DE2054863C3 - Spannungsverstärker - Google Patents
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Description
2. Verstärker nach Anspruch 1, dadurch ge- nommen ist. Ein derartiger an sich bekannter Verkennzeichnet,
daß der gleichrichtende Übergang stärker (siehe z.B. DE-PS 1277 946) hat den Vorzwischen
rtsr Basis des zweiten Transistors und teil, daß die zwischen dem Emitterstrom und der
dem Kollektor des ersten Transistors eingeschal- ao Emitter-Basis-Spannung eines Transistors bestehende
tetist. Nichtlinearität von einer entsprechenden Nicht-
3. Verstärker nach Anspruch 1 oder 2, dadurch linearität der Strom-Spannungskennlinie des erwähngekennzeichnet,
daß der gleichrichtende Über- ten gleichrichtenden Übergangs mehr oder weniger gang eine Schottky-Diode ist. ausgeglichen wird, so daß über einen verhältnismäßig
4. Verstärker nach Anspruch 1 oder 2, dadurch *s großen Aussteuerbereich eine lineare Beziehung zwigekennzeichnet,
daß der gleichrichtende Übergang sehen der am KoEektor eines Transistors erzeugten
durch die Basis-Emitterstrecke eines weiteren verstärkten Spannung und der der Basis dieses Tran-Transistors,
der den gleichen Leitfähigkeitstyp sistors zugeführten Eingangsspannung erhalten wird,
wie der erste Transistor aufweist, gebildet wird. Bei Verwendung eines einzigen pn- oder Metall-
5. Verstärker nach einem der vorangehenden 30 Halbleiterübergangs als Kollektorbelastungswider-Ansprüche,
der als eine Gegentaktschaltungsan- stand ist die erhaltene Spannungsverstärkung nur geordnung
ausgebildet ist, dadurch gekennzeichnet, ring. Es ist daher üblich, in den Kollektorkreis eines
daß der zweite Transistor ak ein Transistor mit Transistors eine Anzahl in Reihe geschalteter Gleicheinem
einzigen Emitter, einer einzigen Basis und richter aufzunehmen. Das gleiche Ergebnis wird erzwei
Kollektorzonen ausgebildet ist, welche mit 35 zielt, wenn statt einer derartigen Reihenschaltung ein
den Kollektoren zweier dem ersten Transistor ent- zweiter Transistor verwendet wird, dessen Emittersprechender
Transistoren verbunden sind, an Kollektor-Strecke von einem Potentiometer überderen
Basen die zu verstärkende Gegentaktein- brückt ist, das von einem Strom durchflossen wird,
gangsspannung angelegt wird. der erheblich kleiner als der diesen Hilfstransistor
6. Verstärker nach Anspruch 5, dadurch ge- ♦<>
durchfließenden Strom ist, während eine Anzapfung kennzeichnet, daß der zweite Transistor außer- dieses Potentiometers mit der Basis des Hilfstrandem
mit einer dritten Kollektorzone versehen ist, sistors verbunden ist, derart, daß die Impedanz des
die elektrisch mit der Basis dieses Transistors zwischen der Basis und dem Emitter des Hilfsverbunden
ist. transistors liegenden Potentiometerteiles erheblich
7. Verstärker nach Anspruch 5 oder 6, bei dem 45 niedriger als der Basiseingangswiderstand des Hilfsin
die gemeinsame Emitterleitung des ersten Tran- transistors ist.
sistors ein ate Stromquelle geschalteter Transistor Die erwähnten bekannten Lösungen sind im allgeaufgenommen
ist, dadurch gekennzeichnet, daß meinen nicht besonders empfehlenswert, wenn der erdie
Basis des zweiten Transistors mit der des als wähnte erste Transistor bei einem niedrigen EinStromquelle
geschalteten Transistors verbunden 50 Stellstrom betrieben werden soll. Ein derartiger nieist, driger Einstellstrom ist z. B. erwünscht, wenn ein
8. Verstärker nach einem der vorangehenden hoher Basiseingangswiderstand dieses Transistors erAnsprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß er reicht werden soll. Dieser niedrige Einstellstrom
einen Halbleiterkörper enthält, in dem ein müßte dann mit Hilfe hoher Widerstände erhalten
lateraler Transistor angebracht ist, wobei die 55 werden, wodurch sich der Verstärker schwieriger in
Basiszone dieses Transistors vom einen Leit- Form einer integrierten Schallung ausführen läßt,
fähigkeitstyp ist und an mindestens eine Emitter- Auch die Verwendung einer Reihenschaltung mehre-
und mindestens eine Kollektorzone vom anderen rer Dioden als Kollektorwiderstand ist ungünstig, weil
Leitfähigkeitstyp grenzt und diese Zonen im eine dem verlangten Verstärkungsfaktor proportio·
Halbleiterkörper umgibt, und wobei eine dieser 60 nale Anzahl von Dioden verwendet werden muß, wobeklen
Zonen, die bis zu einer Oberfläche des durch in der betreffenden integrierten Schaltung
Halbleiterkörpers reichen, einen Kontaktteil auf- Raum auf dem Halbleiterelement und Speisespannung
weist, von dem sich ein oder mehrere Ausläufer für den erwähnten ersten Transistor verlorengehen,
erstrecken, während die andere dieser beiden Die Erfindung schafft eine besonders einfache Maß-Zonen
den Ausläufer (die Ausläufer) an der Ober- 65 nähme, durch die die obenerwähnten Nachteile bcfiäche
wenigstens teilweise umgibt. hoben werden, und ist dadurch gekennzeichnet, daß
9. Verstärker nach Anspruch 8, dadurch ge- mit Hilfe eines zweiten Transistors vom entgegengekennzeichnet,
daß die mit Ausläufern versehene setzten Leitfähigkeitstyp dem Kollektor des zuerst
erwähnten Transistors ein Einstellgleichstrom zugeführt wird, der größer als der den gleichrichtenden
Übergang durchfließende Gleichstrom ist.
Dabei sei bemerkt, daß es an sich bekannt ist, die Kollektor-Emitter-Strecke eines Transistors vom
entgegengesetzten Leitfähigkeitstyp als Kollektorbelastungswiderstand des ersten Transistors zu schalten.
In diesem Falle bildet diese Kollektor-Emitter-Strecke des zweiten Transistors den einzigen Belastungswiderstand
für den ersten Transistor, während hingegen bei dem Verstärker nach der Erfindung der
Innenwiderstand des erwähnten pn-Übergangs den Kollektorbelastungswidei'stand des ersten Transistors
bestimmt, aber der Innenkollektorwiderstand des zweiten Transistors in bezug auf den Innenwiderstand
des pn-Übergangs hoch ist, so daß die nichtlineare Strom-Spannungskennlinie des pn-Übergangs
völlig ausgenutzt wird.
Der Erfindung liegt die Erkenntnis zugrunde, daß die Strom-Spannungs-Kennlinie, die der Emitterstrom
— und bei Vernachlässigung des Fiisistroms
also auch der Kollektorstrom ■— des ersten Transistors
als Funktion seiner Emitter-Basisspannung aufweist, und auch die Strom-Spannungskennlinie des
erwähnten pn-Übergangs einen exponentiellen Charakter haben, so daß daher der Strom-Spannungs-Differentialquotient
dem eingestellten Gleichstrom proportional ist. Auf diese Weise kann dadurch, daß
durch den pn-übergang ein erheblich kleinerer Gleichstrom als durch den Basis-Emitter-Übergang
eines Transistors fließt, erreicht werden, daß unter Beibehaltung des vorerwähnten Ausgleichs der Nichtlinearität
der dynamischen Widerstand des erwähnten pn-Übergangs wesentlich vergrößert wird.
Einige Ausführungsformen der Erfindung sind in der Zeichnung dargestellt und werden im folgenden
näher beschrieben. Es zeigt
F i g. 1 eine erste Ausführungsform,
F i g. 2 e:ne Abwandlung der F i g. 1,
F i g. 3 die Anordnung der Schaltung nach F i g. 2, F i g. 4 eine zweite Ausführungsform und
F i g. 5 eine dritte Ausführungsform.
In F i g. 1 ist ein Differentialverstärker dargestellt, der zwei Verstärkertransistoren la und Ib enthält,
in deren gemeinsame Emitterleitußg eine Stromquelle
Il aufgenommen ist, deren Inn en widerstand in bezug auf den Emittereingangswiderstand der Transistoren
1 α bzw. 1 b groß ist, während den Basen dieser Transistoren
eine zu verstärkende Eingangsspannung + V1
bzw. - V1 im Gegentakt zugeführt wird. In die KoI-lektorkrefce
dieser Transistoren sind pn-Dioden la bzw. 2 b aufgenommen, deren Stromdurchlaßrichtungen
den Kollektorströmen der Transistoren la bzw. 1 b entsprechen. Die von den Kollektoren abgekehrten
Anschlüsse der Dioden 2 a und 2 b sind mit einem Punkt konstanten Potentials, oder, wie in der
Figur dargestellt ist, mit den Basen zweier Hilfstransistoren
3« bzw. 3 ft vom entgegengesetzten Leitfähigkeitstyp verbunden, deren Emitter an die Speiseklemme
gelegt sind, während ihre Kollektoren mit den Kollektoren der zuerst erwähnten Transistoren
Ι« bzw. Ib verbunden sind. Auf diese Weise wird
zwischen den Kollektoren der Transistoren la und 1 b eine verstärkte Spannung + V11 bzw. — K11 erzeugt.
Wenn diese Ausgangsspannung ± V1, kreuzweise an die Basen ^.»rückgeleitet wird, wird eine
Kippschaltung vom Eccles-Jordan-Typ gebildet.
Wenn der die Dioden la bzw. Ib durchfließende
Gleichstrom gleich /a und die Kollektorgleichströrne
der Transistoren 3 β bzw. 3 b gleich I3 gewählt werden,
wobei der Strom der Stromquelle Il gleich der
Summe all dieser erwähnten Gleichströme (somit / = I3 + /3) ist, ist also der dynamische Widerstand
der Dioden la bzw. Ib um einen Faktor-^ erhöht,
so daß, wenn I3 erheblich größer als h ist, eine entsprechende
Spannungsverstärkung erhalten wird. Da ίο in der Ausführangsform nach F i g. 1 I2 auch gleich
dem Basistrom der Transistoren 3 a bzw. 3 b ist, während I3 gleich dem Kollektorgleichstrom dieser Transistoren
ist, kann diese Bedingung auf einfache Weise erfüllt werden.
In der Technik der integrierten Schaltungen werden die Transistoren la und Ib im allgemeinen als
»vertikale Transistoren« ausgebildet, d. h., daß — von der oberen Fläche eines betreffenden Halbleiterelements
her gesehen — die aktiven Teile der Emitter-, ao Basis- und Kollektorzonen untereinander liegen. Auch
die Stromquelle II ist dann als ein vtrtikaler Transistor 10 vom gleichen Leitfähigkeitstyp wie die
Transistoren la und 16 ausgebildet Die Transistoren
3a und 3b werden dagegen vorzugsweise als as laterale Transistoren ausgebildet, d. h., daß — von
der oberen Fläche des Halbleiterelements her gesehen — die aktiven Teile der Emitter-, Basis- und
Kollektorzonen dann nebeneinander liegen. Die Dioden la und Ib können als Schottky-Dioden ausgebildet
sein, die den Vorteil aufweisen, daß darin nahezu keine Ladungsspeicherung (storage) auftritt,
so daß sie schneller wirken.
Da sowohl die Emitter wie auch die Basen der Transistoren 3 a und 3 b elektrisch miteinander verbunden
sind, können die Transistoren 3 a und 3 b auf einfache Weise dadurch zusammengebaut werden,
daß einer Emitterzone gegenüber zwei Kollektorzonen 6, 7 angeordnet werden, wie in F i g. 2 dargestellt
ist. Wenn außerdem eine dritte Kollektorzone 8 dieser einen Emitterzone gegenüber angeordnet wird,
weiche dritte Kollektorzone leitend mit der Basis verbunden wird, wird erreicht, daß der von der Emitterzone
herrührende Gleichstrom sich über die Kollektorzonen im Verhältnis zu den Längsabmessungen der
einander gegenüberliegenden Zonen verteilt.
F i g. 3 zeigt die Anordnung einer solchen integrierten Schaltung. Dabei sind die npn-Transistoren la,
Ib und 10 der Fig.»2 in drei isolierten Inseln 14,15
und 16 eines Halbkörpers untergebracht. In jeder dieser Inseln, die η-leitend sind, ist eine p-leitende
Basiszone 17, eine η-leitende Emitterzone 18 und
eine zugleich mit der Emitterzone erhaltene Kolleklorkontaktzone
19 angebracht. Die Insel 20 enthält den übrigen Teil der Schaltung nach F ι g. 2, Wobei
ein lateraler pnp-Transistor mit einer besonderen Geometrie verwendet wird, der statt in der vorliegenden
Verstärkerschaltung auch in anderen Schaltungen vorteilhaft benutzt werden kann. Dieser laterale
pnp-Transistor weist eine Zone 21 mit einem mittleren Teil auf, der genügend groß ist, um diese
Zone mit einem Kontakt versehen zu können, wobei in diesem Teil ein Kontaktfenster 22 in der auf der
Oberfläche des Halbleiterkörpers liegenden passivierenden Isolierschicht angebracht ist. Von diesem
Kontaktteil her erstrecken sich ein oder mehrere (im vorliegenden Beispiel drei) Ausläufer, die schmal
sein können, weil darauf keine Metallisierung angebracht ist. Im vorliegenden Ausführungsbeispiel bil-
det die Zone 21 die Emitterzone des lateralen Transistors, wobei um diese Emitterzone 21 herum in geringer
Entfernung eine oder mehrere Kollektorzonen 23, 24 und 25 gruppiert werden können.
Die Geometrie der Emitterzone 21 ergibt eine große Randlänge bei einer verhältnismäßig kleinen Oberfläche.
Dabei ist unter »Randlänge« die Länge der Schnittlinie zwischen dem betreffenden pn-übergang
und der Halbleiteroberfläche zu verstehen.
Eine große Randlänge wird verlangt, weil die Stromverteilung über die Kollektorzonen 23, 24 und
25 von den gegenseitigen Verhältnissen der Randlängen der der Emitterzone 21 zugewandten Seiten
der Kollektorzonen abhängig ist. Um ein vorher gewähltes Verhältnis mit genügender Genauigkeit zu
erzielen, müssen die erwähnten Randlängen der Kollektorzonen und also auch die Gesamtrandlänge der
l_:ilIiUCI IAJIIC llll»lll Z-U IMWtI 3*~1II. 1 Vlltt.1 I/I.JI1.II1 WlIV
Beziehung zwischen dem gegenseitigen Verhältnis der Randlänge und der Oberfläche der Emitterzone und ao
dem Kollektor-Emitter-Stromverstärkungsfaktor λ' des
lateralen Transistors. Die am Rande der Emitterzone injizierten Minoritätsladungsträger werden größtenteils
von den Kollektorzonen kollektiert, aber von den in einer Richtung quer zur Halbleiteroberfläche inji- as
zierten Ladungsträgern wird der größte Teil durc!. Rekombination verlorengehen. Ein großes gegenseitiges
Verhältnis der Randlänge und der Oberfläche hat eine günstige Einwirkung auf den Emitterwirkungsgrad
und somit auf den erwähnten Stromverstärkungsfaktor. Dies trifft insbesondere bei kleinen Emitterströmen
in der Größenordnung von Mikroamperes oder kleiner zu, wobei der von dem durch die nichtkontaktierten
Ausläufer der Emitterzone fließenden Strom herbeigeführte Spannungsabfall praktisch vernachlässigbar
ist. Die mehr oder weniger sternförmige Emitterzone 21 besitzt drei Ausläufer mit einer
Länge von z. B. etwa 12 μΐη und einer Breite von
z. B. etwa 4 [im.
Die Kollektorzone 25 ist größer als unbedingt er- 4»
forderlich ist. wodurch ein genügend großer Raum zur Verfügung kommt, um darin zwei n-leitende
Zonen 26 und 27 anzubringen, die zusammen mit der Zone 25 die beiden pn-Dioden der Schaltung bilden.
Dabei weist die Zone 25 eine Aussparung auf, in der zugleich mit den Emitterzonen 18 und den
Diodenzonen 26 und 27 eine Kontaktzone 28 angebracht wird. Über die Öffnung 29 in der Isolierschicht
und die darin angebrachte Metallisierung 30 ist die Kollektorzone 25 mit der durch die Insel 20 gebildeten
Basiszone des lateralen Transistors kurzgeschlossen. Auf diese Weise sind der laterale Transistor mit
mehreren Kollektoren und die beiden mit der Basiszone dieses Transistors verbundenen Dioden zu einer
besonders gedrängten und wenig Raum beanspruchenden Struktur zusammengebaut.
Unterhalb der Emitterzone 21 und des Basiskontakts 30 ist auf bekannte Weise eine sogenannte vergrabene
Schicht, ein Teil mit einem niedrigeren spezifischen Widerstand als der angrenzende Teil der
Insel, angebracht, die in der Figur mit einer gestrichelten Linie angedeutet ist. Dabei kann die Injektion
von Ladungsträgern in einer Richtung quer zur Halbleiteroberfläche herabgesetzt werden, wenn gesichert
wird, daß die Emitterzone und die vergrabene Schicht nahe genug beieinander liegen. Übrigens kann diese
Struktur erwünschtenfalls auch ohne vergrabene Schicht oder mit einer auch bis unterhalb der Kollektorzonen
reichenden vergrabenen Schicht ausgeführt werden.
Die für die Schaltung benötigten Verbindungsleitungen und Anschlüsse sind auf übliche Weise durch
ein auf der Isolierschicht angebrachtes Metallisierungsmuster, das über Öffnungen in der Isolierschicht
mit den unterschiedlichen Halbleiterzonen der Schaltungselemente verbunden ist, hergestellt.
Der Vollständigkeit halber sei bemerkt, daß der laterale Transistor auch mit einer anderen Geometrie,
z. B. mit einer oder mehreren kreisförmigen oder tüpfeiförmigen Emitterzonen, um welche eine oder mehrere
Kollektorzonen herum angeordnet sind, ausgeführt werden kann.
Übrigens kann die integrierte Schaltung nach Fig.3
völlig auf die in der Halbleitertechnik übliche Weise hergestellt und abmontiert werden, wobei z. B. von
i
«titinrvk n.leilofirlen Ciikotrit
γΗ*»π
auf dem nach einer etwaigen DifTiiMon zum Erhalten
einer oder mehrerer vergrabener Schichten eine n-leitende epitaktische Schicht mit einer Dicke von z. B.
etwa 4 um und einem spezifischen Widerstand von z. B. 0,3 bis 0,6 Ω · cm angebracht wird. Dann können
durch die üblichen Photoätz- und Maskierungstechniken z. B. Phosphor und Bor diffundiert werden,
um die Isolierzonen und die unterschiedlichen Halble'!erzonen der Schaltungselemente zu erhalten.
Die Bordiffusionszonen 17, 21, 23, 24 und 25 weisen ?. B. einen Quadratswiderstand von etwa 125 bis
200 Ω/Π auf.
Erwünschtenfalls können die Dioden la bzw. Ib
der F i g. 1 durch die Kollektor-Emitter-Strecken zweier weiterer Hilfstransistoren 4 a bzw. 4 b ersetzt
werden, wie in Fig. 4 dargestellt ist. Das zu verstärkende Gegentaktsignal ± V1 wird wieder den Basen
der Verstärkertransistoren 1 α und 1 b zugeführt, in
deren Kollektorleitungen nun die Hilfstransistoren 4a bzw. 4 £>
aufgenommen sind, während die Gleichströme für die Kollektoren der Transistoren 1 α und
Xb hauptsächlich mit Hilfe der Transistoren 3a und
3 b vom enteeeeneesetzten Leitfähiekeitstvp zugeführt
werden. Die Basen der Transistoren 4 a und 4 b werden an einen Punkt konstanten Potentials Vb gelegt,
wodurch ein zusätzlicher Freiheitsgrad zum Erreichen einer optimalen Einstellung erhalten wird. Die Basis-Emitter-Übergänge
dieser Hilfstransistoren 4 a und
4 b bilden dann wieder die Kollektorbelastungswiderstände für die Transistoren 1 α bzw. 1 b, während die
die Transistoren 4 α und 4 b durchfließenden Gleichströme wieder gleich den Basisgleichström^r. der
Transistoren 3 β bzw. 3 b sind, die ihrerseits erheblich kleiner als die Kollektorgleichströme dieser Transistoren
sind. Auf diese Weise wird eine gleiche Wirkung wie mit dem Verstärker nach Fig. 1 erhalten.
Selbstverständlich können auch die in bezug auf F i g. 2 und F i g. 3 beschriebenen Maßnahmen auf
diesen in F i g. 4 gezeigten Verstärker angewandt werden.
In der Abwandlung; nach F i g. 5 sind die Dioden 2 α
und 2 b mit ihren von den Kollektoren der Verstärkertransistoren
la bzw. Ib abgekehrten Enden an einen Punkt festen Potentials (und zwar die positive
Speiseklemme) angeschlossen, während der (laterale) Transistor 3 vom entgegengesetzten Leitfähigkeitstyp
ist und seine Kollektoren 6 bzw. 7 wieder mit den Kollektoren der Transistoren la bzw. 1 b
verbunden sind. Der Kollektor 8 des Transistors 3, der eine etwa zweimal größere kollektierende Rand-
länge als die Kollektoren 6 und 7 aufweist, ist nicht nur mit der Basis des Transistors 3, sondern auch mit
der Basis des als Stromquelle wirkenden Transistors
10 verbunden, dessen Basis-Emitter-Strecke von einer Diode oder einem als Diode geschalteten Transistor
11 überbrückt ist. Der Strom der Basis und des Kollektors
λ des Transistors 3 erzeugt auf diese Weise einen praktisch gleich großen Kollektorstrom im
Transistor 10, so daß durch richtige Bemessung der
kol taktierenden Randlänge des Kollektors 8 in bezug
auf die der Kollektoren 6 und 7 erreicht werden kann, daß der die Transistoren la und ih durchfließende
Gleichstrom gerade etwas größer als der von den Kollektoren 6 und 7 gelieferte Gleichstrom ist, so daß
die Dioden la und Ib wieder mit einem hohen dynamischen
Widerstand, der jedoch niedriger als die inneren Kollektorwiderstände — gemessen an den Kollektoren
6 und 7 — ist, betrieben werden.
Hierzu 3 Blatt Zeichnungen
Claims (1)
1. Transistorverstärker für elektrische Span- leitend mit der Basiszone des Transistors vernungen,
bei dem in den Kollektorkreis eines er- 5 bunden und in dieser Kollektorzone mindestens
sten Transistors wenigstens ein in der Durch- eine Diodenzone in Form einer Oberflächenzone
laßricbtung vom Kollektorstrom durchflossener vom einen Leitfähigkeitstyp angebracht ist,
gleichrichtender Übergang als Kollektorbelastungswiderstand dieses Transistors aufgenom-
gleichrichtender Übergang als Kollektorbelastungswiderstand dieses Transistors aufgenom-
men ist, dadurch gekennzeichnet, daß io
mit Hilfe eines zweiten Transistors vom entge- Die Erfindung bezieht sich auf einen Transistorgengesetzten
Leitfähigkeitstyp dem Kollektor des verstärker für elektrische Spannungen, bei dem in
ersten Transistors ein Einstellgleichstrom züge- den .Kollektorkreis eines ersten Transistors wenigführt
wird, der erheblich größer als der den itens ein in der Durchlaßrichtung vom Kollektorstrom
gleichrichtenden Übergang durchfließende Gleich- 15 durchflossener gleichrichtender Übergang als Kolstromist,
lektorbelastungswiderstand dieses Transistors aufge-
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