DE2314712C3 - Verfahren zur Sichtbarmachung der Linien maximaler Schubspannung und Vorrichtung zu seiner Durchführung - Google Patents

Description

10. Vorrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß der gegenständliche Raster (10) zwischen der Quelle (4) und dem Polarisator (6) angeordnet ist.

11. Vorrichtung nach Anspruch 9 und 10, dadurch gekennzeichnet, daß der gegenständliche Raster (10) auf einem Gestell (28) montiert ist, dessen Stellung auf der Achse des Strahlenganges einstellbar ist.

12. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 9 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß der Polarisator (6, 21) und der Raster (10, 27) auf dem gleichen um die optische Achse drehbaren Gestell (28) angebracht sind.

13. Vorrichtung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Schirm (26) ebenfalls an diesem Gestell (28) befestigt ist.

14. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 9 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß sie stroboskopisch^ Beleuchtungsmittel für das spannungsoptische Material (1, 1', 24) oder den Schirm (S, 5', 26) aufweist.

Die Erfindung betrifft allgemein gesprochen die für die Untersuchung mechanischer Spannung verwendeten spannungsoptischen Techniken. Sie befaßt sich speziell mit einem Verfahren zur Sichtbarmachung der Linien maximaler Schubspannung oder der Isostaten durch Beobachtung der in einem spannungsoptischen Material auftretenden akzidentiellen Doppelbrechungen in polarisiertem Licht. Weiterhin hat sie eine Vorrichtung zur Durchführung eines derartigen Verfahrens zum Gegenstand. Dabei soll die direkte Sichtbarmachung der Isostaten oder Linien maximaler Schubspannung im Durchlicht oder Auflicht unter Ausnutzung der Moire-Erscheinung zwischen verschiedenen Isoklinennetzen ermöglicht werden.

Die isostatischen Linien sind Hüllkurven der Hauptspannungsrichtungen. Das sind die Feldlinien der Hauptspannungen. Sie bilden zwei Kurvenscharen, die überall orthogonal zueinander verlaufen.

Jede freie Kontur eines Teils, das ebenen Beanspru- in analoger Weise über der Bäche de,r reellen beob-

chungen ausgesetzt wird, fällt mit einer Isostate zu- achteten Struktur angeordnet wird. Ein erstes Hinder-

sammen. - nis rührt daher, daß das Lichtbündel, das zweimal

Die Linien maximaler Schubspannung bestehen durch den Raster hindürchtreten muß, zu stark ge-

aus zwei orthogonalen Kurvenscharen, die die I"»sta- 5 dämpft wird. Außerdem erzeugt dos von der reflek-

ten unter 45 schneiden. tierenden Oberfläche der beobachteten Struktur ge-

Es ist bekannt, daß die spannungsopdschen Tech- bildete Bild des Rasters zusätzliche Moire-Wirkun-

niken im wesentlichen darin bestehen, daß in polari- gen, die die Bilder stören. Schließlich ist die Anwen-

siertem Licht die akzidentiellen Doppelbrechungen dung eines Rasters bei einer unebenen Oberfläche in

beobachtet werden, die in einem belasteten span- io der Praxis häufig unmöglich.

nungsoptischen Material entstehen. Es werden zwei Der Erfindung liegt nun die Aufgabe zugrunde, ein Gruppen von klassischen Techniken unterschieden, Verfahren und eine Vorrichtung festzulegen, die es je nachdem ob ein aus einem geeigneten durchsichti- ermöglichen, die vorerwähnten Nachteile zu vermeigen Material hergestelltes Modell der wirklichen den und die direkte Sichtbarmachung der Isostaten Struktur im Durchlichtyerfahren untersucht oder auf 15 oder der Linien maximaler Schubspannung besser als die Oberfläche der wirklichen Struktur ein Film aus bei den früheren Techniken, und selbst bei der 3eobspannungsoptischem Material aufgelegt wird und achtung der reellen Strukturen, zu erreichen. Die Erdann dieser Film, der den gleichen Belastungen wie findung soll außerdem mit Nutzen auch bei einer Vadie Oberfläche der Struktur ausgesetzt ist, im Auf- riante anwendbar sein, bei der ein aus einem durchlichtverfahren untersucht wird. _zo sichtigen spannungsoptischen Material hergestelltes

Durch Veränderung der Polarisationsebene des Modell in Durchlicht beobachtet w'ua.

Lichtes gegenüber dem beobachteten Material, dem Zur Losung dieser Aufgabe, wird nach der Erfin-

Modell oder dem spannungsoptischen Film, können dung vorgeschlagen, daß zeitlich aufeinanderfolgend

verschiedene Isoklinennetze sichtbar gemacht wer- Moire-Abbildungen überlagert werden, die durch

den, mit denen dann die Isostaten oder die Linien 25 gleichzeitige Beobachtung des Materials und eines

maximaler Schubspannung bestimmt werden können. Rasters, dessen Striche bei den Linien maximaler

Es sind bereits Verfahren bzw. Vorrichtungen be- Schubspannung parallel zur Polarisationsebene des

kannt, die es ermöglichen, bei der Untersuchung Lichtes oder bei den Isostaten in einem Winkel von

eines Modells aus durchsichtigem Material in 45° zu derselben verlaufen, bei verschiedenen zeit-

Durchlicht, das zwischen einen Polarisator und einen 30 lieh aufeinanderfolgenden Einstellungen der Polari-

Analysator gebracht wird, direkt durch übereinan- sationsebene erzielt werden, und daß Material und/

derliegende aufeinanderfolgende Photographien eine oder Raster in Form einer in der Ebene des jeweils

Sichtbarmachung der Isostaten oder Linien maxima- anderen Elementes erzeugten optischen Abbildung

ler Scherung zu erreichen und das langwierige und beobachtet werden.

umständliche punktweise Abzeichnen von den Isokli- 35 Nach einer ersten Ausführungsart wird der beobnennetzen zu vermeiden. Dabei wird an dem unter- achtete Raster dargestellt, indem in der gleichen suchten Modell ein Raster, am besten mit quadrati- Ebene mit dem beobachteten Material ein reelles opschen Maschen, angeordnet, dessen Striche parallel tisches Bild eines vom Material entfernten gegenzu den gekreuzten Polarisationsebenen eines Polari- ständlichen Rasters gebildet wird,
sators und eines Analysator verlaufen. Der Polarisa- 4° Bei einer Ausführungsform, die für die Beobachter, der Raster und der Analysator stellen eine Bau- tung reeller Strukturen anwendbar ist, wird als Mategruppe dar, die in bezug auf das untersuchte Modell rial ein spannungsoptischer Film verwendet, der drehbar ist. Fs werden dann aufeinanderfolgende durch Reflexion des Lichtes auf einer darunterliegen-Photos mit der gleichen Belichtungszeit gemacht, den reflektierenden Schicht beobachtet wird, wobei nachdem jedesmal zwischen der Polarisator-Ra- 45 das reelle optische Rasterbild in der Ebene der rester-Analysator-Vorrichtung und dem Modell eine flektierenden Schicht gebildet wird.
Drehung um den gleichen Winkel ausgeführt wurde. In Abänderung kann der reelle Raster auf dem Die Überlagerung der so erhaltenen ur.3 von den Schirm angeordnet werden, auf dem das Bild des aufeinanderfolgenden Isoklinenscharen modulierten Materials abgebildet wird.

Rasterbilder führt zu Moire-Erscheinungen, die zwei 50 Bei einer bevorzugten Anwendungsart, die die Scharen von zwei orthogonalen Kurven veranschauli- Auswertung der Ergebnisse erleichtert, indem eine chen, die genau den Linien maximaler Schubspan- sofortige visuelle Beobachtung ermöglicht wird, wird nung entsprechen. Das gleiche Verfahren ermöglicht eine kontinuierliche Drehung der Baugruppe aus Podie direkte Sichtbarmachung der Isostaten, wenn die larisator, Analysator, Raster und gegebenenfalls Striche des Rasters in einem Winkel von 45° zu den 55 Schirm erzeugt und periodisch das auf dem Schirm Polarisationsebenen des Polarisators und Analysa- erhaltene, mit dem Raster überlagerte Bild beobachtors angeordnet sind. tet. Als Lichtquelle wird beispielsweise eine Blitz-Trotz seiner Vorteile blieb die praktische Ausnut- lampe verwendet. Die Drehgeschwindigkeit und die zung dieses Verfahrens durch die schwierige Einstel- Periodizität oder die Häufigkeit der Blitze können se lung der Vorrichtung und die komplizierten Verfah- 60 gewählt werden, daß der Folgerhythmus der beobrensbedingungen beschränkt. Außerdem konnte diese achteten Bilder gegenüber der Netzhautträgheil Technik bis heute nicht auf die Untersuchung wirkli- schnell genug ist, damit ein Beobachter die aufeinancher Strukturen, die mit einem Film oder einem derfolgenden Bilder, die den verschiedenen Stellun-Überzug aus spannungsoptischem Material versehen gen der Polarisationsebene und des Rasters gegensind, bei Reflexion des polarisierten Lichtbündels auf 6₅ über dem untersuchten Material entsprechen, gleichdieser Struktur angewendet werden. In diesem Falle zeitig wahrnimmt.

ist es unmöglich, die Linien maximaler Schubspan- Dies erreicht man insbesondere dann, wenn die

nung oder die Isostaten zu erhalten, wenn der Raster Drehgeschwindigkeit über 360 U/min liegt, wobei die

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Häufigkeit der Blitze ein ganzzahliges Vielfaches die- Die in F i g. 1 gezeigte Vorrichtung wird zur Beob-

ser Zahl in der Größenordnung von 40 ist. achtung einer Struktur 1 verwendet, auf die eine re-

Nach dem erfihdungsgemäßen Verfahren sind die flektierende Schicht 2 und dann ein spannungsopti-

Isostatennetze oder die Linien maximaler Schub- scher Lack, der einen durchsichtigen Film 3 bildet,

spannung (entsprechend der Einstellung des Rasters 5 aufgebracht wurden. Die Vorrichtung umfaßt auf

zur Polarisationsebene), die sich aus den Moire-Er- derselben Seite wie diese Struktur eine Lichtquelle 4

scheinungen zwischen den dem Raster überlagerten, und eine photographische Platte S, auf die das unter

aufeinanderfolgenden Bildern ergeben, direkt auf einem kleinen Einfallswinkel von der Struktur 1 oder

einem durchscheinenden Schirm sichtbar, ohne daß genauer von der reflektierenden Schicht reflektierte

es erforderlich wäre, photographische Aufzeichnun- io Bild der Quelle fällt. In dem zwischen der Quelle 4,

gen zu machen. Außerdem kann das Material fort- der Struktur 1 und der Photoplatte 5 durch die Lin-

laufend verschoben und so die gesamte Oberfläche sen L₁, L₂, L₃ und L₄ bestimmten Strahlengang sind

eines Teiles in einer sehr kurzen Zeit untersucht wer- zwei Polarisatoren angebracht, deren Polarisations-

den. ebenen gekreuzt sind und die den eigentlichen PoIa-

Eine zur Durchführung des erfindungsgemäßen 15 risator 6 zwischen der Quelle 4 und der beobachteten

Verfahrens besonders geeignete Vorrichtung zeichnet Struktur 1 und den Analysator 7 zwischen dieser

sich durch die Kombination folgender Merkmale Struktur 1 und der Photoplatte 5 darstellen,

aus: Die Quelle 4 befindet sich im Brennpunkt der

Linse L₄, so daß die Struktur 1 von einem parallelen

a) einen Strahlengang von einer Lichtquelle durch ₂₀ Lichtbündel beleuchtet wird. Die Linsen L₂ und L₃ ein zu beobachtendes spannungsoptisches Mate- bündeln das Licht auf den Polarisator 6 und Linse L₁ rial zu einem Beobachtungs- oder Registrier- bündelt das reflektierte Licht auf den Analysator? schirm, in dem gegebenenfalls Linsen angeord- vor dem Objektive des Photoapparates mit der net sind; Platte 5.

b) einen Polarisator und einen Analysator im ₂₅ Senkrecht zur optischen Achse ist im Strahlengang Strahlengang zwischen der Lichtquelle und dem _Vor der Sammellinse L₃ ein Raster 10 angeordnet. Material einerseits und zwischen dem Material _Di_{eser Raster ist auf einen}, Gestell angebracht, des- und dem Registriergerät andererseits; _sen stellung in der optischen Achse so gewählt wer-

c) einen Raster, der vom Material entfernt und auf den kann, daß er sich in einem konjugierten Punkt dem Schirm angeordnet oder mit Mitteln ver- _{30 d}er reflektierenden Schicht 2 gegenüber dem optibunden ist, um ein optisches Bild in der Ebene _sch_en System der Linsen L₂ und L, befindet.

des beobachtenten Materials oder in derjenigen i_m übrigen wird der Raster so ausgebildet, daß

seiner Abbildungen auf dem Schirm zu erzeu- _sei_ne Stiche parallel und senkrecht zur Polarisations-

g^en; ebene des Lichtes hinter dem Polarisator oder in

d) eine synchronisierbare Anordnung zur Drehung _{35 e}j_nem winkel von 45° zu dieser Ebene verlaufen, je des Polarisators, des Analysators und des Ra- nachdem, ob die Linien maximaler Schubspannung sters in bezug auf die Achse des Strahlenganges. _oder die Isostaten der beobachteten Struktur erzielt

werden sollen.

Es ist vorteilhaft, wenn bei einer derartigen Vor- Schließlich ist es möglich, die Polarisationsebene richtung der Raster an einem Schirm angebracht 40 des Lichtes in bezug auf die Struktur 1, die als festwird, auf dem das Bild des Materials erzeugt wird, stehend angenommen wird, zu drehen, indem Polari- und wenn der Analysator auf der anderen Seite des sator 6, Analysator 7 und Raster 10 synchron um die Schirms angeordnet wird. Raster, Analysator und optische Achse gedreht werden,
eventuell Schirm werden vorzugsweise auf ein und Die Vorrichtung nach Fig. la unterscheidet sich demselben, auf der optischen Achse drehbaren Ge- 45 von derjenigen gemäß Fig. 1 nur durch die Tatsache, stell montiert und synchron zum Polarisator in Dreh- daß sich die beiden Bündel des Polarisators 6 und richtung versetzt. des Analysators 7' zueinander in der Verlängerung

Weitere Merkmale, Einzelheiten und Vorteile der befinden, wobei das untersuchte Modell 1' aus einer Erfindung werden an Hand einiger Ausfühningsbei- durchsichtigen spannungsoptischen Harzplatte herspiele und an Hand der Zeichnung erläutert. Es zeigt 50 ausgeschnitten ist und weder eine reflektierende

F i g. 1 schematisch eine erste Ausfuhrungsart Schicht 2 noch einen spannangsoptischen Lackfilm 3

einer Vorrichtung zur Beobachtung reeller Strukru- hat. Die Vorrichtung nach Fig. la funktioniert fan

ren mit dem Auflichtveifahren in polarisiertem übrigen genau wie die der F i g. 1.

Licht, Bei der Variante von Fig.2 ermöglicht es ein

Fig. 1 a schematisch eine Variante der Vorrich- 55 Spiegel 11, den Strahlengang ein erstes Mal vor dem

rung nach F i g. 1 zur Beobachtung eines Modells Polarisator umzulenken, so daß sich die Abmessun-

durch Transmission des polarisierten Lichtbündels, gen der Vorrichtung verringern.

F i g. 2 eine andere Ausführungsvariante der Vor- Beim Einsatz der für die Sichtbarmachung der Li-

richtung von F i g. 1, nien maximaler Schubspannung oder Isostaten be-

Fig.3 schematisch eine Karte der Linien maxima- 60 schriebenen Vorrichtung wird die Ausrichtung des

ler Schubspannung, die durch das Sichtbarmachungs- Rasters so geregelt, daß seine Striche je nachdem

verfahren erzielt wurde, parallel oder senkrecht zu den gekreuzten Polarisa-

F i g. 4 ebenfalls eine Isostatenkarte. tionsebenen des Polarisators und Analysators verlau-

F i g. 5 a und S b veranschaulichen die Anwendung fen. Dann wird seine Einstellung auf der optischen

des Verfahrens für die Konstruktion eines Maschi- 65 Achse so gewählt, daß sich ein reelles Bild des Ra-

nenteilprofils und sters auf der reflektierenden Schicht 2 der Struktur 1

Fig.6 zeigt schematisch eine weitere Ausfüh- ergibt, indem dieses reelle Bild mit dem gegenüber

rungsart der Vorrichtung. der reflektierenden Schicht virtuellen Bild zur Dek-

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kung gebracht wird. Schließlich wird der Photoapparat auf diese reflektierende Schicht eingestellt.

Auf einer einzigen Platte werden bei gleichen Belichtungszeiten mehrere aufeinanderfolgende photographische Aufnahmen gemacht, wobei die Bau- gruppe Polarisator. Raster, Analysator jedesmal um einen gleichen Winkel von 90°//j gedreht wird. Wenn η die Anzahl der photographierten Bilder ist, liegt η vorteilhafterweise zwischen 3 und 14 und am besten in der Größenordnung von 9 bis 12. Jedes Bild ist eine Abbildung des Rasters, die von dem Isoklinennetz für die entsprechende Polarisationsebene moduliert wird. Die der Struktur aufgegebene Belastung ist so niedrig, daß bis auf die Isochromen O. Ordnung alle Isochromen verschwinden. Durch Übereinanderlegen der durch die Kombination dieser Abbildungen erhaltenen aufeinanderfolgenden Moires ist, wie in F i g. 3 veranschaulicht, eine direkte Sichtbarmachung von Linien maximaler Spannung möglich.

Wenn in der gleichen Weise verfahren wird, die Striche des Rasters jedoch unter einem Winkel von 45° zu den Polarisationsebenen des Polarisators und des Analysators eingestellt werden, ergeben sich, wie in F i g. 4 dargestellt, die Isostaten.

Kartenzeichnungen, wie sie sehr schematisch in den F i g. 3 und 4 dargestellt sind, ergeben sich bei Beobachtung eines belasteten Trägerstückes, insbesondere unter folgenden Bedingungen:

Film: Planfilm Entwickler 1V₂ min;

Fixiermittel 4 min Belichtung: 14 s je Neigung um Winkel von 9°,

d.h. 10 Stellungen Raster: grauer, positiver Kontaktraster,

100 Linien pro Zoll Lampe: Quecksilberspektrallampe, 250 W,

mit Interferenzfilter von 4561 A Brennweiten: alle gleich, 80 cm

Feld: 150 mm Durchmesser

40

Die Sichtbarmachung der Isostaten wird insbesondere verwendet, um das Profil von Maschinenteilen in Abhängigkeit von ihrer Bestimmung zu ermitteln. Das Profil wird fortlaufend so lange, z. B. schleifend, bearbeitet, bis die freien Ränder dem Isostatenverlauf folgen. Dieses Bearbeiten wird in den F i g. 5 a (vor der Bearbeitung) und 5 b (nach der Bearbeitung) bei der Festlegung des Profils der Innenscheibe einer Riemenscheibe veranschaulicht.

Die Drehung des Polarisators, des Rasters und des Analysators und ihre Einstellung für jede photopraphische Aufzeichnung können von Hand oder automatisch vorgenommen werden. Die Drehung kann auch kontinuierlich erfolgen und die Lichtquelle diskontinuierlich in regelmäßigen Zeitabständen, z. B. mit einem Elektronenblitz, bei Durchgang der gewünschten Neigungen oder eventuell durch fortlaufende Änderung der Stärke entsprechend einem mec' iii: ohen Änderungsgesetz betrieben werden.

Utcsii Möglichkeit wird in der Folge an einer weiteren Ausführungsart einer Vorrichtung, die unter Bezugnahme auf F i g. 6 beschrieben ist, veranschaulicht.

Diese Figur stellt schematisch eine spannungsoptische Vorrichtung dar, die wie die oben beschriebenen Ausführungen einen Polarisator 21 und einen Analysator 22 umfaßt, die im Strahlengang eines von einer Quelle 23 erzeugten Lichtbündels angeordnet

35 sind. Da die Vorrichtung hier zur Beobachtung voi Modellen aus durchsichtigem spannungsoptischen· Materia! verwendet wird, ist das Modell 24, durcl· das das polarisierte Lichtbündel hindurchtritt., zwischen dem Analysator und dem Polarisator angeordnet.

Ein durch eine Linse 25 veranschaulichtes optisches System ermöglicht es, das Bild des Modells in der Ebene eines durchscheinenden Schirms 26, auf dem ein Raster 27 angeordnet ist, abzubilden. Dieser Raster kann ein einfacher Positiv- oder Negativraster mit orthogonalen parallelen Strichnetzen sein. Hiei wird jedoch vorzugsweise ein weiterer analoger Raster vorgesehen, dessen Striche mit denen des ersten Rasters einen veränderlichen Winkel bilden. Das Moire zwischen den beiden verbundenen Rastern stellt einen Raster dar, dessen Gang in Abhängigkeit von dem von den Strichen der beiden Raster gebildeten Winkel veränderlich ist. Durch eine relative Drehung derselben kann der Gang beliebig eingestellt werden. Dadurch ist es möglich, den Kontakt zu verbessern.

Der Analysator 22, der Schirm 26 und der Raster 27 (oder die Raster) sind auf ein und demselben Gestell 28 angebracht, das aus einer in der optischen Achse verlaufenden Welle besteht. Eine Synchronisationsvorrichtung 29 ermöglicht es, bei Betrieb die Drehung dieser Welle mit der des Polarisators 21, der sich ebenfalls in der optischen Achse dreht, zu synchronisieren.

Der Schirm 26 kann aus einem einfachen Blatt aus Pauspapier bestehen. Das durch Überlagerung mit dem Raster 27 erhaltene Moire-Bild kann auf der Platte eines nicht dargestellten Photoapparates aufgezeichnet werden. Wie bereits oben bei den anderen Ausführungen beschrieben, ergeben sich die Netze der Isostaten oder der Linien maximaler Schubspannung, indem nacheinander auf der gleichen Platte die Moire-Bilder aufgezeichnet werden, die unterschiedlichen Winkelstellungen der Baugruppe Polarisator, Analysator und Raster in bezug auf das Modell entsprechen.

In dem jetzt beschriebenen Fall sind diese Bilder jedoch gleichzeitig direkt auf dem Schirm 26 zu sehen. Die Lichtquelle besteht aus einer Blitzlampe oder einem Stroboskop, und die Baugruppe Analysator, Polarisator, Raster, die bei der besonderen betrachteten Ausführung ebenfalls mit dem Schirm verbunden ist, wird in kontinuierliche Drehung versetzt, und zwar mit einer Geschwindigkeit, die ausreicht, um verschiedene Winkelstellungen in bezug auf das Modell in der Persistenzzeit der Bilder auf der Netzhaut des Beobachters zu beleuchten. Die Blitzzahl ist ein ganzzahliges Vielfaches der Anzahl der Umdrehungen pro Minute dieser Baugruppe.

Beispielsweise kann eine Drehgeschwindigkeit von 410 U/min bei einer Blitzzahl von 16400 Blitzen pro Minute verwendet werden.

Diese Betriebsart ermöglicht es, Netze von Isostaten oder Linien maximaler Schubspannung, wie sie in den F i g. 3 und 4 dargestellt sind, direkt zu sehen.

In Abwandlung sind die beschriebene Anordnung und Montage des Rasters sowie die Betriebsart mit direkter Sichtbarmachung ebenfalls auf die Beobachtung einer reellen Struktur im Auflicht (unter Reflexion) anwendbar.

Weiter kann an Stelle des spannungsoptischen Materials der Schirm stroboskopisch beleuchtet werden.

Hierzu 4 Blatt Zeichnungen

509635/243

Claims (9)

Patentansprüche:

1. Verfahren zur Sichtbarmachung der Linien maximaler Schubspannung oder der Isostaten durch Beobachtung der in einem spannungsoptischen Material auftretenden akzidentiellen Doppelbrechungen in polarisiertem Licht, dadurch gekennzeichnet, daß zeitlich auf- "> einanderfolgend Moire-Abbildungen überlagert werden, die durch gleichzeitige Beobachtung des Materials (1, Γ, 24) und eines Rasters (10, 27), dessen Striche bei den Linien maximaler Schubspannung parallel zur Polarisationsebene des Lichtes oder bei den Isostaten in einem Winkel von 45° zu derselben verlaufen, bei verschiedenen zeitlich aufeinanderfolgenden Einstellungen der Polarisationsebene erzielt werden, und daß Material und/oder Raster in Form einer in der *> Ebene des jeweils anderen Elementes erzeugten optischen Abbildung beobachtet werden.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der beobachtete Raster dargestellt wird, indem in der gleichen Ebene (2) mit as dem beobachteten Material (1) ein reelles optisches Bild eines vom Material entfernten gegenständlichen Rasters (10) gebildet wird.

3. Verfahren nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß als Material (1) ein spannungsoptischer Film (3) verwendet wird, der durch Reflexion des Lichtes auf einer darunterliegenden reflektierenden Schicht (2) beobachtet wird, und daß das reelle optische Rasterbild in der Ebene der reflektierenden Schicht gebildet wird.

4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß auf einem Beobachtungsschirm (5, 5', 26) zeitlich aufeinanderfolgende Bilder des Materials (1, 1', 24) erzeugt werden, die dem Raster (10, 27) überlagert sind und den aufeinanderfolgenden Einstellungen der Polarisationsebene entsprechen.

5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Raster (27) an dem Schirm (26) angeordnet wird, auf dem das Bild des Materials (24) abgebildet wird.

6. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis S, dadurch gekennzeichnet, daß die Bilder auf dem Schirm (5, 5', 26) in einem so zeitlichen Rhythmus aufeinanderfolgend erzeugt werden, der die Netzhautanalyse übersteigt.

? Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 4 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß eine kontinuierliche Drehung der Baugruppe aus Polarisator (6, 21), Analysator (7, T, 22), Raster (10, 27) und Schirm (5, 5', 26) erzeugt und zeitlich nacheinander das auf dem Schirm erhaltene, mit dem Raster überlagerte Bild beobachtet wird.

8. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß der Raster (27) durch das Moire zwischen zwei verbundenen Rastern mit veränderlicher gegenseitiger Orientierung gebildet wird.

9. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrcns nach einem der Ansprüche 1 bis 8, gekennzeichnet durch tue Kombination folgender Merkmale:

a) einen Strahlengang von einer Lichtquelle (4. 23) durch ein zu beobachtendes, spannungsoptisches Material (1, Γ, 24) zu einem Beobachtungs- oder Registrierschirm (5, 5', 26), in dem gegebenenfalls Linsen (L₁, L₁, L„ L₄,8,11,25) angeordnet sind;

b) einen Polarisator (6, 21) und einen Analysator (7, 7', 22) im Strahlengang zwischen dei Lichtquelle und dem Material einerseits und zwischen dem Material und dem Registriergerät andererseits;

c) einen Raster (10, 27), der vom Material entfernt auf dem Schirm angeordnet oder mit einer Anordnung (28, 29) verbunden ist, um ein optisches Bild in der Ebene des beobachteten Materials oder in derjenigen seiner Abbildung auf dem Schirm zu erzeugen;

d) eine synchronisierbare Anordnung (28, 29) zur Drehung des Polarisators, des Analysators und des Rasters in bezug auf die Achse des Strahlenganges.