DE2252343A1 - Verfahren zur herstellung von kuenstlichen diamanten - Google Patents
Verfahren zur herstellung von kuenstlichen diamantenInfo
- Publication number
- DE2252343A1 DE2252343A1 DE2252343A DE2252343A DE2252343A1 DE 2252343 A1 DE2252343 A1 DE 2252343A1 DE 2252343 A DE2252343 A DE 2252343A DE 2252343 A DE2252343 A DE 2252343A DE 2252343 A1 DE2252343 A1 DE 2252343A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- diamond
- inert gas
- artificial
- graphite
- diamonds
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0605—Carbon
- C23C14/0611—Diamond
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B32/00—Carbon; Compounds thereof
- C01B32/25—Diamond
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B32/00—Carbon; Compounds thereof
- C01B32/25—Diamond
- C01B32/26—Preparation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geology (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
Beschreibung
zu der
zu der
Patentanmeldung
der
1. Wjatschesli-w Mich-ijlov/itscb GoIjanov/,Physiker,
UdSSR, Moskau, u.Li za Rogov/a, 18, kv/. 3;
2. Alek Pl£).tot'ov/.itsch Deinidov/,Techniker,
UdSSR, Mo ök au, ul i ζ a Rogov/a, 3, kv/. O
betreffend
VERFAHREN ZUR IiKRSTEIXTJIiG VON KÜHoSLICHEN DIAM (Priorität: 28. Oktober 1971, UDSSR, Nr. 1 708 806)
VERFAHREN ZUR IiKRSTEIXTJIiG VON KÜHoSLICHEN DIAM (Priorität: 28. Oktober 1971, UDSSR, Nr. 1 708 806)
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf
ein Verfahren zur Herstellung von überharten LIateri~
alieiii insbenondere auf ein Verfahren zur Herstellung von künstlichen
Diamanten, und kann für die Herstellung von Diaaanten
vom Typ "Karbonados", Diamantfilmen und Mehrschichtenuberzü^an
vom "SandwichM-Typ angewandt werdene
Es sind zv/ei i^rundsätzlich verschiedene Verfahren zvt£
Herstellung von künstliehen Diamanten bekannt« iiach
einem dieser Verfahren werden die künstlichen Diananten in
speziellen Hochdrucldraamern aus Graphit durch Einwirkung auf
diesan mit· einem Druck von über 50 000 at und eiiior Temperatur
von über 1200cC hergestellt· !lach dem anderen Verfahren orluilt
BAD ORIGINAL
309819/0761
2282-5 4
man die künstlichen Diamanten unter Verwendung von . Impfkristall unter atmosphärischem Druck bei einer
Temperatur um 1GOO0C.
Bei der Anwendung hohen Drucks und hoher temperat ω? werden
Bedingungen erzeugt, unter denen der erhaltene Diamant eine thermodynamisch stabile Phase 1st* Bei der Anwendung dieses
Verfahrens gelingt es, z*B. künstliche Diamanten vom Typ
"Ballas" und künstliche Diamanten vom Typ "Karbonadoa" zu erhalten·
Dor Hauptnachtell dieses Verfahrens besteht in der Hot*-
wendigkeit, hohe Drucke und Temperaturen zu erzeugen* was mit
technolcsischen Schwierigkeiten verbunden ist und die Anwendung
komplizierter und teuerer Ausrüstungen erfordert * Ss ist auch
2U beachten, daß die Hoclidruckkammern sehr begrenzte Volumen,
in denen die Synthese des Diamaaten durchgeführt wird, aufwei
wodurch die Leistungsfähigkeit des Verfahrens begrenzt wird·
Außerdem 1st es nicht ffl'ogllöh, einen Überzug aus künstlichem
Diamanten auf Erzeugnissen unmittelbar Im Prozeß der Herstellung des Diamanten zu erhalten* was in einigen !Fallen sehr erwünscht
ist· . '
Bei der Herstellung von Diamanten nach dem anderen Verfahren scheidet man an der Oberfläche des künstlichen Diamanten Kohlenstoff
aus der Gasphase, z.*B· aus I'äothan, ab.
Dabei werden Bedingungen ,erzeugt, unter· denen der Diamant
eine thermodynamisch instabile Phase ist und eine merkliche
3 0 9 8 19/0761
'..-.'.' . ;BAD ORfGlNAi
Graphltblldung im Diamanten beobachtet wird«
Es bilden sich dadurch zwischen den abgeschiedenen Kohlenstoff
atomen sowohl Bindungen vom Diamanttyp als auch Bindungen vom Graphittyp»
Die Bildung von Bindungen vom Graphittyp wird durch üugabe metallischer Katalysatoren oder durch periodisdhes
"Ausbrennen" des sich bildenden Graphits im Medium von Wasserstoff unterdrückt, wodurch die Technologie des Verfahrens etwas
komplizierter und die Leistungsfähigkeit gesenkt wird*
Die anderen Nachteile dieses Verfahrens sind mit der Notwendigkeit
verbunden, Impfkristalle von natürlichem Diamanten zu verwenden. Dadurch wird einerseits die Möglichkeit ausgeschlossen,
Diamantüberzüge unmittelbar auf irgendeinem anderen Material zu erhalten; andererseits sind zusätzliche Aufwendungen
erforderlich und es werden die Möglichkeiten dloses Verfahrens begrenzt» ,
Die künstlichen Diamanten, die nach den beiden Verfahren
hergestellt werden, besitzen relativ kleine lineare Abmessungen· So weisen die Diamanten vom Typ "Ballas" einen Durchmesser von
6 bis Sp min, die künstliehen Diamanten vom Typ "Earbonados"
einen Durchmesser von ca· 4 mm, die fadenförmigen Kristalle
einen Durchmesser von 10 bis 25 /um, bei einer Lange von ca»
2 mm, die künstlichen Diamanten, erhalten durch die abwechselnde Anwendung der zwei Zyklen "Abscheidung - Reinigung"
eine Länge von 1 bis 5 /U auf.
309819/0761
Außerdem gewährleistet keines der obenbeschriebenen Verfahren
die Möglichkeit, freie Diamant filme, Mehrschlohtenf llmuborzüge
aus Diamant vom nSand*wlchH-rJ?yp, die durch abwechselnde
Diamant schicht en mit anderen Materialien gebildet sind, zu
erhalten.
Es 1st auch zu. beachten, daß der Diamant ein spröder Stoff
1st; der Diamanteinkristall läßt sich beim Schlag nach den
Spaltflächen leicht spalten* Infolgedessen halten die Einkristalle
sowohl des natürlichen als auch des künstlichen Diamanten die Zugbeanspruchungen schlecht aus und weisen eine Biegefestigkeit
von 20 bis 4-0 kp/mm auf, während die Druckfestigkeit
ungefähr 200 kp/mm beträgt*
Ziel der vorliegenden Erfindung ist es, das Verfahren
zur Herstellung von künstlichen Diamanten zu vereinfachen und wirtschaftlicher zu gestalten«,
Ein weiteres Ziel der Erfindung ist die Herstellung von überzügen aus Diamanten auf Erzeugnissen aus einem anderen
Material·
Unter anderen Zielen sei genannt die Herstellung von Mohrschichtenüberzügen oder Mehr schichtenfilmen vom "Sandwich"-Typ,
die durch abwechselnde Schichten des Diamanten und anderer Materialien gebildet sind·
Außerdem besteht das Ziel der vorliegenden Erfindung in der Vergrößerung der linearen .Abmessungen der erhaltenen
Diamanten·
309819/0761
Noch ein Ziel der Erfindung ist die Steigerung der
mechanischen Festigkeit der künstlichen Diamanten, und zwar der Zugfestigkeit, und die Steigerung der Harte*
Ziel der Erfindung 1st auch die Steigerung der chemischen
Beständigkeit der Diamanten gegenüber stark oxydierenden Medien bei erhöhten Temperaturen, ζ.Βφ gegen Oxydation in einem
Ghromgeniisch bei einer Temperatur von 3OO°C· Unter anderen
Zielen der Erfindung sei genannt die Herstellung von Diamanten
mit p- und η-Leitfähigkeit· Eines der wichtigen Ziele ist
die Herstellung von überdünnen Diamantfilmen oder -überzügen mit einer Dicke von ca· .5 -Δ β
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde,, ein Verfahren
zur Herstellung von Diamanten zu entwickeln, bei welchem unter metastabilen Bedingungen der Existenz des Diamanten die
Bildung und das allmähliche Wachstum des Diamantkörpers vor sich geht, welcher aus kleinen miteinander fest verbundenen Körnern
besteht»
Die gestellte Aufgabe wird dadurch gelöst, daß bei der
Herstellung von künstlichen Diamanten aus Graphit erfindungsgemäß der Katodenzerstäubung gleichzeitig mindestens zvjei
Graphitkatoden im Vakuum mit den Ionen der elektrischen Entladung in einem inerten Gas unterworfen und die sich dabei
aus den verschiedenen Katoden ausscheidenden Kohlenstoffatome
auf eine gemeinsame feste Untorlage abgeschieden werden, indem
der Druck des Inertgases auf einem Niveau gehalten wird, daß
309819/0761
die sich ausscheidenden Kohlanstoffatome die Oberfläche der
Unterlage ohne Zusammenstoße mit den Teilchen des Inertgases
erreichen*
Es wurde festgestellt , daß sich bei der Abscheidung
"beschleunigter neutraler Kohlenstoffatome auf einer Unterlage
mindestens aus zwei konvergierenden Bundein, die durch
Kdäßdenzer stäubung von Graphit erhalten und keine -Streuung im
Vakuum erlitten, im wesentlichen nur"Bindungen vom Diamanttyp
beim Fehlen von Diamantimpfkristall und Katalysatoren bilden*
Bei einem solchen Verfahren kommt die' Bildung der Diämantmikrökristalle
gleichzeitig an vielen Stellen auf der ganzen Oberfläche
der Unterlage unabhängig zustande, die Kristalle haben eine willkürliche Orientierung gegeneinander, sind miteinander
fest verbunden und gewährleisten beim Anlegen von. Zugbeanspruchungen
eine hohe Zerreißfestigkeit· ' ' >
Die besten Bedingungen für die Durchführung des Verfahrens
entstehen In dem Falle, wenn die Katodenzerstäubung In einem. LangsmagnetfeId durchgeführt "wird, dessen magnetische Kraftlinien
nach der Richtung mit der Entladungsachse zusammenfallen und der Druck des Inertgases 10*"' bis 10"" Torr beträgt.
Die Anwendung des Langsmagnetf eldes macht es möglich, die
Gasentladung bei einem Druck, der um einige Zehnerpotenzen niedriger
ist als beim Fehlen des Magnetfeldes, zustandezubringen.
Dies verbessert seinerseits die Bedingungen für die freie
Wegltmgeder Kohlenstoff.-atome bei· der Zerstäubung der Graphit- ■
.309819/0761
kathode.
Bei der Abkühlung der Unterlage auf tiefe Temperaturen besitzt der sich bildende Diamant einen höheren Hochohmwiderstand·
Besonders günstige Bedingungen im Hinblick auf die Technologie und die Produktionskosten werden bei .Abkühlung
auf eine Temperatur von -1960C herbeigeführt, well als Kühlmedium
flüssiger Stickstoff verwendet werden kann· Außerdom wird es dadurch möglich, auch das system dor Abkühlung zu vereinfachen,
z.B. die Kammer mit den zu zerstäubenden Kathoden und der Unterlage im Dewarschen Gefäß unterzubringen»
Wie die Untersuchungen ergeben, geht die Zerstäubung und die Abscheidung besonders intensiv vor sich, wenn man als
Inertgas Krypton verwendet«
In einigen Fallen, z. B· für die Herstellung von integrierten
Schaltungen ist es erwünscht, einen Diamanten zu erhalten, welcher Halbleitereigenschaften aufweist· In diesem Falle verwendet
man zweckmäßig eine Graphitkatode, die eine gewisse
Menge der Elemente der IJI, Gruppe des Periodensystems, die die Herstellung eines Diamanten mit p-Leltfählgkeit gewährleisten,
enthält, oder eine Graphitkatode, welche eine gewisse Menge des Materials der Elemente der V» Gruppe des Perlodensystems enthält,
die die Herstellung eines Diamanten mit n~LeItfähigkeit gewährleisten·
Wenn es erwünscht ist, einen freien Diacantfllm
zu erhalten, löst man die letztere nach der Abscheidung
30981 9/0761
BA ORIGINAL
der Graphltatome auf die Unterlage in einem chemischen Reagens
auf·
Nachstehend wird die Erfindung an Hand der Beschreibung
der Beispiele fiir die Durchführung des Verfahrens zur Herstellung
von künstlichen Diamanten und der beiliegenden Zeichnungen näher erläutertf in denen zeigen:
Fig· 1 ein Schema einer Einrichtung zur Durchführung
des vorgeschlagenen Verfahrens.
B1Ig. 2 ein Schema einer Einrichtung zur Herstellung
von überzügen vom "Sandwich"-Typ·
Die Einrichtung . zur Herstellung von künstlichen
„ einen
Diamanten enthalt metallischen oder Glaskolben 1 mit einem Stutzen 2 zum Abpumpen von Gasen aus seinem Hohlraum beim Vakuumleren und anschließender Zufuhr von Inertgas» Im Inneren des Kolbens 1 sind Graphltschelbenkathoden3 eingebaut> zwischen denen die metallische Ringanode 4 angeordnet ist. Die Stromspelsung der Katoden 5 und eier Anode 4 erfolgt von einer Glelchspannungsq^uelle 5· Ik Inneren des Kolbens 1 Ist ein Halter 6 angeordnet» auf welchem die Platte 7 aus einem unter den Bedingungen des Vakuums nicht, subllmlerenden Material befestigt Ist, die als Unterlage dient, auf diö die bei der Kathodenzerstäubung entstehenden Kohlenstoffatome abgeschieden werden·
Diamanten enthalt metallischen oder Glaskolben 1 mit einem Stutzen 2 zum Abpumpen von Gasen aus seinem Hohlraum beim Vakuumleren und anschließender Zufuhr von Inertgas» Im Inneren des Kolbens 1 sind Graphltschelbenkathoden3 eingebaut> zwischen denen die metallische Ringanode 4 angeordnet ist. Die Stromspelsung der Katoden 5 und eier Anode 4 erfolgt von einer Glelchspannungsq^uelle 5· Ik Inneren des Kolbens 1 Ist ein Halter 6 angeordnet» auf welchem die Platte 7 aus einem unter den Bedingungen des Vakuums nicht, subllmlerenden Material befestigt Ist, die als Unterlage dient, auf diö die bei der Kathodenzerstäubung entstehenden Kohlenstoffatome abgeschieden werden·
Der Kolben 1 zusammen mit den darin angeordneten Kathoden
3f der Anode 4 und dem Halter 6 seien im folgenden
309819/0761
kurz als Reaktionskammer bezeichnet.
Die Reaktionskammer ist Im Dewarsehen Gefäß 8 untergebracht,
da3 im Betrieb mit flüssigem Stickstoff gefüllt 1st,
und Im Inneren eines Solenoids 9 angeordnet;, welches ein konstantes
Magnetfeld erzeugt, dessen magnetische Kraftlinien mit der Achse der zwischen den Katoden und der Anode gezündeten
Entladung zusammenfallen· Die Einrichtung ist mit einer ölfreien Hochvakuumpumpe, z, B· mit einer Magnotentladungspumpe (In der
Abbildung nicht angedeutet), und einem abnehmbaren Erhitzer (in der Abbildung nicht angedeutet) zum Entgasen der Reaktionskaiamer
durch thermische Erhitzung zu versehen·
Unter Anwendung der beschriebenen Anlage wird der Prozeß zuf Herstellung von künstlichen Diamanten wie folgt durchgeführt»
Beispiel 1· Die Heaktionskammer wird auf ein Vakuum von
—7
ca. 10 ' Torr evakuiert und durch thermische Erhitzung bei
einer Temperatur von 250 bis 3000C während einiger Stunden entgast·
Nach der Entgasung füllt man in das Dewarsehe Gefäß 8
flüssigen Stickstoff ein und stellt das Solenoid 9 zur Erzeugung
eines Längsmagnetfeldes mit einer Stärke von ca·
0,7 kOe· Dabei wird ein Partlaldruck der Restgase In der Reaklilonskammer
von nicht über 2 χ 10""° Torr für den Wasserstoff und
nicht über 10 ' Torr fur alle übrigen Rostgase (Stickstoff,
V/asser, Sauerstoff u«a«m) eingestellt·
In die Reaktionskammer leitet man eine gewisse Menge dos
309819/0761
- ίο *-
spektral ro inen Inertgases Krypton bei einem Druck von cai
10""* Torr ein.
Statt des Kryptons können auch andere Inertgase! z. B.
Neont Argon j oder Xenon, verwendet wurden»
Beim Anlegeneiner Gleichspannung mit einer Größe von ca»
4- kV entsteht in der. Reaktionskammer zwischen der Anode 4· und
;jeder der Kaihoden 3 eine Gasentladung mit einer Stromstärke
von 1 bis 2 mA·
In dieser Gasentladung kommt es zur Ionisierung der Atome
des Inertgases und es bilden sich Ionen,, die durch das elektrische
Feld beschleunigt werden· Die beschleunigten Inertgasionen
schlagen von der Oberfläche der Graphltkähoden Kohlenstoffatome
heraus.
Der Koeffizient der Kathodenzerstäubung des Graphits im
Krypton bei einer Beschleunigungsspannung von 4 kV beträgt ungefähr 2 G ~ Atome .
Kr - Atome
Das Bündel der herausgeschlagenen Atome besteht aus
Das Bündel der herausgeschlagenen Atome besteht aus
neutralen Kohlenstoffatomen· Der üaupttell der herausgeschlagenen
Kohlenstoffatome: weist eine Energie von ca» 100 eV auf,
was die Wärmeenergien, die die Kohlenstoffatome bei der thermischen
Zerstäubung von Graphit Im Vakuum bei einer Temperatur
von 30000G gewinnen, bedeutend übersteigt» Bei einem Druck
des Inertgases In der Keaktionskammer von 10""·^ Torr übersteigt
die mittlere fr öle W-eglange der einzelnen Kohlenstoff atome mit
einer Bne££lQ von 100 eV die Abmessungen der Pueaktionskamner
309819/0761
. BAD ORIGINAL
bedeutend. Somit, "treten11 unter der Einwirkung der Gascntladung
aus den Graphltelektroden Bündel beschleunigter Kohlenstoffatome,
die sich auf der Piattenunterlage 7 abscheiden. Es ist
zu beachten, daß der !"ruck des Inertgases anders sein kann,
es kommt mir darauf an, daß die ausgeschiedenen Kohlenstoffatome
die Uni-orl^e 7 ohne Zusammenstoße mit den Teilchen des Inertgases
errelchen#
Es bilden sich unter den genannten Bedingungen bei der Kondensation beschleunigter Kohlenstoffatome auf,der kalten
Unterlage 7 Bindungen vom Diamanttyp zwischen den Kohlenstoffatomen
beim Fehlen das Impfkristalls des natürlichen Diamanten
und der Katalysatoren· Im Ergebnis bildet sich und wachet auf
der Unterlage allmählich ein durchgehender Diamantkörper,
welcher aus sehr feinen Diamantkörnern besteht, die mitοinander
fest verbunden sind. Ein solcher Diamantkörper, welcher aus sehr feinen Körnern besteht, wird nach der bestehenden Klassifikation
der Diamantkörper zu den Diamanten vom Typ "Karbonados11
gerechnet· ,,,
Belsplol 2. In der Roaktionskammer der beschriebenen .
Anlage wurden mehrere Unterlagen 7 aus Aluminiumfolie von 10 /um
Dicke untergebracht. Dann wurden auf diese Kohlenstoffatome, die
einen Diamantfilm von etwa 400 A Dicke bildeten, unter folgender
Bedingungen in der Reaktlonckammer abgeschieden: Der Druck des
Inertgases Krypton betrug 1O~^ Torr, der Partlaldruck des
—Q
Wasserstoffes weniger als 2f10 ' Torr, des Stickstoffes yeniger
309819/0761
BAD ORIGINAL
~ 12 -
als 10 Torr, des Wassers 10*" · Torr, des Sauerstoffs weniger
als 10 Torr, aller übrigen Gase weniger als 10 Torr,
die Beschleunigungsspannung 4 kV, der Entladungsstrom 4 mA,
die Starke des Magnetfeldes des Solenoids 0,7 kOe· Die Abkühlung erfolgte mit flüssigem Stickstoff, die Geschwindigkeit
der Abscheidung des Diamanten betrug 5 A /min·'
Die erhaltenen Proben wurden aus der Reaktionskaramer herausgenommen ■ und einer Prüfung auf Zerreißfestigkeit unterworfen»
Es wurden folgende Kennwerte des synthetisierten Dia~
manten erhalten? Zugfestigkeit.700 bis 800 kp/mca } relative
Dehnung 0,4 bis 0,6%, Elastizitätsmodul 150 000 kp/mm2»
Beispiel 3« In der Reaktionskammer wurde auf dem Halter
eine Scheibe aus reinem Kupfer befestigt. Dann wurden die Kathoden
der Zerstäubung unterworfen, wie dies in Beispiel 1 beschrieben
ist» Man erhielt auf der Unterlage eine etwa 5 /um
dicke Diamantschicht» Die Scheibe wurde aus der Reaktionskammer
ausgetragen und als Schneidwerkzeug verwendet.
Mit dem Dlamantüherzug der Scheibe wurde ein Kristall
des natürlichen Diamanten mit einem Gewicht von ca· 1 Karat
nach seiner oktaedrischen Fläche (III) bearbeitet, welche bekanntlich
besonders hart und fest ist» Durch eine solche Be- .
arbeitung erhielt man auf der genannten Flache des natürlichen
Diamanten hintoreinander drei Einschnitte von jeweils etwa
25 /um Dickef was von der erhöhten Hartö des nach dem erf indungs·
gemäßen Verfahren erhaltenen Diamanten zeugt·
3.0-9 m/0 7« 1
Buchungen zeigten, daß der erhaltene Diamant Körner mit Abmessungen
von weniger als 10 A besitzt. Wach der bestehenden Klassifikation für Dlamantkorper gehört ein solcher Diamant zu
den Diamanten vom Typ "Karbonados" oder steht diesen naheβ
Beispiel 6. In die Reaktlonskamrner wurde eine Unterlage
mit Abmessungen 20 χ 60 χ 0,5 mm aus nichtrostendem Chrom-Nickel-Stahl
untergebracht. Die Bedingungen für die Herstellung des Diamanten waren analog zu den im Beispiel 1 beschriebenen!
mit dem Unterschied aber, daß man als Inertgas Argon bei einem Druck von 10""1" Torr verwendete. Mit Hilfe eines speziellen
Magneten (in der Abbildung nicht angedeutet), welcher außerhalb dex1 Ktoaktlonskanimer angeordnet 1st, wurde dlo Unterlage langsam
verscho—ben, indom man dadurch ein gleichmäßiges Überziehen der
ganzen Oberfläche gewährleistete. Im Ergebnis erhielt man einen
Dlamantfllm mit Abmessungen 20 χ 60 mn auf nichtrostendem Stahl·
Beispiel 7« In die Heaktlonskammer wurde eine Unterlage
aus Siliziumeinkristall eingebracht. Auf dieser Unterlage erhielt man unter den Bedingungen, die den Bedingungen des Beispiels
1 entsprecher), einen 1000 A dicken Diamantf ilnu Dann
wurden auf dem Diamanten durch thermisches Aufstäuben mehrere größere Kontaktflächen aus Gold gebildet. Durch Anlegen einer
Spannung zwischen dem Silizium und dem Gold ermittelte man
die elektrische Festigkeit des Diamanten, welche 2*10 V/cm
betrug, was der elektrischen Festigkeit der Dielektrllsa entspricht»
3 0 9 8 19/0761 BAD ORIGINAL
<■) 9 π ') O / η
~ 13 4·»
In der Reaktionskaniiiier wurden 3 Quarz unterlagen
untergebracht» Dann wurde unter den In Beispiel 1 beschriebenen Bedingungen die Zerstäubung der Kathoden durchgeführt,
durch die man auf der Unterlage Diamantschlchten erhielt»
Der erhaltene Diamant wies folgende Kennwerte auf j Spezifisches Gewicht für verschiedene Proben 3,7 + 0,4- g/cra^
bzw» 3,5 + 0,3 g/cnr und 3,4 + 0,13 g/cm ι spezifischer elektrischer
Widerstand bei Zimmertemperatur 5>10 Ohm»cmj Bandonkante
der Ultraviolettabsorption 2200 bis 2600 A j Lichtbrechungsindex
2,5 bis 2,9, Diese Kennwerte entsprechen den
analogen Kennwerten des natürlichen Diamanten»
Beispiel 5» In der Reaktionskammer wurden Unterlagen
aus Sochsalakristall untergebracht und dann dia Abscheidung
von Kohlenstoff, durch Katodenaerstäubung von Graphit bis zur
Erzielung auf den Unterlagen einer 5, 10, 50, 100 A dicken "
Diamant schicht unter den zu Beispiel 1 analogen Bedingungen, jedoch
mit dem Unterschied durchgeführt, daß man statt des Inertgases Krypton das Inertgas Xenon verwendete» iTach der Beendigung
des Prozesses der Synthese wurden die Unterlagen mit den darauf aufgebrachten Diamantschichten aus der Heaktionskanimer ausgetragen
und in Ytfasser aufgelost, wobei man dio Diamantfilme mit einen
KupfQjpnetz mit 0,1 χ 0,1 /um großen Maschen herausnahm. Juan
erhielt dadurch einen freien Dlamantfilm, mit einer Dicke von
» 100 Δ ,welchen man auf Durchsicii^ /inittiDiektronenmikroskop
und in der llektronenbeugungskanmer prüfte* Diese Unter-
3 0 9 8 1 9 / 0 7 ß t
BAD ORIGINAL
Beispiel 8» In die Reaktlonskammer brachte man eine Unterlage aus Quarz ein· In der Graphltkathode wurde eine Vertiefung
(ijn der Abbildung nicht angedeutet) ausgeführt und In dieser
Borkarbid angeordnet. Man führte die Kathodenzerstäubung wie
In Beispiel 1 beschrieben durch, wobei sich gleichzeitig mit den
Kohlenstoffatomen auch Boratome ausscheiden. Dadurch bildet sich auf der Unterlage ein mit Boratomen legierter Diamant,
Die Untersuchungen eines solchen Diamanten ergeben, daß er p-Leltfähigkeit aufweist. Die spezifische Leitfähigkeit des
Diamanten kann durch die Veränderung der Menge des der Graphitkatode zugesetzten Borkarbids geregelt werden.
Statt des Borkarbids kc'snsü. auch andere Materialien
die Elemente der III, Gruppe des Perlodensystems aufweißen,
sowie chemisch reine Elemente derselben Gruppe verwendet werden,
Beispiel 9. In die Reaktlonskaramer bringt man eine Unterlage
aus Quarz ein. In der Graphltkathode ist eine Vertiefung
ausgeführt, in welcher ein Stückchen aus metallischem Wismut
untergebracht ist. Man. führte die Kathodenzerstäubung wie im
Beispiel 1 beschrieben durch· Dabei scheiden slün gleichzeitig
mit den Kohlenstoffatomen auch V»ismutatome aus» Es bildet
sich dadurch auf der Unterlage ein mit Wismutatomen legierter
Diamant, '
Die Untersuchungen ergeben, daß ein solcher Diamant
elektrischen Strom gut leitet und n-Leltfähigkeit aufweist.
Statt dos Wismuts können auch andere Materialien ver—
3098 19/0761
werde», welche Elemente der^* Gruppe des Periodensystems
enthalten. ^
j)ie elektrische I^itfa^ig&eit des Piamanteai jeann durclv
die Veränderung de* Hengö des desGrap^itkathodeztt^
Wismuts geregelt werden« *
Beispiel 10* In die Beakt&onskammeE werde eine Unterlage
aus Quarz eingebracht und die Graphit kathoden wurden wie im
spiel 1 zerstaubt. Dann wurde der erhaltene köstliche Diamant
zusammen mit der Unterlage bei einer {temperatur von 30O0G
In einem Chromgemisch geatzt, welche eine gesättigte Kaiiumdichromatlosung
(K2Cr^Or,) in Konzentrierter Schwefelsaure (HgSO^)
darstellt· Nach der Stzung bestimmte man das Gewicht des Diamanten,
wobei statt des Wagens eine Messung der Schwär zungsdichte
des Filmes des künstlichen Diamanten vor und nach, der Atzung
durchgeführt wurde* Die Schwärzungsdichte ist der Dicke und
t©lglicli« auch dem Gewicht des Filmes proportional*
Die durchgeführte Untersuchung ergab, daß das Ghromgemisch
selbst bei einer !temperatur von 300°C auf den künstlichen
Diamanton keine Wirkung ausübt, während das Chromgemisch den naturlichen Diamanten zu CÖp teilweise oxydiert* Ein solcher
Unterschied im Verhalten des erhaltenen künstlichen Diamanten Von dem natürlichen Diamanten gestattet es, die Schlußfolgerung
zu ziehen, daß das erhaltene Produkt eine höhere chemische Beständigkeit als der natürliche Diamant aufweist.
309819/0761
Beispiel 11« In der Reaktionskammer wurde eine Unterlage
aua natürlichem Diamanten untergebracht· Man führte die Kathodenzerstäubung
wie In Beispiel 1 beschrieben durch, mit dem Unterschied,
daß man als Inertgas Neon verwendete. Man erhielt einen film des künstlichen Diamanten auf dem natürlichen Diamanten»
Der film besitzt braune farbe, ist hoohohmig, haftet
fest an dem Erlstall des natürlichen Diamanten·
Sin solches Verfahren kann zur Restauration beschädigter
oder verschlissener Flächen von DlamantorZeugnissen, insbesondere
von Diamant düsen ι angewandt werden·
Beispiel 12· fur die Herstellung von Mehrachlchtenerzeug~
nlssen oder Mehrschlchtenüber^üeen vom "Sandwlch^-Qtyp auf einem
Erzeugnis (einer Unterlage) kann die In flg· 2 dargestellte
Einrichtung angewandt werden. Sie 1st dem Wesen nach der In
der PIg. 1 dargestellten Einrichtung ähnlich. Der Unterschied
besteht lediglich darin, dgß In dem Kolben 1 zwei Kafch>den-Anoden-Zellen
10 und 11 angeordnet sind» Unter dor Kathoden-Anoden-Zelle
ist die Vereinigung von zwei Katoden und der Über
diesen angeordneten Anode zu verstehen.
Diese Zellen sind untereinander angeordnet» Die ZgIIo 10
ist durch zwei Graphitkattoden 3 und <Üö metallische Anode 4,
die Zelle 11 durch zwelKathoden 12 aus Molybdän und die metallische
Anode 13 gebildet. Statt des EolyddKns kann ein beliebiges
anderes Material verwendet werden, aus welchem man eine der Zwischenschichten vom "Sandwlch" fltyp orhalfeen kann.
309819/076 1 BAOORIGINAt
Zur Verschiebung der Unterlage, auf welcher man den Mehrschicht
onliber ζ Ug erhalt, ist ein Manipulator 14- vorgesehen.
Die Schichten des Überzuges werden v/ie folgt erhalten.
Man befestigt die Unterlage auf dom Halter 6 und führt
unter den beispielsweise zu Beispiel 1 analogen Bedingungen die Zerstäubung der Graphitkathoden durch. Im Ergebnis erhalt
man auf der Unterlage eine Diamant schicht» Dann verschiebt man mit dem Manipulator 14- die Unilerlage In den Halter -6! und zerstäubt
die Molybdänkathoden, wobei man eine andere Schicht erhält« Durch Verschiebung der Unterlage aus einer Stellung in"
die andere,wie dies oben besehrieben wurde?können Mehrschichtenüberzüge
erhalten werden. "HIs wurde· elnö Probe erhalten,
welche 20 alternierende Molybdänschichten und 20 Schichten aus
künstlichem Diamanten (insgesamt 40 Schichten) enthält. Die
Temperatur des Überganges einer solchen Probe in den supraleitenden Zustand erwies sich bedeutend höher als die Semperatur
des Überganges in den supraleitenden Zustand des reinen HoIy^-
bdansl 4Sandwl031 = 7,3 ° K ; Q^Wän = Οί93 /
Die Anwendung der vorgeschlagenen Erfindung macht es
möglich, die Technologie zur Herstellung Von künstlichen. .
Diamanten und Erzeugnissen aus diesen.-"wesentlich zu vereinfachen
und, was besonders wichtig lst,s überdünne Einschichten«
und Ivishrschlciittahdlamantflime zu erhalten, die bis getzt nicht
hergestellt 'weiten konnten· ; ■ .. :.·.·.
BAD ORIGINAL
3088 19/0781
Claims (1)
- DA-8854PATENTANSPRÜCHE:Verfahren zur Herstellung von künstlichen Diamanten aus Graphit, dadurch gokennz eich, net ,daß man der Kathodenzerstäubung gleichzeitig mindestens zwei Graphitkathoden (3) im Vakuum durch Ionen der elektrischen Entladung In einem Inertgas unterwirft und die sich dabei aus verschiedenen Kathoden ausscheidenden Kohlenstoffatome auf eine Gemeinsame feste Unterlage (7) abscheidet, indem ein Druck des Inertgases aufrechterhalten wird, daß die ausscheidenden Atome die Oberfläche der Unterlage ohne Zusammenstöße mit den Teilchen des Inertgases erroichen.2, Verfahren nach Anspruch 1,dadurch gekennzeichnet ,daß die Kathodenzerstäubung in einem Längsmagnetfeld durchgeführt wird,dessen magnetische Kraftlinien nach der liichtung mit der Achse der Entladung zusammenfallen, und der Druck des Inertgases in einem Bereich von ca· 10 ' bis JL·.ca· 10 Torr aufrechterhalten wird,3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennze lehnet ,daß die Temperatur der Unterlage auf ca. -1960C gehalten wird·4, Verfahren nach einem beliebigen der Ansprüche 1 - 3t dadurch gekennzeichnet ,daß man als Inertgas Krypton verwendet,5. Vorfahren nach einem beliebigen der Ansprüche 1 - ^13098 19/076 1 BAD °RIGINALdadurc Ii gekennzeichnet ,daß die zu zerstäubenden Graphit kathoden eine gewisse Menge des Materials der Elemente der III« Gruppe des Periodensystems enthalten, wodurch der erhaltene künstliche Diamant Halbleitereigenschaften mit p-Leitfähigkeit aufweist,6, Verfahren nach einem beliebigen der Ansprüche 1 ~ 4, dadurch geke n"n zeichnet ,daß die zu. zerstäubenden Graphitkatoden eine gewisse Menge des Materials der Elemente der V. Gruppe des Periodensystems enthalten, wodurch der erhaltene kunstliche Diamant Halbleitereigenschaften mit η-Leitfähigkeit aufweistβ7» Verfahren nach Anspruch 1r dadurch gekennzeichnet ,daß nadh der Herstellung des Diamanten die Unterlage in einem chemischen Reagens aufgelöst wird, wodurch man einen freien Diamantfilm erhält«309819/0761BAD ORIGINALL e e r s e i t e
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU1708806A SU411037A1 (ru) | 1971-10-28 | 1971-10-28 | Способ получения искусственных алмазов |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2252343A1 true DE2252343A1 (de) | 1973-05-10 |
DE2252343B2 DE2252343B2 (de) | 1977-11-17 |
DE2252343C3 DE2252343C3 (de) | 1978-07-13 |
Family
ID=20491295
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2252343A Expired DE2252343C3 (de) | 1971-10-28 | 1972-10-25 | Verfahren zur Herstellung von künstlichen Diamanten |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3840451A (de) |
CH (1) | CH582622A5 (de) |
DE (1) | DE2252343C3 (de) |
FR (1) | FR2157957B1 (de) |
GB (1) | GB1396987A (de) |
SU (1) | SU411037A1 (de) |
Families Citing this family (43)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4049533A (en) * | 1975-09-10 | 1977-09-20 | Golyanov Vyacheslav Mikhailovi | Device for producing coatings by means of ion sputtering |
FR2393605A1 (fr) * | 1977-06-09 | 1979-01-05 | Nat Res Dev | Procede de croissance de cristaux de diamant |
DE3172609D1 (en) * | 1980-08-21 | 1985-11-14 | Nat Res Dev | Coating infra red transparent semiconductor material |
JPS58221275A (ja) * | 1982-06-16 | 1983-12-22 | Anelva Corp | スパツタリング装置 |
DE3205919C1 (de) * | 1982-02-19 | 1983-07-21 | Freudenberg, Carl, 6940 Weinheim | Verfahren zur Herstellung von Festelektrolytschichten fuer galvanische Zellen |
US4486286A (en) * | 1982-09-28 | 1984-12-04 | Nerken Research Corp. | Method of depositing a carbon film on a substrate and products obtained thereby |
US4495044A (en) * | 1983-05-17 | 1985-01-22 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Diamondlike flakes |
US4524106A (en) * | 1983-06-23 | 1985-06-18 | Energy Conversion Devices, Inc. | Decorative carbon coating and method |
DE3335623A1 (de) * | 1983-09-30 | 1985-04-11 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zur herstellung einer kohlenstoff enthaltenden schicht, kohlenstoff enthaltende schicht, verwendung einer kohlenstoff enthaltenden schicht und vorrichtung zur durchfuehrung eines verfahrens zur herstellung einer kohlenstoff enthaltenden schicht |
US5387247A (en) * | 1983-10-25 | 1995-02-07 | Sorin Biomedia S.P.A. | Prosthetic device having a biocompatible carbon film thereon and a method of and apparatus for forming such device |
CA1235087A (en) * | 1983-11-28 | 1988-04-12 | Akio Hiraki | Diamond-like thin film and method for making the same |
CA1232228A (en) * | 1984-03-13 | 1988-02-02 | Tatsuro Miyasato | Coating film and method and apparatus for producing the same |
US5084151A (en) * | 1985-11-26 | 1992-01-28 | Sorin Biomedica S.P.A. | Method and apparatus for forming prosthetic device having a biocompatible carbon film thereon |
US5073241A (en) * | 1986-01-31 | 1991-12-17 | Kabushiki Kaisha Meidenshae | Method for carbon film production |
US4828668A (en) * | 1986-03-10 | 1989-05-09 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Sputtering system for deposition on parallel substrates |
IT1196836B (it) * | 1986-12-12 | 1988-11-25 | Sorin Biomedica Spa | Protesi in materiale polimerico con rivestimento di carbonio biocompatibile |
US5087478A (en) * | 1989-08-01 | 1992-02-11 | Hughes Aircraft Company | Deposition method and apparatus using plasma discharge |
JPH0830260B2 (ja) * | 1990-08-22 | 1996-03-27 | アネルバ株式会社 | 真空処理装置 |
US5313094A (en) * | 1992-01-28 | 1994-05-17 | International Business Machines Corportion | Thermal dissipation of integrated circuits using diamond paths |
US5391510A (en) * | 1992-02-28 | 1995-02-21 | International Business Machines Corporation | Formation of self-aligned metal gate FETs using a benignant removable gate material during high temperature steps |
TW366367B (en) * | 1995-01-26 | 1999-08-11 | Ibm | Sputter deposition of hydrogenated amorphous carbon film |
AU2716797A (en) * | 1997-04-16 | 1998-11-11 | RAKHIMOV, Aleksandr Tursunovich | Process for obtaining diamond layers by gaseous-phase synthesis |
US5874745A (en) * | 1997-08-05 | 1999-02-23 | International Business Machines Corporation | Thin film transistor with carbonaceous gate dielectric |
US6964731B1 (en) | 1998-12-21 | 2005-11-15 | Cardinal Cg Company | Soil-resistant coating for glass surfaces |
US6660365B1 (en) | 1998-12-21 | 2003-12-09 | Cardinal Cg Company | Soil-resistant coating for glass surfaces |
US6974629B1 (en) | 1999-08-06 | 2005-12-13 | Cardinal Cg Company | Low-emissivity, soil-resistant coating for glass surfaces |
US6573565B2 (en) * | 1999-07-28 | 2003-06-03 | International Business Machines Corporation | Method and structure for providing improved thermal conduction for silicon semiconductor devices |
US6508911B1 (en) | 1999-08-16 | 2003-01-21 | Applied Materials Inc. | Diamond coated parts in a plasma reactor |
US7866343B2 (en) | 2002-12-18 | 2011-01-11 | Masco Corporation Of Indiana | Faucet |
US8220489B2 (en) | 2002-12-18 | 2012-07-17 | Vapor Technologies Inc. | Faucet with wear-resistant valve component |
US7866342B2 (en) | 2002-12-18 | 2011-01-11 | Vapor Technologies, Inc. | Valve component for faucet |
US8555921B2 (en) | 2002-12-18 | 2013-10-15 | Vapor Technologies Inc. | Faucet component with coating |
US6904935B2 (en) | 2002-12-18 | 2005-06-14 | Masco Corporation Of Indiana | Valve component with multiple surface layers |
CA2550331A1 (en) | 2003-12-22 | 2005-07-14 | Cardinal Cg Compagny | Graded photocatalytic coatings |
DE602005003234T2 (de) | 2004-07-12 | 2008-08-28 | Cardinal Cg Co., Eden Prairie | Wartungsarme beschichtungen |
US7923114B2 (en) | 2004-12-03 | 2011-04-12 | Cardinal Cg Company | Hydrophilic coatings, methods for depositing hydrophilic coatings, and improved deposition technology for thin films |
US8092660B2 (en) | 2004-12-03 | 2012-01-10 | Cardinal Cg Company | Methods and equipment for depositing hydrophilic coatings, and deposition technologies for thin films |
US20070026205A1 (en) | 2005-08-01 | 2007-02-01 | Vapor Technologies Inc. | Article having patterned decorative coating |
US7989094B2 (en) * | 2006-04-19 | 2011-08-02 | Cardinal Cg Company | Opposed functional coatings having comparable single surface reflectances |
US20080011599A1 (en) | 2006-07-12 | 2008-01-17 | Brabender Dennis M | Sputtering apparatus including novel target mounting and/or control |
US7820296B2 (en) | 2007-09-14 | 2010-10-26 | Cardinal Cg Company | Low-maintenance coating technology |
RU2560380C1 (ru) * | 2014-07-18 | 2015-08-20 | Федеральное Государственное Автономное Образовательное Учреждение Высшего Профессионального Образования "Сибирский Федеральный Университет" | Способ получения искусственных алмазов из графита |
EP3541762B1 (de) | 2016-11-17 | 2022-03-02 | Cardinal CG Company | Statisch-dissipative beschichtungstechnologie |
-
1971
- 1971-10-28 SU SU1708806A patent/SU411037A1/ru active
-
1972
- 1972-10-20 CH CH1531672A patent/CH582622A5/xx not_active IP Right Cessation
- 1972-10-23 GB GB4865772A patent/GB1396987A/en not_active Expired
- 1972-10-24 US US00300350A patent/US3840451A/en not_active Expired - Lifetime
- 1972-10-25 FR FR7237850A patent/FR2157957B1/fr not_active Expired
- 1972-10-25 DE DE2252343A patent/DE2252343C3/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB1396987A (en) | 1975-06-11 |
FR2157957A1 (de) | 1973-06-08 |
DE2252343C3 (de) | 1978-07-13 |
FR2157957B1 (de) | 1976-10-29 |
CH582622A5 (de) | 1976-12-15 |
DE2252343B2 (de) | 1977-11-17 |
SU411037A1 (ru) | 1974-08-05 |
US3840451A (en) | 1974-10-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2252343A1 (de) | Verfahren zur herstellung von kuenstlichen diamanten | |
DE10108344B4 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Bauelementes mit einer Beschichtung aus amorphem Kohlenstoff und mit amorphem Kohlenstoff beschichtetes Bauelement | |
DE3144192C2 (de) | Verfahren zum Bedampfen einer Oberfläche mit Hartstoffen und Anwendung des Verfahrens | |
DE10211538A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von supraleitenden Drähten und Bändern auf Basis der Verbindung MgB¶2¶ | |
DE69221047T2 (de) | Konstruktionselement mit hoher Festigkeit und Verfahren seiner Herstellung | |
EP0102489A2 (de) | Supraleitendes Faserbündel und Verfahren zu dessen Herstellung | |
EP0373412A1 (de) | Verfahren zur Beschichtung eines Werkzeuggrundkörpers und nach diesem Verfahren hergestelltes Werkzeug | |
DE69410548T2 (de) | Wolfram Metallisierung des CVD-Diamantes | |
DE102008056189A1 (de) | Harte Beschichtung mit ausgezeichneter Gleiteigenschaft und Verfahren zur Herstellung derselben | |
DE60319508T2 (de) | Verfahren und vorrichtung zur herstellung von kohlenstoffnanostrukturen | |
DE2300813C3 (de) | Verfahren zum Herstellen eines verbesserten Dünnschicht-Kondensators | |
EP0195117A2 (de) | Verbundwerkstoff für elektrische Kontakte und Verfahren zu seiner Herstellung | |
EP0337007B1 (de) | Hartstoff-Schutzschicht mit homogener Elementverteilung | |
CH664377A5 (de) | Dekorative schwarze verschleissschutzschicht. | |
DE4302407C2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines mit einer Schicht aus Diamant beschichteten Elements auf Siliciumnitridbasis | |
DE1954366C2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von harten UEberzuegen aus Titan- und/oder Tantalverbindungen | |
EP0558485B1 (de) | Verfahren zur herstellung eines beschichteten hartmetallschneidkörpers | |
DE4222406C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Diamantschichten durch Dampfphasensynthese | |
DE69406963T2 (de) | Hochharte Dünnschicht, sowie Verfahren zu deren Herstellung | |
EP2024528A1 (de) | Multifunktionelle hartstoffschichten | |
DE69107244T2 (de) | Industrielle Diamant-Beschichtung und Verfahren zu ihrer Herstellung. | |
DE68913157T2 (de) | Verfahren zur herstellung von diamant aus der dampfphase. | |
DE112004000576T5 (de) | Herstellungsverfahren für Aluminiumoxidfilm hauptsächlich in α-Kristallstruktur und mehrlagiger Film draus | |
EP0207486A1 (de) | Integrierte MOS-Transistoren enthaltende Schaltung mit einer aus einem Metall oder Metallsilizid der Elemente Tantal oder Niob bestehenden Gatemetallisierung sowie Verfahren zur Herstellung dieser Gatemetallisierung | |
DE69029729T2 (de) | Verfahren zur Abscheidung aus der Gasphase eines Diamantfilmes |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
8328 | Change in the person/name/address of the agent |
Free format text: VON FUENER, A., DIPL.-CHEM. DR.RER.NAT. EBBINGHAUS, D., DIPL.-ING., PAT.-ANW., 8000 MUENCHEN |
|
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |