DE2237252A1 - Ionenquelle mit hochfrequenz-hohlraumresonator - Google Patents

Ionenquelle mit hochfrequenz-hohlraumresonator

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Charles Fremiot
Jean Grando
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J27/00Ion beam tubes
    • H01J27/02Ion sources; Ion guns
    • H01J27/16Ion sources; Ion guns using high-frequency excitation, e.g. microwave excitation
    • H01J27/18Ion sources; Ion guns using high-frequency excitation, e.g. microwave excitation with an applied axial magnetic field

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0020899A1 (de) * 1979-06-29 1981-01-07 International Business Machines Corporation Ionengenerator
DE3703207A1 (de) * 1987-02-04 1988-08-18 Loet Und Schweissgeraete Gmbh Hochfrequenzionenquelle
DE19757852A1 (de) * 1997-12-24 1999-07-08 Karlsruhe Forschzent Implantation von radioaktiven ·3··2·P-Atomen

Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2621824C2 (de) * 1976-05-17 1982-04-29 Hitachi, Ltd., Tokyo Mikrowellen-Entladungs-Ionenquelle
US4185213A (en) * 1977-08-31 1980-01-22 Reynolds Metals Company Gaseous electrode for MHD generator
JPS55131175A (en) * 1979-03-30 1980-10-11 Toshiba Corp Surface treatment apparatus with microwave plasma
US4393333A (en) * 1979-12-10 1983-07-12 Hitachi, Ltd. Microwave plasma ion source
FR2475798A1 (fr) * 1980-02-13 1981-08-14 Commissariat Energie Atomique Procede et dispositif de production d'ions lourds fortement charges et une application mettant en oeuvre le procede
JPS5947421B2 (ja) * 1980-03-24 1984-11-19 株式会社日立製作所 マイクロ波イオン源
CA1159012A (en) * 1980-05-02 1983-12-20 Seitaro Matsuo Plasma deposition apparatus
JPS5779621A (en) * 1980-11-05 1982-05-18 Mitsubishi Electric Corp Plasma processing device
JPS6043620B2 (ja) * 1982-11-25 1985-09-28 日新ハイボルテージ株式会社 マイクロ波イオン源
US4507588A (en) * 1983-02-28 1985-03-26 Board Of Trustees Operating Michigan State University Ion generating apparatus and method for the use thereof
FR2546358B1 (fr) * 1983-05-20 1985-07-05 Commissariat Energie Atomique Source d'ions a resonance cyclotronique des electrons
FR2572847B1 (fr) * 1984-11-06 1986-12-26 Commissariat Energie Atomique Procede et dispositif d'allumage d'une source d'ions hyperfrequence
US4649278A (en) * 1985-05-02 1987-03-10 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Generation of intense negative ion beams
DE3712971A1 (de) * 1987-04-16 1988-11-03 Plasonic Oberflaechentechnik G Verfahren und vorrichtung zum erzeugen eines plasmas
US4778561A (en) * 1987-10-30 1988-10-18 Veeco Instruments, Inc. Electron cyclotron resonance plasma source
DE3738352A1 (de) * 1987-11-11 1989-05-24 Technics Plasma Gmbh Filamentloses magnetron-ionenstrahlsystem
DE3803355A1 (de) * 1988-02-05 1989-08-17 Leybold Ag Teilchenquelle fuer eine reaktive ionenstrahlaetz- oder plasmadepositionsanlage
DE68926923T2 (de) * 1988-03-16 1996-12-19 Hitachi Ltd Mikrowellenionenquelle
DE3834984A1 (de) * 1988-10-14 1990-04-19 Leybold Ag Einrichtung zur erzeugung von elektrisch geladenen und/oder ungeladenen teilchen
GB9224745D0 (en) * 1992-11-26 1993-01-13 Atomic Energy Authority Uk Microwave plasma generator
DE19513345C2 (de) * 1995-04-08 2000-08-03 Ehret Hans P ECR-Ionenquelle
DE19600223A1 (de) * 1996-01-05 1997-07-17 Ralf Dr Dipl Phys Spitzl Vorrichtung zur Erzeugung von Plasmen mittels Mikrowellen
DE19608949A1 (de) * 1996-03-08 1997-09-11 Ralf Dr Spitzl Vorrichtung zur Erzeugung von leistungsfähigen Mikrowellenplasmen
DE19900437B4 (de) * 1999-01-11 2009-04-23 Ehret, Hans-P. Verfahren und Vorrichtung zur Ionenimplantation in Festkörpern und/oder zur Beschichtung von Festkörperoberflächen sowie die Verwendung von Verfahren und Vorrichtung
DE60307418T2 (de) 2003-03-20 2007-03-29 Elwing LLC, Wilmington Antriebssystem für Raumfahrzeuge
US7461502B2 (en) * 2003-03-20 2008-12-09 Elwing Llc Spacecraft thruster
EP1640608B1 (en) * 2004-09-22 2010-01-06 Elwing LLC Spacecraft thruster
WO2009048739A2 (en) 2007-10-10 2009-04-16 Mks Instruments, Inc. Chemical ionization reaction or proton transfer reaction mass spectrometry with a quadrupole or time-of-flight mass spectrometer
NL2014415B1 (en) * 2015-03-06 2016-10-13 Jiaco Instr Holding B V System and method for decapsulation of plastic integrated circuit packages.
CN106102301B (zh) * 2016-07-29 2019-01-29 中国原子能科学研究院 紧凑型超导质子回旋加速器中可耐高压的静电偏转板
ES2696227B2 (es) * 2018-07-10 2019-06-12 Centro De Investig Energeticas Medioambientales Y Tecnologicas Ciemat Fuente de iones interna para ciclotrones de baja erosion

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3418206A (en) * 1963-04-29 1968-12-24 Boeing Co Particle accelerator

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0020899A1 (de) * 1979-06-29 1981-01-07 International Business Machines Corporation Ionengenerator
DE3703207A1 (de) * 1987-02-04 1988-08-18 Loet Und Schweissgeraete Gmbh Hochfrequenzionenquelle
DE19757852A1 (de) * 1997-12-24 1999-07-08 Karlsruhe Forschzent Implantation von radioaktiven ·3··2·P-Atomen
DE19757852C2 (de) * 1997-12-24 2001-06-28 Karlsruhe Forschzent Vorrichtung und Verfahren zur Dotierung von Gefäßstützen mit radiaktiven und nicht radioaktiven Atomen

Also Published As

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DE7228091U (de) 1973-09-20
GB1352654A (en) 1974-05-08
US3778656A (en) 1973-12-11

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