DE2204080A1 - Verfahren und vorrichtung zum regulieren oder messen des gehaltes eines reinen gases in einer gasmischung - Google Patents

Verfahren und vorrichtung zum regulieren oder messen des gehaltes eines reinen gases in einer gasmischung

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DE2204080A1 DE19722204080 DE2204080A DE2204080A1 DE 2204080 A1 DE2204080 A1 DE 2204080A1 DE 19722204080 DE19722204080 DE 19722204080 DE 2204080 A DE2204080 A DE 2204080A DE 2204080 A1 DE2204080 A1 DE 2204080A1
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Description

  • Verfahren und Vorrichtung zum Regulieren oder essen des Gehaltes eines reinen Gases in einer Gasmischung Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Regulieren oder Messen des Gehalts eines reinen Gases, insbesondere Sauerstoff, in einer Gasmischung.
  • In der französischen Patentschrift 1 580 819 vom 15.11.1967 ist ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Regulieren des Gehalts eines reinen Gases, insbesondere Sauerstoff, in einer Gasmischung beschrieben, welches durin'besteht, daß man die in Betracht kommende, zu behandelnde Mischung in ein Behältnis einführt, dessen Wände aus einem festen Elektrolyten mit Anionenleitung bestehen. Insbesonde bestehen diese Elemente im Falle, daß das reine Gas Sauerstoff ist, aus einem Metalloxyd, das zumindest von einer bestimmten Temperatur ab einen 2-elektrischen Strom in Form von 0 -Ionen leiten kann, wobei diese Wände zumindest an Teilen ihrer gegenberliegenden Oberflächen Niederschläge aus nichtoxydierbaren Elektronenleitern aufweisen, und wobei zwiscnen den kiederschlagen eine Potentialdifferenz erzeugt wird, um den oben erwähnten elektrischen Strom durcn die Wände in der einen oder der anderen srichtung zu erzeugen, jenachdem, ob man den Sauerstoffgehalt des behandelten Gases erhöhen oder vermindern will. Das Behältnis muß dann, insbesondere im letzten Fo . in einem medium eingetaucht sein, das Sauerstoff zu fUhren kann.
  • Aufgabe der Erfindung ist es, Verbesserungen bei diesem Verfohren und der entsprechenden Vorrichtung vorzusehen, die eine absolut sichere Abdichtung zwischen der Gasmischung und der Bezugsatmosphüre ermöglichen.
  • bei dem oben beschriebenen Verfahren gemäß dem französischen Patent 1 580 819 sind die Gasmischung, die als die zu behandelnde Gasmischung bezeichnet wurde, und die Bezugsatmosphöre durch eine Wand voneinander getrennt, die ein ionischer Leiter ist. Als Folge der physikalischen Durchlässigkeit dieser Wand und insbesondere wegen der elektro-chemischen Semi-Permeabilitdt, kann die abdichtung zwischen diesen beiden Atmosphären nicht sichergestellt werden. Unter den Ublichen Bedingungen sind die sich hierbei einstellenden Leckverluste dann nicht mehr vernachlässigbar, wenn der Gasgehalt des reinen Gases, im vorliegenden Fall Sauerstoff, weniger als 10 Promille (ppm) beträgt. Als Folge hiervo/n, insbesondere, so weit es die Anwendung des Verfahrens zu ließzwecken betrifft, tritt ein Meßfehler auf und das zu messende Gas wird verunreinigt.
  • Durch die vorliegende Erfindung werden diese Nachteile beseitigt.
  • Die Verbesserungen bei dem Verfahren zur Regulierung oder tiessung des Gasgehaltes eines reinen Gases in einer Gasmischung, insbesondere bei Sauerstoff, bestdenen eine elektrische Leitung, insbesondere in der Form von Onium-Ionen (zweifach negativ geladene Sauerstoffionen) eines festen Elektrolyten, der beispielsweise die Trennwand zwischen der Gasmischung und einer vorgegebenen Atmosphäre bildet, die als Bezugsatmosphäre bezei-chnet wird, sind im wesentlichen dadurch gekennzeichnet, daß zwischen der Gasmischung und der Bezugsatmosphäre eine Schutzatmosphäre vorgesehen ist, die zwischen der Trennwand und zumindest einer zweiten 'vJand eingeschlossen ist, welche beispielsweise der ersten Wand ähnlich sein kann.
  • Gemaß einem anderen lierkmal der Erfindung-umfaßt die Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens, insbesondere zur messung des Geilaltes, eines gegebenen reinen Gases, insbesondere Sauerstoff, in einer Gasmischung, zwei koaxiale Rohre aus festem Elektrolyten, insbesondere Zirkonoxyd, die zumindest teilweise an ihren inneren und äußeren Flächen mit isiederschlägen aus Elektronenleitern, beispielsweise Platin, überzogen sind, wobei die Gasmischung in das Innere des zentralen Rohres in die Nachbarschaft dieser Niederschläge eingeführt ist, während das Schutzgas den Raum zwischen den Rohren ausfüllt, wobei die Wände der Rohre in Reihe an die Klemmen eines Vleßgerätes angeschlossen sind, und Vorrichtungen zum Messen der Oberflächentemperatur der iQiederschluge vorgesehen @@d u d d äußere Rohr der freien atmosphäre und der Einwirkung eines Ofens ausgesetzt ist.
  • Gemdß einem dritten Merkmal der Erfindung umfaßt die Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens, insbesondere zur Messung und Roegulierung des Gasgehalts eines reinen Gases,insbesondere Sauerstoff, in einer Gasmischung zwei koaxiale Rohre aus festem Elektrolyten, insbesondere Zirkonoxyd, die mit inneren und äußeren Niederschlägen einerseits auf einer verhältnismäßig verringerten Zone fUr die Messung des Sauerstoffgehaltes der Mischung und andererseits auf einer größeren Zone fUr die Einstellung des Sauerstoffgehaltes versehen sind, wobei die Niederschlöge an ein Meßgerät bzw. an eine Stromquelle in zwei Anordnungen angeschlossen sind, wobei bei jeder Anordnung die Wände, die die Atmosphären begrenzen, in Reihe angeordnet sind.
  • Weitere Merkmale und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der Beschreibung und der Zeichnung, in der Ausführungsbeispiele dargestellt sind. In der Zeichnung zeigt: Fig. 1 eine schematische Darstellung des Prinzips der Verbesserungen gemäß der Erfindung; Fig. 2 ein Ausfuhrungsbeispiel fUr die Anwendung der Verbesserungen gemäß der Erfindung bei einem Druckmaß; Fig. 3 ein Beispiel fUr die Anwendung dieser Verbesserungen bei einer aus einer elektrochemischen Pumpe und einem Durckmaß bestehenden Anordnung.
  • In Fig. 1 ist in Form einer Schemazeichnung das Prinzip der Verbesserungen gemäß der vorliegenden Erfindung dargestellt. Das zu behandelnde Gas ist beispielsweise in einem Raum A untergebracht, der durch eine Wand 1 aus einem ionisch leitfähigen I:O terial begrenzt ist, wobei die beiden Oberflächen dieser Wand mit einem Elektronen leitenden Niederschlag versehen sind, der für die Gas porös ist. In inninger Weise ist die Bezugsotmosphäre in einem Raum C untergebracht, der durch eine Wand 2 begrenzt ist, die mit zwei Niederschlägen mit den gleichen Eigenschaften wie die vorhergehenden Niederschläge beschichtet ist. hit 3, 4, 5 und 6 sind in Fig. 1 die verschiedenen Niederschläge bezeichnet.
  • Gemäß der Erfindung ist eine Schutzatmosphäre in dem Raum E zwischen diesen Wänden vorgesehen, wobei diese Atmosphäre möglicherweise durch ein zirkulierendes Gas gebildet ist. Die beiden Anordnungen 3, r, 4 und 5, 2, 6 sind elektrisch in Reihe durch Leiter verbunden, die in schematischer Weise bei 7, 8 und 9 gezeigt sind.
  • Im folgenden wird die Wirkungsweise der Anordnung bei ihrer Anwendung für Meßzwecke erläutert.
  • Das Material, das die Wand 1 bildet, besteht aus einem Ionenleiter und die elektrische Potentialdifferenz, welche in dem o ffenen Kreis zwischen den Leitern 7 und 8 erscheint, die in den Räumen A und B vorgesehen sind, ergibt sich aus der Nernst'schen Regel: Hierin bedeutet Z1 eine von dem material 1 abhängige Konstante, tl die absolute Temperatur der Wand, X bezeichnet das reine Gas von dem man den Gehalt in dem Gas D in dem Raum A feststellen will oder dessen Gehalt man ändern möchte, fD(X) und FG(X) bezeichnet die Flüchtigkeit des Gases X in dem Gas D, das sich zu t-ießzwecken in dem Raum A befindet und fG(X) stellt die FEchtigkeit des gleichen Gases in der Schutzatmosphäre G dar. Schließlicn bedeutet R die allgemeine Gaskonstante und F entspricht 1 Faraday.
  • Die Potentialdifferenz, freie in dem offenen Kreis zwischen den Leitern 8 und 9 der Zonen B und C erscheint, ergibt sich aus der gleichen Formel: in welcher T2 die absolute Temperatur der Wand 2, z2 die von dem Material der Wand 2 abhängige Konstante und fR(X) die Flüchtigkeit des Gases in dem Bezugsgas in dem Raum C bedeuten.
  • Die Anordnungen 3, 1, 4 und 5, 2, o sind in Reihe miteinander verbunden und die Potentialdifferenz zwischen den Leitern 7 und 9, die in den Käumen A und C angeordnet sind, entspricht der Summe d4e der beiden vorhergehenden Ausdrücke, nämlich: Falls die Werkstoffe der Wände 1 und 2 und ihre Temperaturen als gleich angenommen werden, so erhält man durch Einsetzen von z und T diese gemeinsamen Werte: Die letzte Formel zeigt, daß das Schutzgas keinen Einfluß auf die gemessene Spannung hat. Die letztere hängt nur von dem Bezugsgas und von dem zu behandelndem Gas ab. Die Messung von fD(X) ist daher eine direkte messung, wenn fR(X) bekannt ist.
  • Das ;illivolt-Meter, welches eAC mißt, kann direkt in f(X)-Einheiten eingeteilt werden, d.h. in Durckeinheiten, beispielsweise in millimeter Quecksilbersäule.
  • Im Lichte des vorhergehenden ist ersichtlich, daß die Anwesenheit des Schutzgases keine Komplikationen fUr den Benutzer im Vergleich mit der iießvorrichtung nach dem französischen Patent 1 580 819 mit sich bringt. Andererseits ermöglicht das Sc,-iutzgas eine Verminderung, insbesondere der störenden Verluste des Gases X.
  • Es reicht daher aus, eine Schutzatmosphäre auszuwählen, die in ihrer Zusammensetzung den zu analysierenden Gas nahekommt.
  • Es ist erwähnt, daß im Falle von Sauerstoff als dem zu messenden Gas X die -Eliminierung der Verluste durch das Verfahren gemäß der vorliegenden Erfindung die Verwendung von Umgebungsluft als Bezugsatmosphäre ermöglicht. Diese Wahl ist insofern bemerkenswert, da auf der einen Seite die Umgebungsluft ohne weiteres zur Verfugung steht und auf der anderen Seite die Flüchtigkeit f(X) für Sauerstoff mit hoher Genauigkeit bekannt ist.
  • In Fig. 2 ist ein Anwendungsbeispiel für die Verbesserungen gemäß der Erfindung dargestellt, wobei diese Vorrichtung zur lviessung des Partialdruckes von Sauerstoff dient.
  • Das Sauerstoffmeßgerät umfaßt in erster Linie zwei koaxiale Rohre 10 und 11, die den Wändenl und 2 in Fig. 1 entsprechen. Diese Rohre sind aus einem leitenden festen elektrolytischen Oxyd, beispielsweise aus einer festen Lösung mit oxydischen Ionenlöchern mit fluoritischer Struktur und insbesondere mit stabilisiertem Zirkonoxyd hergestellt. Das zu analysierende Gas ist in das Innere des zentralen Rohres durch eine kapillarröhre 12 eingeführt, die am Ende des Rohres 10 offen ist. Bei 13 ist ein Einlaßrohr für dieses Fluid und bei 14 das Auslaßrohr dargestellt, wobei diese Rohre in einem ersten zylindischen Block 15 befestigt sind, in dessen Innerem geeignete Kanäle vorgesehen sind. Die gleiche Anordnung ist bei 16 und 17 fUr Einlaß- und Auslaßrohre für das Schutzgas dargestellt. Diese Rohre sind in einem Block 18 befestigt, an den das Rohr 11 angeschlossen ist.
  • Die Abdichtung wird durch einen O-Ring 19 bewirkt, der in einer geneigten Ausnehmung in dem Block 18 liegt und durch einen Flansch 20 angepreßt wird. Es sei erwähnt, daß die verschiedenen Ausgestaltungen nur in schematischer Weise dargestellt sind.
  • Die Wände der Rohre 10 und 11, welche den aktiven Teil der Vorrichtung bilden, weisen eine metallische Beschichtung an ihren inneren und äußeren Teilen auf. ei 20a und 21 ist die Beschichtung des Rohres 10 und bei 22 und 23 diejenige des Rohres 11 dargestellt. Eine elektrische Verbindung zwischen den Schichten 21 und 22 ist durch ein Metallpulver 24 sichergestellt.
  • Die Oberflächen 20a und 21 sind durch zwei Leiter 25 und 26 mit einem Millivolt-Meter 27 mit einer hohen Eingangsimpedanz verbunden, welches die Potentialdifferenz zwischen diesen beiden Oberflächen mißt.
  • Ein Leiter 28 ist mit einem Leiter 25 verbunden, um bei 29 ein Thermoelement zu bilden, das mit Hilfe des Gerätes 30 die Temperatur der Oberfläche 20a feststellt. In gleicher Weise ist ein Leiter 31 mit der Oberfläche 23 verbunden, um mit Hilfe eines l-iillivoltmeters 32 die Potentialdifferenz zwischen den Obert ächen 32 und 33 zu messen. Ein anderer Leiter 33 ist mit einem Leiter 31 vereinigt, um ein Thermoelement bei 34 zu bilden, welches die Temperatur der Oberfläche 23 mit Hilfe des Gerätes 35 feststellt.
  • Ein Ofen 36 der elektrisch beheizt ist, ermöglicht~ es, den nutzbaren Teil der Rohre 10 und 11 auf die gewünschte Temperatur zu bringen.
  • Es sei erwähnt, daß die Bezugsatmosphäre die freie Umgebungsluft ist.
  • Selbstverständlich ist die Vorrichtung ziemlich schematisch dargestellt, was die mechanischen und elektrischen Einzelheiten, insbesondere im Bereich der beiden Blöcke 18 und 15 und des Stopfens 37 betrifft, der den letzteren abschließt. Alle diese mechanischen Verbindungen sind flüssigkeits- und gasdicht ausgeführt.
  • Das Verfahren gemäß der Erfindung, das in Fig. 1 erläutert ist, ist ebenso für den Fall anwendbar, in dem das System als elektrochemische Pumpe verwendet wird. In diesem Falle sind die Leiter 7 und 9 an eine Quelle angeschlossen, die einen Strom I liefert.
  • Die Wand 1 besteht aus einem Ionenleiter und der Durchgang von I Ampere durch diese W i bewirkt den Durchgang von 1 Mole zF des Gases X pro Sekunde durch die Wand. Diese Gasmenge ist dem ;srbeitsgas entzogen und dem Schutzgas zugefUhrt oder umgekehrt, und zwar entsprechend der Richtung des Durchganges des elektrischen Stromes. Die gleiche Menge gelangt durch die Wand 2, da die Materialien so ausgewählt sind, daß z den gleiciten Wert aufweist und die Stromstärke die durch die Wände 1 und 2 hindurchfließt ist gleich. Das Scilutzgus verhält daher von einer Wand eine menge 1 des Gases X und verliert an die andere ijand die gleiche zF ienge. Alles erfolgt deshalb so, als wenn ein Umpumpen des Gases X direkt zwischen dem zu messenden Gas und der Bezugsatmosphure stattfinden würde.
  • Was die Auswahl der Schutzatmosphäre anlangt, so yelten hier die gleichen Anmerkungen, die bei der Wirkungsweise als Druckmeßsystem gemacht wurden.
  • In Fig. 3 ist eine Ausgestaltung einer elektrochemischen Pumpe und eines Druckmessers dargestellt. Rechts ist der meßteil dargestellt, der im wesentlichen demjenigen in Fig. 2 ähnlich ist und links sieht man den Pumpenteil. Im Meßteil findet man wiederum zwei koaxiale Rohre 40 und 41 aus stabilisiertem Zirkon-Oxyd, die an ihren aktiven Abschnitten metallische Beschichtungen 42, 43 und 44, 45 an der Innenseite und der Außenseite dieser Rohre aufweisen. Es sei erwähnt, daß die innere Schicht der Rohre 40 und 41 zumindest entlang einer Generatorzone bis zu der rechts liegenden Ausgangsöffnung erstreckt ist, um so in einfacher Weise die äußere elektrische Verbindung sicherzustellen.
  • Andererseits ist die elektrische Verbindung zwischen den Schichten 43 und 44 nicht nur wie vorher durch ein iieta1lpulver, sondern durch einen Leiter 46 sichergestellt, der an das Ende der Schicht 44 angeschlossen ist. Die Potentialdifferenzen zwischen den verschiedenen Oberflächen werden mit Hilfe zweier iiillivolt-lleter 47 und 48 gemessen. Die Temperatur der aktiven Zone wird durch ein Thermoelement 49 gemessen, das an ein Meßgerät 50 angeschlossen ist.
  • Der linke Teil der Vorrichtung gehört zu der elektroschemischen Pumpe und entspricht in seinem Aufbau dem anderen Teil, jedoch mit der Fwsnahme, daß die Metallisierung eine größere Oberfläche einnimmt und sich bis zum linken Ende der Rohre erstreckt. Die elektrische Verbindung der zwischenliegenden metallischen Oberflächen 51 und 52 ist durch den Leiter 53 sichergestellt, während eine Potentialdifferenz zwischen der inneren und der äußeren Oberfläche 54 und 55 der Rohre 40 und 41 mit Hilfe einer Stromquelle 56 angelegt wird.
  • ei 57 und 58 sind Einlaß- und Auslaßrohre für das zu behandelnde Gas und bei 59 und 60 Einlaß- und Auslaßrohre für das Schutzgas ^rgestellt. Die Bezugsatmosphäre ist hier wiederum die freie Umgebungsluft. Die nutzbaren Zonen der Neßvorrichtung und der Pumpe sind mit Hilfe eines Ofens 61 beheizt.
  • Was den Aufbau der Verbindungen anlangt, der die verschiedenen gasförmigem und elektrischen Ströme zum Inneren und zum Äußeren der Vorrichtung ermöglicht, so sei darauf hingewiesen, daß dieser demjenigen in Fig. 2 ähnlich ist.
  • Bei einer hergestellten Vorrichtung bestehen die Rohre aus ZrO2-Y203 Elektrolyt mit 9 T Mol Y203 versehen mit Platinschichten.
  • Diese Vorrichtung hat in einem neutralen zirkulierenden Gas, nämlich Argon, eine llessung von Partialdrücken von Sauerstoff in der Größenordnung von 10-18 atm unter Verwendung einer Schutzatmosphäre aus einer ZO/CO-Mischung mit geeigneter Zusammensetzung ermöglicht.
  • Es sei erwähnt, daß bei Verwendung der Vorrichtung als iXleßvorrichtung, insbesondere nach Fig. 2, es möglich ist, eine wirkliche Differentialmessung vorzunehmen, d.h. in positiver Weise die vollständige Eliminierung der Effekte der Ionendurchlässigkeit der leitenden Wand herbeizufUhren. ,iierfVr genügt es, das die Scnutzatmosphäre bildende Gas zirkulieren zu lassen und die Zusammensetzung dieses Schutzgases zu jedem Zeitpunkt durch eine hilfsweise vorgesehene elektrochemische Pumpe einzustellen, so daß die Zusammensetzuna derjenigen des zu analysierenden Gases entspricht. jiierdurch wird sichergestellt, daß tatsächlich die Potentialdifferenz an den Anschlüssen der Wände, die diese beiden Atmosphären trennen (analysiertes Gas - Schutzgas) diejenige ist, die gemessen wird.
  • Letztere muß zu Null werden, wenn fD(X) und f fG(X) den gleichen Wert haben.

Claims (11)

  1. P A T E ii T A N 5 P ::: L c ; E
    verfahren zum Regulieren oder dessen des Gehalts eines reinen Gases in einer Gasmischung, dadurch gekennzeichnet, daß man eine elektrische Leitung zwischen der Gasmischung und einer Bezugsatmosphäre herstellt und ein Schutzmedium zwischen der Gasmischwung und der Bezugsatmosphäre vorsieht.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das reine Gas Sauerstoff ist.
  3. 3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß.
    die elektrische Leitung in Form von o2 -Ionen (zweifach negativ geladene Sauerstoffionen) eines festen Elektrolyten bewirkt wird.
  4. 4. Verfahren nach einem der .Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß eine Trennwand zwischen der Gasmischung und dem Schutzmedium vorgesehen ist.
  5. 5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzoeichnet, daß man zumindest eine zusätzliche Wand vorsieht, die zusammen mit der Trennwand einen Einschluß für das Schutzmedium bildet.
  6. 6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die zusätzliche Wand ähnlich der Trennwand ist.
  7. 7. Verfahren nach einem der Ansprüche 4 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Trennwand aus einem festen Elektrolyten besteht.
  8. d. Vorrichtung zur Vurcihführung des Verfahrens nach einem der hnsprüche 1 bis 7, dadurchgekennzeichnet, daß zwei koaxiale Rohre (10, 11; 40, 41) eines festen Elektrolyten zumindest teilweise an ihren inneren und äußeren Oberflächen mit lQiederschlägen (20a, 21; 22, 23 bzw. 42, 43; 44, 45) aus Elektronen leitendem material beschichtet sind, daß eine Einrichtung (13; 57) zum Einführen der Gasmischung in das Innere des zentralen Rohres (10; 40) in die Nachbarshaft der Niederschläge und eine Einrichtung (16; 59) zum Auffüllen des Raumes zwischen den ohren mit dem gasförmigen Schutzmedium vorgesehen sind, daß die Wände der Rohre in Reihe an die Klemmen eines Meßgerätes 2" 3,;, 47, 48) angeschlossen sind, daß Meßinriciltungen (34, 35; 49, 50) zum Pressen der Oberflächentemperatur der Niederschläge vorgesehen sind und daß das suSere Rohr der umgebenden Atmosphäre und der Wirkung eines Ofens (v6; 61) aussetzbar ist.
  9. 9. Vorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß der feste Elektrolyt Zirkonoxyd ist und die Niederschläge (43, 44) in einer relativ beschränkten Zone für die Messung des Sauerstoffgehaltes der Gasmischung und in einer größeren Zone (51 - 55) ür die Regulierung des Sauerstoffgehalts vorgesehen sind und daß die Niederschläge an ein Meßgerät (47, 48) bzw. an eine Stromquelle (56) in zwei Anordnungen angeschlossen sind, wobei bei jeder Anordnung die Wände, die die Atmosphären begrenzen in Reihe angeordnet sind.
  10. 10. Vorrichtung nach Anspruch 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Niederschläge aus Platin bestehen.
  11. 11. Vorrichtung nach Anspruch 8 zum Messen anes reinen Gases, in einer Gasmischung, dadurch gekennzeichnet, daß die Niederschläge aus einem elektronenleitenden material auf einem kleineren Teil der Oberfläche aufgebracht ist.
    L2. Vorrichtung nach Anspruch 8 zum Einstellen eines reinen Gases in einer Gasmischung, dadurch gekennzeichnet, daß der Niederschlag aus einem Elektronenleiter auf einem größeren Teil der Oberfläche aufgebracht ist.
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