontaktzonen 45 sind auf übliche Weise durch Fenster 47 in einer isolierenden und passivierenden
Schicht 46 aus Siliciumoxyd mit den Anschlußkontakten 33—36 verbunden, die die Hall-Elemente 37, 38 und 39
zueinander parallel schalten.
Es sei bemerkt, daß die Oxydschicht 46 in F i g. 6 nicht dargestellt ist und daß daher die Fenster 47 mit
gestrichelten Linien bezeichnet sind. Außerdem sind der Deutlichkeit halber die Kontaktzonen 45 in F i g. 6 nicht
dargestellt.
Die Anschlußkontakte 33—36 können weiter mit äußeren Zufuhrleitern verbunden sein. Es ist jedoch
auch möglich, daß z. B. nur die Anschlußkontakte 33 und 34 zum Hindurchführen eines elektrischen Stromes mit
äußeren Zufuhrleitern verbunden sind und daß die Anschlußkontakte 35 und 26 zur Entnahme der
elektrischen Hall-Signale mit anderen Schaltungselementen verbunden sind, die mit der Halbleiteranordnung
eine integrierte Schaltung bilden.
F i g. 9 zeigt schematisch ein drittes Ausführungsbeispiel einer Halbleiteranordnung nach der Erfindung mit
vier Hall-Elementen, die nur mit den Stromrichtungen P91 —Pm bezeichnet sind. Das in dieser Figur gezeigte
Ausführungsbeispiel bildet tatsächlich eine Verdopplung des an Hand der F i g. 1 und 2 beschriebenen
Ausführungsbeispiels und enthält zwei Gruppen von Hall-Elementen P9i, P92 und P93, Pm, wobei die
Nullspannungen der Hall-Elemente P91 und P92 sich, ebenso wie die Nullspannungen der Hall-Elemente P93
und P94, ausgleichen.
In diesem Ausführungsbeispiel ist u. a. eine bessere Kompensation zufälliger Fehler möglich, als mit nur
zwei Hall-Elementen mit zueinander senkrechten Stromrichtungen erzielbar ist.
Im vorliegenden Ausführungsbeispiel schließen die Stromrichtungen Pn und Pm Winkel von 180° mit den
Stromrichtungen P91 bzw. P92 ein. Die Stromrichtungen
P93 und Pm können aber auch einen beliebigen Winkel
mit den Stromrichtungen P91 bzw. P92 einschließen, wie
im Ausführuiigsbeispiel nach F i g. 10 dargestellt ist.
In diesem Ausführungsbeispiel werden ebenfalls schematisch vier Hall-Elemente mit den Stromrichtungen
P95-P98 bezeichnet. Die Stromrichtungen P95 und
P96 sind zueinander praktisch senkrecht, ebenso wie die
Stromrichtungen P97 und Pw- Die Stromrichtungen P97
und P98 schließen jedoch in diesem Ausführungsbeispiel einen beliebigen Winkel ungleich 180° mit den
Stromrichtungen P95 bzw. P% ein. Auch in diesem Falle
ist jedoch eine bessere Kompensation zufälliger Fehler möglich, als mit nur zwei Hall-Elementen mit zueinander
senkrechten Stromrichtungen erreichbar ist.
Die Hall-Elemente nach den Fig.9 und 10 können
weiter auf ähnliche Weise wie die Hall-Elemente gemäß der vorangehenden Ausfuhrungsbeispielen ausgebildet
werden.
Bisher wurden nur A isführungsbeispiele beschrieben,
in denen sich die Nullspannungen der Hall-Elemente maximal ausgleichen. Es sind jedoch auch Strukturen
möglich, bei denen die Nullspannungen der Hall-Elemente sich größtenteils, aber nicht maximal ausgleichen.
Eine derartige Struktur kann z. ß. dadurch erhalten werden, daß zwei Hall-Elemente mit zueinander
parallelen oder einander entgegengesetzten Stromrichtungen zu einem dritten Hall-Element parallel geschaltet
werden, dessen Stromrichtung quer auf den Stromrichtungen der beiden anderen. Hall-Elemente
steht. Die Nullspannungen werden sich dabei durchschnittlich zu etwa 70% ausgleichen.
Abweichend von den oben beschriebenen Ausführungsbeispielen kann statt eines aus Silicium bestehenden
Halbleiterkörpers auch ein Halbleiterkörper aus einem anderen Halbleitermaterial, insbesondere einer
A'"BV-Verbindung, wie z. B. Indiumarsenid oder Indiumantimonid,
verwendet werden.
Statt eines Substrats vom entgegengesetzten Leitfähigkeitstyp kann auch ein Substratkörper aus Isoliermaterial
Anwendung finden. Die Isolierzonen 13 in Fig. 2 und 44 in Fig.7 können auch durch Zonen aus
Isoliermaterial, z. B. Siliciumoxyd, gebildet werden, das mittels örtlicher Oxydation des Halbleiterkörpers
angebracht werden kann. Die dadurch erhaltene Oxydschicht kann sich dabei völlig oder teilweise über
die Dicke der epitaktischen Schicht erstrecken.
Die Leitfähigkeitstypen der in den Ausführungsbeispielen angegebenen Halbleitergebtete können durch
die entgegengesetzten Leitfähigkeitstypen ersetzt werden, wodurch η-leitende Zonen in p-leitende Zonen und
p-leitende Zonen in -η-leitende Zonen geändert werden.
Vorteilhaft kann der Widerstand des Hall-Körpers dadurch vergrößert werden, daß z. B. in den beschriebenen
Ausführungsbeispielen die Dicke des Hall-Körpers mittels einer p-leitenden Oberflächenzone verkleinert
wird, die, mit Ausnahme der Kontaktstellen, auf der ganzen Oberfläche des Hall-Körpers angebracht ist,
wodurch sich der Hall-Körper im wesentlichen zwischen dem p-leitenden Substrat und dieser p-leitenden
Oberflächenzone erstreckt Eine derartige Vergrößerung des Widerstandes kann auch mittels einer
p-leitenden vergrabenen Schicht erhalten werden, wobei im Substrat an der Stelle des Hall-Körpers eine
JL*
/ο
hochdotierte p-leitende Oberflächenzone angebracht ist, die sich während der Herstellung der Halbleiteranordnung
in der epitaktischen Schicht ausdehnt.
Weiter sind in den beschriebenen Ausführungsbeispielen die Hall-Elemente dauernd mittels der Anschlußkontakte
zum Hindurchführen eines Stromes und mittels der Anschlußkontakte zum Entnehmen der
elektrischen Hall-Signale parallel miteinander verbunden. Es leuchtet aber ein, daß die Hall-Elemente je für
sich mit Anschlußkontakten versehen sein können, die mit äußeren Zufuhrdrähten verbunden werden können,
wobei die Hall-Elemente, außerhalb oder innerhalb der üblichen Umhüllung, zueinander parallel geschaltet
werden können. Statt Metallstreifen, die sich über die Isolierschicht erstrecken, können zum Miteinanderverbinden
der Hall-Elemente auch Drähte verwendet
werden.
Weiter brauchen die Hall-Körper der Hall-Elemente
Weiter brauchen die Hall-Körper der Hall-Elemente
nicht notwendigerweise durch die die Hall-Körper umgebende Inselisolierung definiert zu werden. So kann
z. B. in dem AusführungsDeispiel nach den F i g. 6 und 7 ohne weitere Abänderung der Halbleiteranordnung die
Inseltsolierung 44, die aus p-leitendem Halbleitermaterial besteht und die die Teile 40, 41 und 42 lateral
voneinander trennt, durch η-leitendes Halbleitermaterial, also vom gleichen Leitfähigkeitstyp wie die Teile 40,
41 und 42 und somit wie die Hall-Körper der Hall-Elemente 37, 38 und 39, ersetzt werden. Dabei
liegen die Hall-Elemente also zusammen in einer Insel wobei die Hall-Körper der Hall-Eiemente nur durch die
Lage der Elektroden definiert werden. Obgleich die elektrischen Eigenschaften einer derartigen Halbleiter
anordnung etwas ungünstiger als die der Anordnunj nach den Fig.6 und 7 sein können, ist die Struktui
einfacher, was unter Umständen vorteilhaft sein kann.
Hierzu 4 Blatt Zeichnungen
Claims (9)
1. Halbleiteranordnung mit einem Halbleiterkörper, der mehrere Hall-Elemente mit nebeneinanderliegenden
schichtförmigen, sich praktisch parallel zu einer Oberfläche des Halbleiterkörpers erstreckenden
Halbleiter-Hall-Körpern enthält, welche Hall-Körper mit zwei Anschlußkontakten, mit deren
Hilfe ein Strom in lateraler Richtung durch die »° Hall-Körper hindurchgeführt wird, und mindestens
einem weiteren Anschlußkontakt versehen sind, über den die elektrischen Hall-Signale entnommen
werden können, die in lateraler Richtung senkrecht zu der Stromrichtung mit Hilfe eines Magnetfeldes '5
erzeugt werden, und deren Stromanschlußkontakte parallel geschaltet sind, dadurch gekennzeichnet,
daß auch die Anschlußkontakte (18,19, 20, 21) für die Hall-Signale parallel geschaltet sind,
und daß die Hall-Elemente (7, 8) verschiedene *<>
Stromrichtungen (Pw, Pu) aufweisen.
2. Halbleiteranordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Hall-Elemente (7,8), auf die
Oberfläche des Halbleiterkörpers (50) gesehen, nahe beieinander liegen und höchstens durch ein zwi- *5
schenliegendes Isoliergebiet voneinander getrennt sind.
3. Halbleiterbauelement nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Hall-Elemente
einander praktisch gleich sind und Stromrichtungen (P\ bis Ps) aufweisen, bei denen die Summe der
Kosinuswerte des Zweifachen der Winkel (oci bis as)
zwischen der Stromrichtung jedes der Hall-Elemente und einer beliebigen zu der Oberfläche des
Halbleiterkörpers parallelen Achse (A) praktisch gleich Null ist (F i g. 3).
4. Halbleiteranordnung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Stromrichtungen Pu bis Pm,
Pn bis P39 der Hall-Elemente zu den Hauptdiagonalen
eines regelmäßigen Vielecks praktisch parallel sind und daß die Zahl der Ecken dieses Vielecks
gleich dem Zweifachen der Zahl der Hall-Elemente ist (F i g. 5 und 8).
5. Halbleiteranordnung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß sie zwei Hall-Elemente enthält,
deren Stromrichtungen zueinander praktisch senkrecht sind
6. Halbleiteranordnung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß sie drei Hall-Elemente enthält,
deren Stromrichtungen (Pv bis P39) miteinander Winkel einschließen, die praktisch gleich 120° sind
(F ig. 8).
7. Halbleiteranordnung nach einem oder mehreren der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
daß der Halbleiterkörper ein Substrat (9) eines Leitfähigkeitstyps und eine auf dem Substrat
angebrachte epitaktische Schicht (10) des entgegengesetzten Leitfähigkeitstyps enthält und daß die
Hall-Körper (11,12) der Hall-Elemente (7,8) durch einen inselförmigen Teil der epitaktischen Schicht
(10) gebildet sind (F i g. 1 und 2).
8. Halbleiteranordnung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Hall-Körper der Hall-Elemente
(37, 38, 39) eine Insel (30) bilden, die eine Anzahl Teile (40,41,42) enthält, die sich von einem
mittleren Teil (43) der Insel her in lateraler Richtung in der epitaktischen Schicht (31) erstrecken und die
je einen Teil des Hall-Körpers eines der Hall-Elemente (37, 38, 39) bilden, und daß der mittlere Teil
(43) der Insel den Hall-Körpern der Hall-Elemente (37, 38, 39) gemeinsam ist und mit einem ebenfalls
gemeinsamen Anschlußkontakt (34) zum Hindurchführen eines Stromes in lateraler Richtung durch die
Hall-Körper der Hall-Elemente (37,38,39) versehen ist (F i g. 6 und 7).
9. Halbleiteranordnung nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, daß in der epitaktischen
Schicht (10) weitere Schaltungselemente, wie z. B. Transistoren (52 bis 59), Dioden oder Widerstände,
angebracht sind (F i g. 1 und 2).
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) |