DE2309062A1 - Verfahren zur erzeugung von harzbildern bzw. -mustern und dafuer brauchbare (photoempfindliche) harzzusammensetzungen und schichtkoerper - Google Patents
Verfahren zur erzeugung von harzbildern bzw. -mustern und dafuer brauchbare (photoempfindliche) harzzusammensetzungen und schichtkoerperInfo
- Publication number
- DE2309062A1 DE2309062A1 DE19732309062 DE2309062A DE2309062A1 DE 2309062 A1 DE2309062 A1 DE 2309062A1 DE 19732309062 DE19732309062 DE 19732309062 DE 2309062 A DE2309062 A DE 2309062A DE 2309062 A1 DE2309062 A1 DE 2309062A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- resin
- image
- resin composition
- composition layer
- exposed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims description 56
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims description 56
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims description 56
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 17
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 19
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 19
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 14
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 12
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 12
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 11
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 10
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 6
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 206010035148 Plague Diseases 0.000 claims description 2
- 241000607479 Yersinia pestis Species 0.000 claims description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 28
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 9
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 7
- 238000011161 development Methods 0.000 description 7
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 6
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 6
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 5
- 239000002585 base Substances 0.000 description 5
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical class OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- UTSYWKJYFPPRAP-UHFFFAOYSA-N n-(butoxymethyl)prop-2-enamide Chemical compound CCCCOCNC(=O)C=C UTSYWKJYFPPRAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)oxirane;4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol Chemical compound ClCC1CO1.C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-L adipate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCCCC([O-])=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 2
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 2
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- YOJKKXRJMXIKSR-UHFFFAOYSA-N 1-nitro-2-phenylbenzene Chemical group [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 YOJKKXRJMXIKSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGJQNPIOBWKQAW-UHFFFAOYSA-N 1-tert-butylanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C(C)(C)C BGJQNPIOBWKQAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWKAGZWJHCTVJY-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxyoctadecan-2-one Chemical class CCCCCCCCCCCCCCCC(O)C(C)=O MWKAGZWJHCTVJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N Diacetyl Chemical group CC(=O)C(C)=O QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical group COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N acryloyl chloride Chemical compound ClC(=O)C=C HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- VOOQRJIZEJHBGL-UHFFFAOYSA-N butyl 2-methylprop-2-enoate;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O.CCCCOC(=O)C(C)=C VOOQRJIZEJHBGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical group 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229940114081 cinnamate Drugs 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007596 consolidation process Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N dichromate(2-) Chemical compound [O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005594 diketone group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000010981 drying operation Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical group 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- XTMDYDPHCFUVKQ-UHFFFAOYSA-N n-(propoxymethyl)prop-2-enamide Chemical compound CCCOCNC(=O)C=C XTMDYDPHCFUVKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 150000002924 oxiranes Chemical class 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 239000000575 pesticide Substances 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M trans-cinnamate Chemical compound [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- 229940096522 trimethylolpropane triacrylate Drugs 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/38—Treatment before imagewise removal, e.g. prebaking
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
Description
2, S;·. ' .■·-■■■ '■· |J
81-20.236P(20.237H) 23. Februar 1973
HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. 5-1, 1-chome, Marunouchi; Chiyoda-ku, Tokio (Japan)
Verfahren zur Erzeugung von Harzbildern bzw. -mustern und dafür brauchbare (photoempfindliche) Harzzusammensetzungen
und Schichtkörper
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Erzeugung von Kesist- bzw. Harzbildern oder -mustern sowie auf
dafür brauchbare (photoempfindliche) Harzzusammensetzungen und Laminate bzw. Schichtkörper»
Es sind bereits eine Vielzahl von Vorschlägen bekannt,
die sich auf lichtempfindliche Materialien bzw. Harze zur
Urzeugung von Tafeln oder Karten gedruckter Schaltungen usw. beziehen. Diese harzmaterialien umfassen photoempfindliche
Substanzen und werden bei Bestrahlung mit "aktinischen Strahlen" bzw. chemisch wirksamen Lichtstrahlen unlöslich«, Zu Beispielen '
Ö1-(POS 29 976) WoHe
309837/0817
für solche Materialien gehören photoempfindliche Harzzusammenaetzungen
vom Bichromattyp und Polyvinylcinnamattyp. Diese Harzmaterialien werden üblicherweise in Form von Lösungen
verkauft, die dann bei Verwendung auf eine Unterlage für die Harzbild- bzw. Harzmusterbildung aufgetragen und getrocknet
werden« Die Beschichtungs- und Trockenoperationen erfordern jedoch ziemliches Geschick und bringen so für den
Benutzer dieser Materialien erhebliche Schwierigkeiten mit sich.
Als Ersatz für die erwähnten Harzmaterialien vom Lösungstyp sind in den letzten Jahren filmähnliche Materialien verbreitet
worden. Bei der Anwendung brauchen diese filmähnlich getrockneten Harzmaterialien lediglich auf eine für die Bilderzeugung
vorgesehene Unterlage aufgeschichtet bzw. aufgewalzt zu werden, so daß die mit der Anwendung von Harzmaterialien
vom herkömmlichen Lösungstyp verbundenen Störungen nicht auftreten. Es ist jedoch bekannt, daß die erwähnten neuen Verfahren
und Harzmaterialien in verschiedener Richtung noch stark verbessert werden müssen«
Eine dieser zu verbessernden Eigenschaften ist die Adhäsion des Harzmaterials an der zur Bilderzeugung verwendeten Unterlage.
Das zur Zeit für das Pilmverfahren verwendete Material
wird lediglich durch Abtrennung des Lösungsmittels aus einem Harzmaterial vom herkömmlichen Lösungstyp gebildet und zeigt
mithin notwendigerweise - verglichen mit dem Auftrag von Harzmaterial in Gegenwart von Lösungsmitteln - nur eine geringe
Haftung an der Unterlage^ Infolge dieser ungenügenden Adhäsion treten Erscheinungen wie das Abheben oder Abschälen
des Harzes (von der Unterlage) während der Entwicklung sowie beim Ätzen oder Plattieren auf, was zu erheblichen Störungen
bei der Anwendung dieser Harzmaterialien führt.
309837/0817
Ea wurden daher Verfahren vorgeschlagen, nach denen das auf die Unterlage aufgebrachte Harzmaterial vor der Belichtung
aufgeheizt wird. Nach Untersuchungen der Anmelderin führt jedoch diese Verfahrensweise zu keiner befriedigenden Verbesserung.
Dagegen treten bei Belichtung mit chemisch wirksamen Strahlen über eine längere Zeitdauer hinweg - obgleich
die Haftung des Harzmaterials an der Unterlage nun leicht verbessert ist - infolge einer überschüssigen Exposition
andere unerwünschte Erscheinungen auf: Es wird nämlich der bei der späteren Entwicklung zu entfernende Teil photogehärtet
und das mit dem Material erhältliche Bild oder Muster entspricht dann nicht mehr genau der Maske oder Abdeckung und
ist in der Auflösung verschlechtert. Ferner ergibt sich als Problem, daß die Kosten infolge der Ausdehnung der Behandlungszeit
ansteigen.
Eine weitere Eigenschaft, die zur Zeit außer der Haftfähigkeit dringend verbessert werden sollte, ist die physikalische
Beschaffenheit des Harzmaterials. Bislang verwendete photoempfindliche Substanzen einschließlich photopolymerisierbare
Harze, die ausschließlich in filmähnlichen Harzmaterialien verwendet wurden, haben außerordentlich geringe physikalischchemische Festigkeiten und dem Verbraucher solcher Materialien
sind unterschiedliche Beschränkungen auferlegt: So können sie beispielsweise zwar einer Behandlung unter neutralen oder
sauren Bedingungen, nicht jedoch unter alkalischen Bedingungen wie z.B. einer üblichen nicht-elektrolytischen Kupferplattierung
unterworfen werden. Ferner ist die mechanische Festigkeit unzureichend und die Anwender werden oft belästigt durch
die Bildung von Rissen infolge mechanischer Stöße während unterschiedlicher Operationen. Zusätzlich sind die zur Zeit
verfügbaren Harzmaterialien in den Fällen nicht brauchbar,
309837/0817
wo Harzmaterialien einem Ätzen, Plattieren oder ähnlichen Behandlungen
unterworfen werden und dann, wie sie aind, ohne sie abzuziehen, für den dauerhaften Schutz der harzbedeckten
Teile verwendet werden.
Im Hinblick auf die geschilderte Situation hat die Anmelderin ausgedehnte Untersuchungen zur Entwicklung der vorliegenden
Erfindung durchgeführt, die eine erhebliche Verbesserung bringt.
Ziel der Erfindung sind daher insbesondere ein Verfahren zur Bildung eines Harzbildes oder Musters mit ausgezeichneter
Haftfähigkeit und hohen physikalisch-chemischen Festigkeiten sowie weiterhin Materialien zur Durchführung des Verfahrens.
Das zu diesem Zweck entwickelte erfindungsgemäße Verfahren ist dadurch gekennzeichnet, daß ein aus einem Trägerfilm
und einer Harzkompositionsschicht mit solchen Eigenschaften, daß bei Bestrahlung mit chemisch wirksamem Licht ein latentes
Bild (Härtungspräkursorbild) entsteht, bei dem bei einem nachfolgenden
Aufheizen lediglich die latenten Bildteile selektiv gehärtet werden, gebildeter Schichtkörper - ggf. nach Entfernen
eines Schutzfilms von seiner Oberfläche - auf die Oberfläche eines für die Bilderzeugung dienenden Peststoffs
bzw. Substrats aufgeschichtet bzw. gewalzt wird; daß die Harzkompositionsschicht
dann ggf» nach Entfernung des Trägerfilms, insbesondere wenn dieser für die chemisch wirksamen Lichtstrahlen
undurchlässig ist, in Bildverteilung chemisch wirksamen Lichtstrahlen ausgesetzt wird zur Bildung eines latenten
Bildes in der Harzkompositionsschicht; daß die gesamte Oberfläche der Harzkompositionsschicht zur selektiven Härtung
der latenten Bildbereiche erwärmt wird; und daß der unge-
309837/0817
härtete Anteil dann durch Anwendung einer Flüssigkeit - ggf. nach Beseitigung des transparenten Films, soweit dieser noch
nicht abgetrennt wurde - entfernt wird unter Bildung eines Resistmusters auf der Oberfläche des zur Bilderzeugung dienenden
festen Substrats.
Ein Kennzeichen der vorliegenden Erfindung ist die Härtung der Harzkompositionsschicht zur Bildung des Harzbildes
oder -musters durch eine Kombination von Bestrahlung mit chemisch wirksamen Lichtstrahlen und Erwärmung. Demgemäß
können die Ziele der Erfindung durch Kombination der Strahlung sexposition und Erwärmung erreicht werden, und sie unterscheidet
sich damit von den bislang üblichen Verfahren, bei denen die Härtung lediglich durch Bestrahlung mit chemisch
wirksamen Licht herbeigeführt wird. Durch die Erfindung wird eine erhebliche Verbesserung bezüglich der Probleme der bislang
geübten Technik erreicht, was nicht erwartet werden konnte.
Die Irwärmung gemäß der Erfindung ist keine Hochtemperaturbehandlung
(üblicherweise bei etwa 20O0C), wie sie nach der Entwicklung durchgeführt und mit "Einbrennen" bezeichnet
wird, sondern eine vor der Entwicklung durchgeführte Wärmebehandlung. Durch diese Erwärmung wird lediglich der den
chemisch wirksamen Strahlen ausgesetzte Teil selektiv gehärtet.
Der gemäß der Erfindung verwendete Schichtkörper bzw. das Laminat wird schematisch durch die angefügte Zeichnung
wiedergegeben, bei der 1 ein Trägerfilm, 2 eine Harzkompositionsschicht und 3 ein Schutzfilm ist.
309837/0817
Ein bevorzugter Trägerfilm wird aus einem weiten Bereich von Substanzen wie Papier, Gewebe und Filmen von
Polyamiden, Polyolefinen, Polyestern, Vinylpolymeren, Celluloseestern
und ähnlichen Hochpolymeren ausgewählt. Ein besonders bevorzugter Trägerfilm ist ein Polyäthylenterephthalatfilm,
der eine ausgezeichnete Hesistenz gegenüber Lösungsmitteln
und Wärme besitzt und somit für die Herstellung des Schichtkörpers besonders geeignet ist. Ferner ist dieser Film für
chemisch wirksames Licht durchlässig und wenig durchlässig für Sauerstoff und hat damit den Vorteil, daß er zur Zeit der
Belichtung nicht abgezogen werden muß, sondern unverändert unter einer Maske oder Blende verwendet werden kann.
Die Anwendung dieses Films ist besonders bevorzugt in Fällen eines Photopolymerisationssystems mit einer Harzkompositionsechioht,
die durch Sauerstoff desensibilisiert wird. Wenn jedoch eine Harzkompositionsschicht verwendet wird, die
durch Sauerstoff nicht desensibilisiert wird, ist die Anwesenheit des Trägerfilms während der Exposition nicht erforderlich.
Gemäß der Erfindung wird üblicherweise ein Trägerfilm mit einer Dicke von 4 bis 50 u verwendet.
Die gemäß der Erfindung verwendete Harzkompositionsschicht
2 hat eine Dicke von 3 bis 250 μ, vorzugsweise von
10 bis 80 u und wird aus einer solchen Harzzusammensetzung gebildet, die beim Erwärmen nach Bestrahlung mit chemisch
wirksamem Licht lediglich an den belichteten Teilen selektiv zu einem flüeaigkeitsunlöslichen Zustand gehärtet wird. D.h.,
wenn die Schicht chemisch wirksamen Strahlen ausgesetzt wird, entsteht ein latentes Bild (Härtungspräkursorbild) innerhalb
der Schicht, das bei der nachfolgenden Erwärmung gehärtet wird.
309837/0817
Lie Bezeichnung "Härtungspräkursor", wie sie hier benutzt wird, bezeichnet eine Verbindung, die bei Belichtung
der Harzkompositionaschicht mit chemisch wirksamen Lichtstrahlen
gebildet wird und sich bei Prüfung - wie sie ist (d.h. vor der Erwärmung) - hinsichtlich der Flüssigkeitslöslichkeit
nicht wesentlich von anderen Teilen (d.h. nicht bestrahlten Teilen) unterscheidet bzw. hinsichtlich der Flüssigkeitslöalichkeit
(noch) nicht deutlich verschieden ist. Beispielsweise entspricht daher eine Garbonsäureverbindung,
eine Aminverbindung oder ein lineares Polymeres, das infolge
der Belichtung mit chemisch wirksamen Licht gebildet wird,
dem hier genannten Härtungpräkursor (Die vorstehende Erläuterung wird anhand der unten angegebenen Beispiele für
Harzzusammensetzungen noch verständlicher werden).
Ein Beispiel für eine Harzkomposition ist eine latent
härtbare Epoxyharzzusammensetzung, die im wesentlichen aus (A) einem Epoxyharzpräpolymeren und (B) einer Verbindung zusammengesetzt
wird, die im Molekül zumindest zwei durch die folgenden Formeln (I) und/oder (II) wiedergegebenen Gruppen
aufweist»
NO9
* 0
CH-O-C-N-Io I,
R TJ-
(D (ii)
12 3
in denen R1H und R einzeln ein Wasserstoffatom, eine
Alkylgruppe oder eine Arylgruppe bedeuten.
309837/0817
Es ist allgemein bekannt, daß Verbindungen, die den nachfolgend angegebenen Formeln (III) und (IV) entsprechen,
bei Bestrahlung mit Licht Carbonsäuren bzw. Amine (siehe Formeln a_ bzw. _b) bilden.
NO0 NO
O h.v rt^V^ + RCO2H (Formel a)
CH-O-C-R ^"^0=0
1I 1I
R1 R1
(III)
NOp NO
O hr ν (jV + RNH + CO2 (Formel b)
^CH-O-C-N-R ^^C=0
R2 R3 R2
(IV)
12 3 (wobei R , H und R die bereits angegebene Bedeutung haben)
Die Verbindungen bilden somit bei bestrahlung mit Licht Carboxyl- und Aminogruppen und geben bei der nachfolgenden Erwärmung
Anlaß zur dreidimensionalen Härtung der Harzpräpolymeren (infolge der Existenz dieser Gruppen). Die durch Bestrahlung
mit Licht in obigem Falle gebildeten Amin und/oder Carbonsäure bilden den weiter oben genannten Härtungspräkursor.
Die Einführung der durch die Formel (I) und (II) wiedergegebenen Gruppen ist einfach. D.h., die Gruppe der Formel (I)
wird durch Umsetzung einer Carboxylgruppe, einer Carbonsäureanhydridgruppe
oder einer Säurehalogenidgruppe mit einem durch die Formel (V) wiedergegebenen Alkohol erhalten
309837/0817
NO,
CHOH
(V)
wobei R die bereits angegebene Bedeutung hat.
Auf der anderen Seite wird die Gruppe gemäß Formel (II) durch Umsetzung einer Isocyanatgruppe mit einem Alkohol der
Formel (V) erhalten oder durch die Reaktion gemäß folgendem Schema»
NO
CHOH
+ NO2-ZjVo-C-Cl
NO9
°
CH-O-C-O-ZjVNOj
(Formftl c.)
NO2
CH-O-C-O-
CH-O-C-O-
-NO0 + R-NH
2 I
NO,
CH-O-C-NR + NO0-/ N)-OH
1I 1^ I I ^ N=/
R 1D ^ T ^C
Π. Ix
(Formel . d^)
Die Vorbildung mit zumindest zwei Gruppen der Formeln (I)
und/oder (U) im Molekül wird durch Verwendung eines mehrbasischen Carbonsäurederivats, eines polyfunktionellen Aminderivats
oder eines polyfunktionellen Isocyanatderivats synthetisiert,
ßß wird beispielsweise eine Verbindung mit 2 Gruppen
der i'omeln (i) an den beiden Enden durch Umsetzung von Adipin-
309837/0817
säurechlorid mit einem Alkohol der Formel (V) und eine Verbindung
mit 2 Gruppen der Formel (II) an den beiden Enden durch Umsetzung von Hexamethylendiisocyanat mit einem Alkohol
der Formel (V) erhalten» Alternativ wird eine Verbindung mit vielen Gruppen der Formel (I) im Molekül durch Polymerisation
eines Acrylsäureesters erhalten, der durch Umsetzung von Acrylsäurechlorid mit einem Alkohol der Formel (V) gebildet
wird.
Gemäß der Erfindung brauchbare Epoxyharzpräpolymere sind Verbindungen mit zumindest 2 Epoxygruppen in einem Molekül
und umfassen Epichlorhydrin-Bisphenol A Kondensate, Polyolefin· epoxide, Epoxyharze vom Novolaktyp und Hochpolymere von G-Iycidylestern
ungesättigter Säuren. Diese Epoxyharzpräpolymeren werden durch Erwärmen zusammen mit Carboxyl- und Aminogruppen
(die durch Belichtung von Verbindungen mit zumindest 2 Gruppen der Formel (I) und/oder (II) im Molekül gebildet werden) glatt
dreidimensional vernetzt.
Unter üblichen Bedingungen erfolgt die Bildung von Carboxyl- und Aminogruppen durch Belichtung von Verbindungen
mit Gruppen der Formel (I) und (II) mit hoher Wirksamkeit und kann als praktisch quantitativ betrachtet werden, obgleich
die Mengen der gebildeten Gruppen, abhängig von der Art und Intensität der verwendeten Lichtquelle, variieren« Demgemäß
können das Mischungsverhältnis der Verbindung mit Gruppen der Formeln (I) bzw. (II) mit dem Epoxyharzpräpolymeren
und die Härtungsbedingungen nach Bestrahlung mit Licht unter der gleichen Betrachtungsweise ausgewählt werden,
wie in dem Falle, wo eine polyfunktionelle Carbonsäure oder Aminverbindung und ein korrespondierendes übliches Epoxyharz
verwendet werden. Üblicherweise wird die Verbindung mit dem
309837/0817
Epoxypräpolymeren in einem solchen Verhältnis gemischt,
daß die Gesamtmenge der Gruppen der Formeln (I) und/oder (II) bezogen auf die Menge der Epoxygruppen im Epoxyharzpräpolymeren
0,1 bis 0,8 äquivalent, vorzugsweise 0,3 bis 0,7 äquivalent wird.
Die Harzzusammensetzung kann unterschiedliche Füllstoffe, Zusätze, Pigmente, Farben usw. als Hilfskomponenten enthalten.
Im Hinblick auf die Photoempf indliclikeit der Zusammensetzung
ist es notwendig, bezüglich der Lichtdurchlässigkeit derselben mehr oder weniger Beschränkungen zu treffen. Vorzugsweise
wird ein synthetisches Hochpolymeres und ein Weichmacher zur Kontrolle der Filmeigenschaften der Zusammensetzung verwendet.
Ein weiteres Beispiel für die gesaäß der Erfindung verwendete
Harzzusammensetzung ist eine härtbare Harzkomposition, die hauptsächlich aus Photopolymerisationssensibilisatoren
und N-Methylolacrylamidderivaten der Formel (VI)
0
ti
R-O-CH2-N-C-G=CH2 (Vl)
ti
R-O-CH2-N-C-G=CH2 (Vl)
H R1
in der R ein Wasserstoffatom oder eine substituierte oder
nicht substituierte Alkylgruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen und R1 ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe ist, zusammengesetzt
wird.
Die N-Methylolacrylamidderivate haben die Eigenschaft,
daß die im Molekül vorhandenen Vinylgruppen bei Bestrahlung mit chemisch wirksamem Licht in Gegenwart von Photopolymerisationssensibilisatoren
polymerisieren und wenn sie aufgeheizt werden, ergeben die Methyläthergruppen Kondensationsreaktionen,
309837/0817
Demgemäß wird die Zusammensetzung chemisch wirksamen
Strahlen ausgesetzt unter Bildung eines Polyinermusters als ein latentes Bild (Härtungspräkursorbild) und sie wird dann
zur Härtung allein durch Kondensation der polymeren Bildteile, d.h. der Härtungspräkursorbildteile erwärmt.
Beispiele für gemäß der Erfindung verwendete Λ-1/lethylolacrylamidderivate
sind N-Methylolacrylamiä, N-Äthoxymethylacrylamid,
N-Propoxymethylacrylamid , l^-Butoxymethylacrylamid
und Methacrylamidhoraologe davon. Diese können entweder einzeln oder in Form einer Mischung verwendet werden» Die Menge der
angewandten N-Kethylelacrylamidderivate liegt bei 10 bis 80 Gew.
(bezogen auf das Gewicht der Harzkomposition).
Die andere wesentliche Komponente sind Photopolymerisationssensibilisatoren,
welche eine Initiator- und Promotorwirkung auf die Polymerisation von Vinylgruppen ausüben, wenn
die Zusammensetzung mit chemisch wirksamem Licht bestrahlt wird. Zu Beispielen für Sensibilisatoren gehören Verbindungen
vom Anthrachinontyp wie t.Butylanthrachinon; Verbindungen vom Acylointyp wie Benzoin und Alkylätherderivate davon; Ketone
wie Benzophenon und Michler's Keton; sowie Diketone wie Diacetyl Diese können entweder einzeln oder in Form einer Mischung
verwendet werden»
Die Menge des angewandten Sensibilisator liegt bei 0,1 bis 50 Gew.>, vorzugsweise 0,5 bis 20 Gew.(/o (bezogen auf
das Gewicht der Harzkomposition).
Zu weiteren zur Harzkomposition zuzusetzenden Hilfskomponenten
gehören thermische Polymerisationsinhibitoren, Bindemittel und Weichmacher zur Verleihung und Kontrolle der
Filmeigenschaften sowie Farben und Pigmente.
309837/0817
Die Harzkompositionsschicht 2 wird durch Auftragen einer Lösung der obigen Zusammensetzung auf den Trägerfilm 1 und
anschließendes Trocknen erzeugt. Der Schutzfilm 3 wird auf die so gebildete Harzkompositionsschicht 2 aufgeschichtet.
Ein bevorzugter Schutzfilm wird aus den weiter oben als Beispiel angegebenen Trägerfilmen ausgewählt. Kin besonders bevorzugter
Schutzfilm ist ein Polyäthylenfilm, der im Hinblick auf seine Kosten und physikalischen Eigenschaften häufig verwendet
wird. Die Dicke des Schutzfilms liegt üblicherweise bei 4 bis 50 μ.
Der Harz- bzw. Resistbilderzeugungeprozeß gemäß der Erfindung
kann extrem leicht praktisch durchgeführt werden, ohne irgendeine hochentwickelte Technik. Die schichtweise
Auftragung auf die Oberfläche eines für die .bilderzeugung dienenden Feststoffs bzw. festen Substrats erfolgt unter
Entfernung des Schutzfilms. Üblicherweise wählt man eine Verfahrensweise, nach der der Schichtauftrag unter Druck mit
einer warmen Walze bei 40 bis 150^C vorgenommen wird»
Vorzugsweise wird die Oberfläche des Feststoffs bzw.
festen Substrats vor dem Schichtauftrag gereinigt oder einer Vorbehandlung zur Erhöhung der Adhäsion der Harzkompositionsschicht
unterworfen. Insbesondere das Vorwärmen (üblicherweise auf 50 bis 1500G) der festen Oberfläche liefert günstige Ergebnisse.
Eine Wärmebehandlung vor der Belichtung mit chemisch wirksamen Strahlen nach dem Schichtauftrag ist nicht wesentlich,
bringt jedoch bisweilen günstige Ergebnisse. Die Belichtung mit chemisch wirksamer Strahlung erfolgt üblicherweise
für eine kurze Zeitdauer, die allerdings abhängig von der Art und Intensität der verwendeten Lichtquelle und der Art der
Harzkomposition variiert.
309837/0817
Als Lichtquelle für chemisch wirksame Strahlung kann irgendeine Niederdruckquecksilberlampe, Hochdruckquecksilberlampe,
Ultrahochdruckquecksilberlampe, Kohlebogenlampe oder Xenonlampe verwendet werden, .besonders bevorzugt werden
Quecksilberhochdrucklampen und Quecksilberultrahochdrucklampen,
üblicherweise reicht es aus, wenn eine Harzkompositionsschicht von 40 u Dicke 0,5 bis 20 Minuten lang mit einer Quecksilberhochdruck-
oder -ultrahochdrucklampe mit einer Intensität von 5000 uW/cm (an der bestrahlten Oberfläche) bestrahlt wird.
Nach der Belichtung mit chemisch wirksamer Strahlung wird die Harzkompoaitionsschicht ohne irgendeine Behandlung erwärmt.
Die Erwärmung erfolgt auf eine Temperatur von 25 bis 2500G,
vorzugsweise 60 bis 2000C. Üblicherweise wird über eine Zeitdauer
innerhalD von 20 Minuten erwärmt.
Anschließend wird die Harzkompositionsschicht vom Trägerfilm befreit, wenn ein solcher (noch) anwesend ist und dann
entwickelt. Die für die Entwicklung zu verwendende Flüssigkeit ist ein Verbindung, die in der Lage ist, ungehärtete Teile
der Harzkompositionsschicht zu entfernen und wird üblicherweise durch einen halogenierten Kohlenwasserstoff gebildet.
Im Falle, daß beispielsweise ein wasserlösliches Polymeres als Bindemittel in der Harzkompositionsschicht verwendet wurde,
wird eine wässrige schwach alkalische Lösung oder ein Alkohol benutzt.
Nach-der Entwicklung kann die Schicht weiterhin einer
Wärmebehandlung zur Verstärkung bzw=, Festigung des resultierenden
Bildes unterworfen werden. Das so erhaltene Harzbild besitzt bzw. behält genügende Festigkeiten, da das Harz während
des Ätzens, Plattierens oder ähnlicher Behandlungen keinerlei
Schädigung (wie ein Abschälen oder Abheben) erleidet und
309837/0817
es wird somit erfolgreich für die Erzeugung von Tafeln bedruckter Schaltungen, von Offset-Druckplatten sowie für
,die Präzisionsbearbeitung von Metallen verwendet.
Nachfolgend wird die Erfindung im einzelnen anhand von Beispielen erläutert.
(A) Laminat- bzw. Schichtkörperherstellung:
Eine Harzkomposition wurde unter Verwendung der folgenden Verbindungen hergestellt:
Bis-(o-nitrodiphenylmethyl)-adipat 5,68 Grew.-teile
Epoxyharz "Epicote 828" der An nr. „
Shell Co. 4υ,υυ
Phenoxyharz "PKHH" der Union ^n nn „
Garbide Co. 60'00
Chloroform 20,00 "
Die so hergestellte Harzkomposition wurde auf einen PoIyäthylenterephthalatfilm
von 25 μ Dicke aufgetragen und unter Bildung einer Harzkompositionsschicht mit einer Dicke von
30 u getrocknet. Anschließend wurde ein Polyäthylenfilm von 30 u Dicke als Schutzfilm auf besagte Harzkompositionsschicht
unter Fertigstellung des Schichtkörpers auigebracht«
(B) Harzbilderzeugung»
Ein mit einer Kupferfolie bedecktes Blatt bzw. Bahnmaterial (laminate sheet) wurde in herkömmlicher Weise ge-
309837/0817
reinigt» Auf die Kupferfolie des Bahnmaterials wurde die Harzkompositionsschicht
des nach (A) hergestellten Schichtkörpers unter Verwendung von zwei auf 1000G aufgeheizten V/alzen nach
Abziehen des Polyäthylenfilms aufgeschichtet. Das resultierende Produkt wurde 3 Minuten lang durch eine Maske mit einer
in einem Abstand von 70 cm befindlichen 3 kW Quecksiloerultrahochdrucklampe
belichtet. Unmittelbar danach wurde die Schichtanordnung 5 Minuten lang auf 160 G erhitzt, auf Zimmertemperatur
abkühlen gelassen und dann unter Verwendung einer 1s1
Mischlösung von 1,1,2-Trichloräthylen (Trichlen) und 1,1,1-Trichloräthan
(Chlorocen) unter Erzielung eines der Maske genau -entsprechenden Harzbildes entwickelt. Das so erhaltene
Harzbild konnte erfolgreich nach herkömmlichen Verfahren geätzt und nachfolgend mit Gold plattiert werden. Ferner gab
das Harzbild keinen Anlaß zu Quellerscheinungen, Rißbildung usw., selbst wenn es 10 Stunden lang in wässrige Natronlauge
(pH 12) von 600C getaucht wurde. Es war somit klar, daß das
Harzbild erfolgreich als Harzschutz bzw. Harzdeckschicht (Resist) dienen kann, und zwar selbst in einem alkalischen
Metallbehandlung§mittel.
Beispiel 2
(A) Schichtkörperherstellung
(A) Schichtkörperherstellung
Eine Harzkomposition wurde unter Verwendung folgender
Verbindungen hergestellt:
NjN'-Bis-io-nitrodiphenyl-methyloxy-
carbonyl)-hexamethylendiamin 16,00 (iew.-teile
(Formel VII siehe unten)
Epoxyharz "Epicote 828" von Shell ^o. 20,00
Phenoxyharz "PKHH" von Union on on
Garbide Co. ^υ'υυ
Chloroform 150,00
309837/0817
NO9 NO9
(Formel VII)
c u ι t
Anschließend wurde die Karzkomposition in gleicher Weise wie in Beispiel 1 behandelt zur Erzeugung eines Laminats bzw.
Schichtkörpers.
(B) Harzbilderzeugung:
Der nach (A) hergestellte Schichtkörper wurde in gleicher
i/eise wie in .Beispiel 1 behandelt, wodurch ein genaues, der kasKe entsprechendes Harzoild auf der mit Kupferfolie bedeckten
ächichtanordnung erhalten wurde.
Bine Mischung von 5)0 g o-Mitrobenzylacrylat, 3,0 g
Glycidylmethacrylat, 10,0 g Methylmethacrylat, 0,2 g Azobis-isobutyronitril
und 4-0 ml Methyläthylketon wurde 12 Stunden lang bei 75°G polymerisiert zur Erzielung von 14,0 g
eines Üopolymeren. Das so erhaltene Copolymere wurde in Benzol
gelöst und die resultierende Lösung auf 2 Aluminiumfolien
oder -schichten mit sauberen Oberflächen aufgetragen und dann 20 kinuten lang
mit 50 u Dicke.
mit 50 u Dicke.
20 kinuten lang bei 800C getrocknet zur Erzeugung von 2 Filmen
Einer der beiden Filme wurde 5 kinuten lang mit einer 3 kW-Quecksilberultrahochdrucklampe mit einer Intensität von
5000 ^uW/cm (an der belichteten Ooerfläche) bestrahlt und
der andere Film wurde unbelichtet gelassen. Jeweils 3 g des
309837/0817
belichteten und unbelichteten Films wurden abgenommen und
hinsichtlich der Gelierungseigenschaften auf einer heißen Platte überprüft, uabei wurde gefunden, daß der belichtete
.Film bei einem 180 Sekunden langen Erwärmen auf 1400G gelierte,
während der nicht belichtete Film selbst bei einstündiger Erwärmung auf 14O°C nicht gelierte.
Unter Verwendung der vorgenannten benzolischen Lösung des Copolymeren wurde ein Laminat oder Schichtkörper mit
einem Polyäthylenfilm, einer Harzkompositionsschicht von 30 u Dicke und einem Polyäthylenterephthalatfilm in gleicher
Weise wie in Beispiel 1 hergestellt. Der so erzeugte Schichtkörper
wurde auf eine mit Kupferfolie bedeckte Schichtanordnung aufgeschichtet bzw. aufgebracht, 5 Minuten lang durch
eine Maske hindurch belichtet, 10 Minuten lang bei 1400G
wärmebehandelt und dann in gleicher Weise wie in Beispiel 1 entwickelt unter Erzielung eines genau der Maske entsprechenden
Harzbildes mit einer Auflösung von 12,5 Linien/mm und einer Kodak-Stufentafelzahl (Kodak step tablet number) von
Das so erhaltene Harzbild hatte wie das nach Beispiel 1 erhaltene Harzbild ausgezeichnete Harz- bzw. Hesisteigenschaften.
Eine Harzkomposition wurde unter Verwendung der folgenden Verbindungen hergestellt;
Methyl-o-nitrodiphenyl-adipat 5,68 Gew»-teile
Methylmethacrylat-Glycidyl-
methacrylat-n-Butylmethacrylat- .,Q „Q „
Copolymer (Gew.-verhältnis von * 70*10*20)
Methyläthylketon 70,00 »
309837/0817
Die ao hergestellte Harzkomposition wurde in gleicher Weise wie in Beispiel 1 behandelt, wodurch ein präzises der
Maske entsprechendes Bild auf der mit Kupferfolie bedeckten
Schichtanordnung gebildet wurde.
(A) Schichtkörperherstellung:
Eine Harzkomposition würde unter Verwendung folgender
Verbindungen hergestellt j
Polymethylmethacrylat 60 Gew.-teile
N-n-Butoxymethylacrylamid 35 "
Benzoin-methyläther 2 "
Hydrochinon 0,2 "
Methylethylketon 100 "
Die so hergestellte Harzkomposition wurde auf einen Polyäthylenterephthalatfilm von 25 u Dicke aufgetragen und
bei 700G getrocknet unter Bildung einer Harzkompositionsschicht
mit einer Dicke von 30 μ. Anschließend wurde ein Polyäthylenfilm von 30 μ Dicke als Schutzfilm auf die Harzkompositionsschicht
zur Erzeugung eines Laminats bzw. Schichtkörpers aufgebracht.
(B) Harzbilderzeugung:
Eine mit Kupferfolie bedeckte Schichtanordnung wurde nach einem herkömmlichen Verfahren gereinigt. Auf die Kupferfolie
der Anordnung wurde dann die Harzkompositionsschicht des nach (A) hergestellten Laminats unter Verwendung von zwei
auf 100°ΰ aufgeheizten Y/alzen aufgebracht, wobei der Polyäthy-
309837/0817
lenfilm vom Laminat abgezogen wurde. Die resultierende Schichtanordnung wurde 50 Sekunden lang durch eine Kodak-Stufentafelzahl
2 und eine Auflösungskarte mit einer in einem Abstand von 70 cm vom Schichtkörper angeordneten 3 kW-Quecksilberhochdrucklampe
bestrahlt. Unmittelbar danach wurde die Anordnung 3 Minuten lang auf 1400C erhitzt, auf Zimmertemperatur
abkühlen gelassen und dann unter Verwendung von 1,1,1-Trichloräthan
entwickelt unter .Erzielung eines Harzbildes mit einer Stufentafelzahl von 9 und einer Auflösung von 15
Linien/mm. Das so erhaltene Harzüild war bei einer Ätzbehandlung nach herkömmlichen Verfahren und dem nachfolgenden Plattieren
mit Gold beständig.
Zum Vergleich wurde ein Harzbild in gleicher Weise wie oben hergestellt, nur daß die Wärmebehandlung fortgelassen
wurde. Das so erhaltene Harzbild hatte eine Stufentafelzahl
von 2 und ein Auflösung von 2 Linien/mm (wobei die Linien nicht klar waren).
Zum Zwecke eines weiteren Vergleichs.wurde ein Harzbild
in gleicher Weise wie obe.i erzeugt, nur daß die Wärmebehandlung
fortgelassen und die Bestrahlung mit chemisch wirksamem Licht 3 Minuten lang durchgeführt wurde. Das so erhaltene
Harzbild hatte eine Stufentafelzahl von 4, jedoch konnte seine
Auflösung nicht mit der verwendeten Auflösungskarte bestimmt
werden und wurde zu weniger als 2 Linien/mm befunden. In diesem Falle wurde festgestellt, daß auch ein Teil, der nicht gehärtet
werden sollte, durch die überschüssige Belichtung gehärtet worden war.
Beispiel 1 wurde wiederholt, nur daß die Harzkomposition unter Verwendung folgender Verbindungen hergestellt wurde:
309837/0817
60 | Gew.-teile |
'30 | Il |
5 | It |
5 | Il |
0,2 | ι· |
Methylmethacrylat-Acrylnitril-Copolymer
(Gew.-verhältnis von 10:1) tf-Methylolacrylamid
Trimethylolpropantriacrylat
t.-Butylanthrachinon
p-Methoxyphenol
Trimethylolpropantriacrylat
t.-Butylanthrachinon
p-Methoxyphenol
Als Ergebnis wurde ein ausgezeichnetes Harzbild erhalten.
Beispiel 5 wurde wiederholt, nur daß Verbindungen, die durch Umsetzung von N-Methylolacrylamid mit Äthylenglykol
bzw. Gellosolveacetat in Gegenwart eines sauren Katalysators erhalten worden waren, einzeln anstelle des N-n-Butoxymethylacrylamids
verwendet wurden, wodurch ausgezeichnete Harzbilder erhalten werden konnten. Es ist somit klar, daß die oben erwähnten
Verbindungen wie N-n-Butoxymethylacrylamid für die
Herstellung von erfindungsgemäß geeigneten Harzkompositionen ebenfalls verwendet werden können.
Aus den vorstehenden Beispielen folgt klar, daß nach dem erfindungsgemäßen Verfahren Harzbilder einfach erzeugt werden
können und daß die so erzeugten Harzbilder fest auf der Oberfläche eines für die Bilderzeugung dienenden Pestkörpers bzw.
Substrats haften und bei Behandlungen wie Ätzen, Plattieren usw. ausreichend als Harzschutz bzw. "Resist" wirken und für
die Erzeugung von Tafeln gedruckter Schaltungen, für die Präzisionsbearbeitung
von Metallen und die Herstellung von Offset-Druckplatten
brauchbar sind«
309837/0817
Insbesondere die gemäß der Erfindung verwendete Epoxyharzzusammensetzung
hat eine ausgezeichnete Alkalibeständigkeit und ist damit als Resistmaterial brauchbar, das einer
Metallbehandlung unterworfen werden kann, für die bekannte filmähnliche Resistmaterialien nicht brauchbar sind.
309837/0817
Claims (4)
- - 23 Patentansprüche1·/ Verfahren zur Erzeugung eines Harzbildes oder -musters, dadurch gekennzeichnet, daß ein aus einem Trägerfilm und einer Harzkompositionsschicht mit der Eigenschaft, daß sie bei Belichtung mit chemisch wirksamen Lichtstrahlen ein latentes Bild (Härtungspräkursorbild) liefert, das bei der nachfolgenden Erwärmung unter Aussparung der nicht belichteten Teile selektiv gehärtet wird, zusammengesetzter Schichtkörper auf die Oberfläche eines zur Bilderzeugung dienenden Festkörpers nach Entfernung eines ggf. vorhandenen Schutzfilms von der Schichtkörperoberfläche schichtartig aufgebracht wird; daß die Harzkompositionsschicht in Bildverteilung mit chemisch wirksamen Lichtstrahlen nach Entfernung des Trägerfilms, wenn dieser für die Strahlung undurchsichtig ist, belichtet wird unter Bildung eines latenten Bildes (Härtungspräkursorbildes) in der Harzkompositionsschicht; daß die gesamte Oberfläche der Harzkompositionsschicht dann zur selektiven Härtung der Bereiche des latenten Bildes aufgeheizt wird; und daß der ungehärtete Teil nach Entfernung des durchsichtigen Trägerfilms, wenn dieser noch vorhanden ist, unter Verwendung einer Flüssigkeit entfernt wird, wodurch auf der Oberfläche des für die Bilderzeugung dienenden Pestkörpers ein Harz-bzwe Resistbild entsteht.
- 2. Resistmusterbildender Schichtkörper insbesondere zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch (a) einen Trägerfilm; (B) eine Harzkompositionsschicht mit der Eigenschaft, daß sie bei Belichtung mit chemisch wirksamer Lichtstrahlung ein latentes Bild (Härtungspräkursor-309837/0817bild) liefert, das beim nachfolgenden Aufheizen unter Aussparung der nicht belichteten Teile selektiv gehärtet wird und ggf. (G) einen Schutzfilm.
- 3. Härtbare Harzkomposition für die harzbilderzeugung ins besondere nach Anspruch 1 oder 2, gekennzeichnet durch (A) ein Epoxyharzpräpolymeres und (B) eine Verbindung, die im Molekül zumindest zwei Gruppen aufweist, die durch die i'orinel (i) und/oder (II) wiedergegeben werden:(D12 3wobei R , R und R einzeln ein ./asserstoffatom, eine Alkyl- gruppe oder eine Arylgruppe bedeuten.
- 4. Härtbare Harzkomposition für die Harzbilderzeugung ins besondere nach Anspruch 1 oder 2, gekennzeichnet durch Photopolymerisat ions sens ibili sato ren und ri-Methylolacrylair.i d derivate der Formel:R-O -G H0 -N-O-C=C H,
H R1in der R ein Wasserstoffatom oder eine ggf. substituierte Alkylgruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen und R1 ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe ist.309837/0817
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1894072 | 1972-02-25 | ||
JP1894072A JPS5146159B2 (de) | 1972-02-25 | 1972-02-25 | |
JP2225272 | 1972-03-06 | ||
JP47022252A JPS5228370B2 (de) | 1972-03-06 | 1972-03-06 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2309062A1 true DE2309062A1 (de) | 1973-09-13 |
DE2309062B2 DE2309062B2 (de) | 1976-11-11 |
DE2309062C3 DE2309062C3 (de) | 1977-07-07 |
Family
ID=
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2397770A1 (fr) * | 1977-07-12 | 1979-02-09 | Asahi Chemical Ind | Procede de production d'une image et de son element photosensible, et methode de production de plaquette a circuit imprime |
FR2475752A2 (fr) * | 1978-06-08 | 1981-08-14 | Du Pont | Composition photopolymerisable contenant un compose o- nitroaromatique comme photo-inhibiteur et procedes de formation d'images a partir de cette composition |
EP0019770B1 (de) * | 1979-06-05 | 1983-07-27 | BASF Aktiengesellschaft | Positiv arbeitendes Schichtübertragungsmittel |
EP0101587A2 (de) * | 1982-08-21 | 1984-02-29 | BASF Aktiengesellschaft | Positiv arbeitendes Verfahren zur Herstellung von Reliefbildern oder Resistmustern |
EP0101586A2 (de) * | 1982-08-21 | 1984-02-29 | BASF Aktiengesellschaft | Verfahren zur Herstellung von Tiefdruckformen mit Kunststoff-Druckschichten |
EP0101976A2 (de) * | 1982-08-21 | 1984-03-07 | BASF Aktiengesellschaft | Negativ arbeitendes Verfahren zur Herstellung von Reliefbildern oder Resistmustern |
EP0134574A1 (de) * | 1983-09-02 | 1985-03-20 | BASF Aktiengesellschaft | Als positiv arbeitendes Aufzeichnungsmaterial geeignetes lichtempfindliches, härtbares Gemisch |
EP0184044A2 (de) * | 1984-11-23 | 1986-06-11 | Hoechst Aktiengesellschaft | Strahlungsempfindliches Gemisch, daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung von wärmebeständigen Reliefaufzeichnungen |
EP0191400A2 (de) * | 1985-02-12 | 1986-08-20 | Hoechst Aktiengesellschaft | Lichtempfindliches Gemisch und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial |
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2397770A1 (fr) * | 1977-07-12 | 1979-02-09 | Asahi Chemical Ind | Procede de production d'une image et de son element photosensible, et methode de production de plaquette a circuit imprime |
FR2475752A2 (fr) * | 1978-06-08 | 1981-08-14 | Du Pont | Composition photopolymerisable contenant un compose o- nitroaromatique comme photo-inhibiteur et procedes de formation d'images a partir de cette composition |
EP0019770B1 (de) * | 1979-06-05 | 1983-07-27 | BASF Aktiengesellschaft | Positiv arbeitendes Schichtübertragungsmittel |
US4576902A (en) * | 1979-06-05 | 1986-03-18 | Dietrich Saenger | Process of making and using a positive working photosensitive film resist material |
EP0101976A3 (en) * | 1982-08-21 | 1984-08-29 | Basf Aktiengesellschaft | Negative process for obtaining relief or resist patterns |
EP0101976A2 (de) * | 1982-08-21 | 1984-03-07 | BASF Aktiengesellschaft | Negativ arbeitendes Verfahren zur Herstellung von Reliefbildern oder Resistmustern |
US4465760A (en) * | 1982-08-21 | 1984-08-14 | Basf Aktiengesellschaft | Production of relief images or resist images by a negative-working method |
EP0101587A3 (en) * | 1982-08-21 | 1984-08-22 | Basf Aktiengesellschaft | Positive process for obtaining relief or resist patterns |
EP0101586A2 (de) * | 1982-08-21 | 1984-02-29 | BASF Aktiengesellschaft | Verfahren zur Herstellung von Tiefdruckformen mit Kunststoff-Druckschichten |
EP0101586A3 (en) * | 1982-08-21 | 1984-09-05 | Basf Aktiengesellschaft | Process for the manufacture of plates for intaglio printing using plastic printing foils |
EP0101587A2 (de) * | 1982-08-21 | 1984-02-29 | BASF Aktiengesellschaft | Positiv arbeitendes Verfahren zur Herstellung von Reliefbildern oder Resistmustern |
EP0134574A1 (de) * | 1983-09-02 | 1985-03-20 | BASF Aktiengesellschaft | Als positiv arbeitendes Aufzeichnungsmaterial geeignetes lichtempfindliches, härtbares Gemisch |
EP0184044A2 (de) * | 1984-11-23 | 1986-06-11 | Hoechst Aktiengesellschaft | Strahlungsempfindliches Gemisch, daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung von wärmebeständigen Reliefaufzeichnungen |
EP0184044A3 (en) * | 1984-11-23 | 1988-01-13 | Hoechst Aktiengesellschaft | Light-sensitive composition, registration material prepared thereof, and process for obtaining heat-resistant relief images |
EP0191400A2 (de) * | 1985-02-12 | 1986-08-20 | Hoechst Aktiengesellschaft | Lichtempfindliches Gemisch und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial |
EP0191400A3 (en) * | 1985-02-12 | 1988-01-13 | Hoechst Aktiengesellschaft | Light-sensitive composition and registration material prepared thereof |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB1418169A (en) | 1975-12-17 |
DE2309062B2 (de) | 1976-11-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2105616C3 (de) | Photopolymerisierbares Gemisch und dessen Verwendung zur Herstellung von Druckplatten oder gedruckten Schaltungen | |
EP0186091B1 (de) | Trockenfilmresist und Verfahren zur Herstellung von Resistmustern | |
DE2734508C3 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Flachdruckplatte bzw. eines Flachdruckblattes | |
DE69031159T2 (de) | Lichtempfindliche Harzzusammensetzung zur Herstellung von Leitermustern und mehrschichtige gedruckte Leiterplatten unter Verwendung dieser Zusammensetzung | |
DE2406400A1 (de) | Lichtempfindliche harzzusammensetzungen | |
DE3717199A1 (de) | Photohaertbare resist-harzmasse zum stromlosen plattieren und ihre verwendung zur herstellung von gedruckten schaltungen | |
DE2520775B2 (de) | Photopolymerisierbares Gemisch | |
EP0129901B1 (de) | Lichtempfindliches, wasserentwickelbares Aufzeichnungsmaterial für die Herstellung von Druck-, Reliefformen und Resistmustern | |
DE2427610C3 (de) | Gedruckte Schaltungsplatte und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
DE2207853A1 (de) | Photoempfindliche, dielektrische Zusammensetzung | |
EP0141389A2 (de) | Verfahren zur Herstellung von bildmässig strukturierten Resistschichten und für dieses Verfahren geeigneter Trockenfilmresists | |
DE3525901A1 (de) | Mit wasser entwickelbare photopolymerisierbare zusammensetzungen und druckplatten | |
DE3808951A1 (de) | Photopolymerisierbare, zur herstellung von druckformen geeignete druckplatte | |
DE2615055C3 (de) | Lichtempfindliches Gemisch | |
DE3853283T2 (de) | Zusammensetzungen für aufzeichnungsmaterialien. | |
DE2809767C2 (de) | Vorbehandelter Schichtträger zur Herstellung von vorsensibilisierten Druckplatten | |
DE1917917A1 (de) | Wasserwaschbare Photopolymerisat-Druckplatten und ihre Herstellung | |
EP0141921B1 (de) | Durch Strahlung polymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes Kopiermaterial | |
DE1905012C3 (de) | Photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial zum Herstellen von Reliefs | |
DE2935904A1 (de) | Positiv arbeitende photopolymerisierbare formmassen und ihre verwendung zur herstellung von druckplatten sowie aetzmittelbestaendigen resists | |
DE69319277T2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer mehrschichtigen Leiterplatte und daraus erhaltenes Produkt | |
DE3930586A1 (de) | Photodruckfaehige, permanente abdeckmasken | |
DE2658299A1 (de) | Loesliche lichtempfindliche harzzusammensetzung und ihre verwendung | |
DE1300025B (de) | Verfahren zur Herstellung einer positiv arbeitenden Flachdruckplatte | |
DE2309062A1 (de) | Verfahren zur erzeugung von harzbildern bzw. -mustern und dafuer brauchbare (photoempfindliche) harzzusammensetzungen und schichtkoerper |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 |