DE2207866C3 - Elektronenbestrahlungsanlage zur Ausheilung von Lackschichten - Google Patents
Elektronenbestrahlungsanlage zur Ausheilung von LackschichtenInfo
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F26—DRYING
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- F26B3/00—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat
- F26B3/28—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat by radiation, e.g. from the sun
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- F26B15/00—Machines or apparatus for drying objects with progressive movement; Machines or apparatus with progressive movement for drying batches of material in compact form
- F26B15/10—Machines or apparatus for drying objects with progressive movement; Machines or apparatus with progressive movement for drying batches of material in compact form with movement in a path composed of one or more straight lines, e.g. compound, the movement being in alternate horizontal and vertical directions
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Elektronenbestrahlungsanlage zur Aushärtung von Lackschichten
auf Blechen, Platten od. dgl., bei der die zu bestrahlenden Bleche nach Passieren einer Lackiereinrichtung mit
einem Förderer an einer abwärts versetzt angeordne-Bleche nach dem Durchgang durch eine entsprechende
Lackiereinrichtung nicht immer sofort bestrahlt werden könnea Man strebt vielmehr häufig eine Vorlaufzeit
von zwei bis drei Minuten an, während der der frisch aufgetragene Lack sich setzen und etwa darin
enthaltene Paraffine u.dgl. ausdampfen können. Geschieht
dies nicht, so besteht die Gefahr, daß die ausgehärteten Lackschichten Einbußen hinsichtlich ihrer
Qualität und Gleichmäßigkeit erfahren. Diese Vorlauf-
zeiten dürfen nun andererseits auch nicht zu einer Verlangsamung des Bestrahlungsvorganges führen, so daß
zwischen der Lackiereinrichtung und dem Bestrahlungsraum eine längere Förderstrecke oder eine
Speichereinrichtung zur Überbrückung der Vorlaufzeit
vorgesehen werden müßte. Dies führt aber zu einer weiteren Erhöhung des Bauaufwandes und der Baugröße.
Die der Erfindung zugrunde liegende Aufgabe besteht daher darin, eine Bestrahlungsanlage zu schaffen,
bei der in einfacherer Weise Lackiereinrichtung und Bestrahlungsraum durch einen Förderer so miteinander
verbunden sind, daß ein guter Strahlenschutz erzielt wird und trotz hoher Durchlaufgeschwindigkeiten der
Bleche durch den Bestrahlungsraum und trotz verhältnismäßig
geringer Entfernungen zwischen dem Bestrahlungsraum und der Lackiereinrichtung den auf den
Blechen aufgetragenen Lackschichten genügend Zeit für den Sötzvorgang gelassen wird.
Die Lösung dieser Aufgabe erfolgt gemäß der Erfin-
ten, nach unten wirksamen Strahlenquelle vorbeige- 30 dung dadurch, daß der Förderer in nahezu senkrechter
führt werden.
Es ist an sich schon bekannt (aus der Zeitschrift »Forest Products Journal« Vol. XlV, 2 Februar 1964, S. 51
bis 54), Lackschichten auf Blechen od. dgl. mittels energiereicher
Strahlen zu härten. Bei dem Aufbau einer Anlage für eine derartige Bestrahlung, die zweckmäßigerweise
in kontinuierlichem Durchgang erfolgt, muß dem Strahlenschutz besondere Beachtung geschenkt
werden. Da die Bestrahlung der auf einer Förderanlange transportierten, lackierten Bleche nicht in einem abgeschlossenen
Raum vorgenommen wird, sondern ständig geöffnete Durchlässe für den Ein- bzw. Austritt des
Förderbandes aus dem Bestrahlungsraum vorgesehen sein müssen, ist es besonders aufwendig, darauf zu ach-Förderrichtung
die beschichteten Bleche in die Behandlungsebene der unterirdisch angeordneten Strahlen
quelle bringt und in dichter Folge angeordnete Förder gutträger besitzt, die aus strahlenabschirmenden BIe
chen bestehen.
Mit Hilfe der Erfindung läßt sich in verhältnismäßig einfacher und wenig aufwendiger Weise ein wirkungsvoller Strahlenschutz erreichen, indem beispielsweise
nur die Decke des Bestrahlungsraumes aus strahlenab schirmendem Beton gefertigt wird, während im übrigen
das den Bestrahlungsraum umgebende Erdreich eine sehr gute Strahlenabschirmung bietet. Weiterhin wird
durch die Einschaltung eines im wesentlichen in vertikaler Richtung fördernden Förderers zwischen der
ten, daß möglichst wenig schädliche Strahlung in die 45 Lackiereinrichtung und dem Bestrahlungsraum ge
Umgebung dringt.
Hierfür wird in dieser Druckschrift angegeben, das Förderband durch einen dem Bestrahlungsraum vorgeschalteten
und einem dem Bestrahlungsraum nachgeschalteten Raum zu führen und dessen Ein- Auslaßöffnungen
für den Durchtritt des Förderbandes so gegeneinander versetzt anzuordnen, daß die aus dem Bestrahlungsraum
kommende Strahlung niemals direkt durch beide öffnungen in die Umgebung austreten
kann.
Um nun aber eine derartige Bestrahlungsanlage in wirtschaftlich sinnvoller Weise zu betreiben, ist es notwendig,
einen hohen Durchsatz an zu bestrahlendem Gut zu erreichen. Folglich muß die Geschwindigkeit
des Förderbandes verhältnismäßig hoch sein, wobei jedoch die hohe Geschwindigkeit einige Schwierigkeiten,
insbesondere bei der wegen der versetzten Durchtrittsöffnungen erforderlichen Umlenkung des Förderbandes
in dem dem Bestrahlungsraum vorgeschalteten Raum bereitet. Darüber hinaus ist der Bauaufwand und
die Baugröße einer derartigen Bestrahlungsanlage verhältnismäßig groß. Eine weitere Schwierigkeit ergibt
sich aus der Forderung, daß die mit Lack beschichteten währleistet, daß die die Lackiereinrichtung mit verhältnismäßig
hoher Geschwindigkeit durchlaufenden Bleche während der Förderung mit dem verhältnismäßig
langsamen Förderer genügend Zeit zum Setzen der
so Lackschichten haben und daß diese Bleche anschließend die Bestrahlungsanlage wieder mit verhältnismä
ßig hoher Geschwindigkeit durchlaufen können.
Um die Strahlungsdosen zur Aushärtung der Lack schichten möglichst gering halten zu können, soll der
Bestrahlungsraum in einem gegenüber Luft schwerem Inertgas gefüllt sein. Dabei kommt in besonders vorteilhafter
Weise die Vorschrift zur Geltung, daß gemäll der Erfindung der Bestrahlungsraum unterhalb der
Erdoberfläche gelegen sein soll. Dadurch kann nämlich der Bestrahlungsraum mit Inertgas gefüllt werden,
ohne daß besonders große Schwierigkeiten bei der Ab dichtung des Bestrahlungsraumes auftreten.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung ist in der Zeichnung dargestellt und wird im folgenden näher be
schrieben.
Die Zeichnung zeigt in einer grob vereinfachten Schema-Darstellung eine erfindungsgemäße Bestrahlungsanlage
zur Aushärtung von Lackschichten auf BIe-
chen, Platten od. dgl Mit 1 ist dabei ein als Strahlenquelle
dienender Elektronenbeschleuniger bezeichnet, unter dem in einem Bestrahlungsraum 2 mit Lackschichten
versehene Bleche 7 vorbeigeiördert werden. Diese Bleche 7 werden in einer mit ~\ bezeichneten Lakkiereinrichtung
mit Lack beschichtet, der durch die Bestrahlung ausgehärtet wird. Der Bestrahlungsraum 2
mit der Strahlenquelle 1 ist in einer gegenüber d^r Lakkiereinrichtung
3 vertikal versetzten Ebene angeordnet, wobei zwischen der Lackiereinrichtung 3 und dem
Bestrahlungsraum 2 ein Förderer mit nahezu senkrechter Förderrichtung eingeschaltet ist Dieser Förderer 4
weist in dichter Folge angeordnete Fördergutträger 8 zur Aufnahme der Bleche 7 auf und hat nur eine verhältnismäßig
geringe Geschwindigkeit, die sich gegenüber der Fördergeschwindigkeit unter der Lackiereinrichtung
3 bzw. im Bestrahlungsraum 2 im Verhältnis des Abstandes der Fördergutträger 8 zu der Länge der
Bleche 7 ergibt Die Bleche 7 werden also nach Durchlaufen der Lackiereinrichtung 3 auf einen Fördergutträger
8 gegeben und im Bestrahlungsraum 2 von einem Förderband 9, das die Bleche 7 unter der Strahlenquelle
1 vorbeiführt, übernommen. Nach Durchlaufen des Bestrahlungsraumes
2 werden sie an einen weiteren Förderer 5 gegeben, der sie zu der Ausgabe 6 transportiert.
Der Bestrahlungsraum 2 ist unterhalb der Erdoberfläche, deren Niveau mit 11 bezeichnet ist, angeordnet,
so daß die Abschirmung des Bestrahlungsraumes 2 zu den Seiten und nach unten in besonders vorteilhafter
und wirkungsvoller Weise durch das Erdreich vorgenommen wird. Die Abschirmung des Bestrahlungsraumes
2 nach oben erfolgt durch eine Betondecke 10, die lediglich an den beiden öffnungen für die Fördererschächte
unterbrochen ist Damit nun aber auch die aus diesen öffnungen austretende Strahlung auf einem
möglichst geringen Niveau gehalten wird, sind die Förderer 4 und 5 auf einem Teil ihrer Strecke gegenüber
der Vertikalen geneigt angeordnet, und außerdem bestehen die Fördergutträger 8 aus strahlenabschirmenden
Blechen. Auf diese Weise wird der größte Teil der Schachtöffnung durch die Fördergutträger 8 selbst abgeschirmt,
während durch die an den Seiten etwa verbleibenden Spalte zumindest keine direkte Strahlung
austreten kann.
Zur Verbesserung des Strahlenschutzes könnten aber auch oberhalb der Schachtöffnungen für die Förderer 4 und 5 besondere aus strahlenabschirmenden Wänden bestehende Abschirm-Bauwerke vorgesehen sein, die mit Ein- bzw. Austrittsöffnungen für die Bleche 7 ausgerüstet sein müßten.
Zur Verbesserung des Strahlenschutzes könnten aber auch oberhalb der Schachtöffnungen für die Förderer 4 und 5 besondere aus strahlenabschirmenden Wänden bestehende Abschirm-Bauwerke vorgesehen sein, die mit Ein- bzw. Austrittsöffnungen für die Bleche 7 ausgerüstet sein müßten.
ίο Da der Bestrahlungsraum 2 unterhalb der Erdoberfläche
angeordnet ist kann nun in besonders einfacher Weise auch eine Bestrahlung unter Inertgas-Atmosphäre
durchgeführt werden, wodurch die Strahlendosis bei gleicher Güte der Aushärtung verringert wird, da in
diesem Fall keine Inhibition durch den Luftsauerstoff auftritt. Das gegenüber der Luft schwere Inertgas kann
dann in den Bestrahlungsraum eingelassen werden und wird dort im wesentlichen verbleiben, ohne daß besondere
Abdichtungsmaßnahmen vorgesehen werden müssen.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (2)
1. Elektronenbestrahlungsanlage zur Aushärtung von Lackschichten auf Blechen, Platten od. dgl, bei
der die zu bestrahlenden Bleche nach Passieren einer Lackiereinrichtung mit einem Förderer an
einer abwärts versetzt angeordneten nach unten wirksamen Strahlenquelle vorbeigeführt werden,
dadurch gekennzeichnet, daß der Förderer (4) in nahezu senkrechter Förderricntung die beschichteten
Bleche in die Behandlungsebene der unterirdisch angeordneten Strahlenquelle (1) bringt
und in dichter Folge angeordnete Fördergutträger (8) besitzt, die aus die energiereichen Strahlen abschirmenden
Blechen bestehen.
2. Bestrahlungsanlage nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Bestrahlungsraum (2) mit
einem gegenüber Luft schweren /nert-Gas gefüllt ist.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19722207866 DE2207866C3 (de) | 1972-02-19 | 1972-02-19 | Elektronenbestrahlungsanlage zur Ausheilung von Lackschichten |
CH200273A CH546384A (de) | 1972-02-19 | 1973-02-13 | Bestrahlungsanlage zur aushaertung von lackschichten. |
AT140473A AT323861B (de) | 1972-02-19 | 1973-02-16 | Bestrahlungsanlage zur aushärtung von lackschichten |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19722207866 DE2207866C3 (de) | 1972-02-19 | 1972-02-19 | Elektronenbestrahlungsanlage zur Ausheilung von Lackschichten |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
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DE2207866B2 DE2207866B2 (de) | 1974-12-12 |
DE2207866C3 true DE2207866C3 (de) | 1975-08-07 |
Family
ID=5836465
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19722207866 Expired DE2207866C3 (de) | 1972-02-19 | 1972-02-19 | Elektronenbestrahlungsanlage zur Ausheilung von Lackschichten |
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Country | Link |
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DE102004028727A1 (de) * | 2004-06-14 | 2006-01-05 | Basf Coatings Ag | Verfahren zur Härtung radikalisch härtbarer Massen unter einer Schutzgasatmosphäre und Vorrichtung zu seiner Durchführung |
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IT201900002665A1 (it) * | 2019-02-25 | 2020-08-25 | Cefla Soc Cooperativa | Apparato e metodo per l’essiccazione/polimerizzazione di prodotti chimici |
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1972
- 1972-02-19 DE DE19722207866 patent/DE2207866C3/de not_active Expired
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- 1973-02-13 CH CH200273A patent/CH546384A/de not_active IP Right Cessation
- 1973-02-16 AT AT140473A patent/AT323861B/de not_active IP Right Cessation
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AT323861B (de) | 1975-08-11 |
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CH546384A (de) | 1974-02-28 |
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E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
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