DE2149694C3 - - Google Patents

Info

Publication number
DE2149694C3
DE2149694C3 DE19712149694 DE2149694A DE2149694C3 DE 2149694 C3 DE2149694 C3 DE 2149694C3 DE 19712149694 DE19712149694 DE 19712149694 DE 2149694 A DE2149694 A DE 2149694A DE 2149694 C3 DE2149694 C3 DE 2149694C3
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
tetrachloro
difluoroethane
solvent mixture
mixture according
nitroalkane
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE19712149694
Other languages
English (en)
Other versions
DE2149694B2 (de
DE2149694A1 (de
Inventor
Jeffrey Runcorn Cheshire Prest (Ver. Koenigreich)
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Imperial Chemical Industries Ltd
Original Assignee
Imperial Chemical Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Imperial Chemical Industries Ltd filed Critical Imperial Chemical Industries Ltd
Publication of DE2149694A1 publication Critical patent/DE2149694A1/de
Publication of DE2149694B2 publication Critical patent/DE2149694B2/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2149694C3 publication Critical patent/DE2149694C3/de
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
    • C23G5/02—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
    • C23G5/028—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons
    • C23G5/02809—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons containing chlorine and fluorine
    • C23G5/02812—Perhalogenated hydrocarbons
    • C23G5/02816—Ethanes
    • C23G5/02822—C2Cl4F2
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/50—Solvents
    • C11D7/5004—Organic solvents
    • C11D7/5013—Organic solvents containing nitrogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/50—Solvents
    • C11D7/5036—Azeotropic mixtures containing halogenated solvents
    • C11D7/5068—Mixtures of halogenated and non-halogenated solvents
    • C11D7/5095—Mixtures including solvents containing other heteroatoms than oxygen, e.g. nitriles, amides, nitroalkanes, siloxanes or thioethers
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01H—ELECTRIC SWITCHES; RELAYS; SELECTORS; EMERGENCY PROTECTIVE DEVICES
    • H01H35/00—Switches operated by change of a physical condition
    • H01H35/24—Switches operated by change of fluid pressure, by fluid pressure waves, or by change of fluid flow
    • H01H35/26—Details
    • H01H35/2671—Means to detect leaks in the pressure sensitive element
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/22—Organic compounds
    • C11D7/28—Organic compounds containing halogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/22—Organic compounds
    • C11D7/32—Organic compounds containing nitrogen

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Fluid Mechanics (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Description

Die Erfindung bezieht sich auf ein Lösungsniittelgemisch, enthaltend l.l^^-Tetrachlor-l^-difluoräthan und ein Nitroalkan.
Ein Lösungsmittelgemisch, das unter anderem diese beiden Komponenten enthält, ist aus der GB-PS 1144546 bekannt. Die Hauptkomponente des dort beschriebenen Gemische besteht jedoch aus Methylchloroform, welches durch den Zusatz von 20 bis 50% l,l,2,2-Tetrachlor-l,2-difIuoräthan weniger brennbar gemacht wird. Als Nitroalkan enthält dieses Lösungsmittelgemisch Nitromethan, das als Stabilisator dient.
l,l,2,2-Tetrachlor-l,2-difluoräthan wird jedoch auch sehr viel alleine zum Reinigen von beispielsweise elektronischen Bauteilen und gedruckten Schaltungen verwendet. Es hat jedoch den Nachteil, daß es bei normaler Raumtemperatur fest ist.
Es wurde nunmehr gefunden, daß der Schmelzpunkt von l,l,2,2-Tetrachlor-l,2-difIuoräthan durch Zusatz von solchen Mengen eines Nitroalkans mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen, daß ein Azeotrop gebildet wird, gesenkt werden kann.
Gegenstand der Erfindung ist also ein Lösungsmittelgemisch, enthaltend l,l,2,2-Tetrachlor-l,2-difluoräthan und ein Nitroalkan, welches dadurch gekennzeichnet ist, daß es aus einem azeotropen Gemisch aus l,l,2,2-TetrachIor-l,2-difluoräthan und einem Nitroalkan mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen besteht.
Die Azeotrope besitzen bei 760 mm Hg die in der
•Γι
Nitroalkan Nitroalkan- Siede Schmelz
gehalt punkt punkt
(Gew.-%) (0C) (0C)
Nitromethan 17 81,3 12
Nitroäthan 9 89,3 8
1-Nitropropan 1,3 92,3 21
2-Nitropropan 4 91,8 17
Die erfindungsgemäßen Lösungsmittelgemische entfernen gewisse Verunreinigungen, die durch l,l,2,2-Tetrachlor-l,2-difluoräthan alleine nicht entfernt werden. Ein weiterer Vorteil def erfindungsgemäßen Lösungsmittelgemische besteht darin, daß sie sich ohne Änderung ihrer Zusammensetzung durch Destillation reinigen lassen. Solche Destillationen müssen von Zeit zu Zeit durchgeführt werden, um die beim Reinigen aufgenommenen Stoffe zu entfernen. Lösungsmittelgemische, die keine Azeotrope sind, machen dagegen bei solchen Reinigungsbehandlungen durch Destillation erhebliche Schwierigkeiten, weil bei der Destillation eine Konzentrierung einer der Komponenten stattfindet. Durch die Verwendung von im wesentlichen azeotropen Mischungen ist es jedoch möglich, das Auftreten solcher unerwünschter Folgen zu vermeiden.
Wegen der verbesserten Lösungski aft der neuen Lösungsmittelgemische ist die Verwendung von zeitraubenden, kostspieligen und bisweilen aufwendigen mechanischen Vorrichtungen, wie z. B. Bürstvorrichtungen, nicht notwendig, durch die eine Beschädigung an empfindlichen Gegenständen herbeigeführt werden kann.
Die erfindungsgemäßen Lösungsmittelgerinische können in den meisten der üblichen Anwendungen fürTetrachlordifluoräthan eingesetzt werden, vorausgesetzt, daß die erhöhte Lösungskraft des Azeotrops eine solche Anwendung nicht verhindert. Diese erhöhte Lösungskraft macht es möglich, daß die Reinigungsprozeduren verkürzt werden können, weiche bisher bei der Anwendung von reinem 1,1,2,2-Tetrachlor-l,2-difluoräthan erforderlich waren, so daß die Kapazität vorhandener Reinigungsanlagen erhöht werden kann.
Die erfindungsgemäßen Lösungsmittelgemische können in den üblichen Apparaturen unter Anwendung der üblichen Arbeitsvorgänge angewendet werden. Das Lösungsmittel kann gewünschtenfalls ohne besondere Erwärmung angewendet werden, jedoch kann die Reinigungswirkung des Lösungsmittels durch Erhitzen, aber auch durch Rühren oder durch besondere Zusätze unterstützt weiden.
Für gewisse Anwendungszwecke ist es vorteilhaft mit einer Ultraschallbestrahlung zu arbeiten. Dies ist insbesondere der Fall, wenn gewisse festhaftende Flußmittel von Lötverbindungen entfernt werden sol len.
Die Lösungsmittelgemische gemäß der Erfindung besitzen eine hohe Stabilität, insbesondere deshalb, weil Nitroalkane Stabilisatoren für halogenierte Kohlenwasserstoffe darstellen.
Gewünschtenfalls können weitere Zusatzstoffe zugesetzt werden, um hierdurch ihre Reinigungs- oder Lösungskraft zu erhöhen. Geeignete Zusatzstoffe sind kationische, anionische und nichtionische Detergentien.
Die Erfindung ist in den folgenden Beispielen näher erläutert, wobei die Prozentangaben sich auf das Gewicht beziehen.
Beispiel 1
Reines l.l^-Tetrachlor-l^-difluoräthan wurde mit einer gewissen Menge Nitromethan gemischt und die Mischung wurde in einer mit einem Vakuummantel ausgestatteten Kolonne mit hohem Durchflußverhältnis destilliert, um eine konstant siedende Mischung herzustellen.
Die erhaltene konstant siedende Mischung wurde erneut mit einem höheren Rückflußverhältnis destilliert. Das erhaltene Azeotrop wurde dann durch Gaschromatographie analysiert.
Der genaue Siedepunkt des Azeotrops wurde durch Destillieren in einem DifferentialebuIIiometer und Messen der Kondensattemperatur gegenüber derjenigen von reinem l,l,2,2-Tetrachlor-l,2-difIuoräthan unter Verwendung eines Beckman-Thermometers bestimmt.
Es wurde festgestellt, daß das Azeotrop eine Zusammensetzung von etwa 83% 1,1,2,2-TetrachIor-1,2-difluoräthan und etwa 17% Nitromethan, einen Siedepunkt von 81,3° C bei 760 mm Hg und einen Schmelzpunkt von 12° C besitzt.
Das Azeotrop ist nicht entflammbar.
Beispiel 2
Das Beispiel 1 wurde unter Verwendung von Nitroäthan anstelle von Nitromethan wiederholt.
Das erhaltene Azeotrop besitzt eine Zusammensetzung von etwa 91% l.l^-Tetrachlor-l^-difluoräthan und etwa 9% Nitroäthan. Der Siedepunkt liegt bei 760 mm Hg bei 89,3° C und der Schmelzpunkt bei 8D C.
Auch dieses Azeotrop ist nicht entflammbar.
Beispiel 3
Das Beispiel 1 wurde unter Verwendung von 1-Nitropropan anstelle von Nitromethan wiederholt.
Das erhaltene Azeotrop besteht aus etwa 98,7% 1,1,2,2-Tetrachlor-1,2-difluoräthan und etwa 1,3% 1-Nitropropan. Es besitzt einen Siedepunkt von 92,3 ° C bei 760 mm Hg und einen Schmelzpunkt von 21° C.
Auch dieses Azeotrop ist nicht entflammbar.
Beispiel 4
Das Beispiel 1 wurde unter Verwendung von 2-Nitropropan anstelle von Nitromethan wiederholt.
Das erhaltene Azeotrop enthält etwa 96% l,l,2,2-Tetrachlor-l,2-difluoräthan und etwa 4% 2-Nitropropan. Es besitzt einen Siedepunkt von 91,8° C bei 760 mm Hg und einen Schmelzpunkt von 17° C.
Auch dieses Azeotrop ist nicht entflammbar.
Beispiel 5
Die azeotropen Gemische der Beispiele 1 bis 4 wurden auf ihre Wirksamkeit, ein Lötflußmittel von gedruckten Schaltungen zu entfernen, untersucht. Die Schaltungen wurden mit einem handelsüblichen Lötflußmittel bestrichen. Hierauf wurden sie dann 2 min unter Infrarotheizung getrocknet und 5 see in ein auf 250° C gehaltenes Lot eingetaucht. Die gedruckten Schaltungen wurden dann in die verschiedenen siedenden Lösungsmittel 1 min lang eingetaucht und dann entnommen. Für Vergleichszwecke wurde eine weitere gedruckte Schaltung in ähnlicher Weise behandelt und in l,l,2,2-Tetrachlor-l,2-difluoräthan alleine eingetaucht. Es wurde festgestellt, daß die erfindungsgemäßen azeotropen Lösungsmittelgemische mehr Flußmittel entfernten als 1,1,2,2-Tetrachlor-1,2-difluoräthan alleine.

Claims (6)

Patentansprüche:
1. Lösungsmittelgemisdi, enthaltend 1,1,2,2-Tetrachlor-l,2-difluoräthan und ein Nitroalkan, dadurch gekennzeichnet, daß es aus einem azeotropen Gemisch aus l,l^,2-Tetrachlor-l,2-difluoräthan und einem Nitroalkan mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen besteht.
2. Lösungsmittelgemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es etwa 83 Gew.-% l.l^.Z-Tetrachlor-l^-difluoräthan und etwa 17 Gew.-% Nitromethan enthält.
3. Lösungsmittelgemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es etwa 91 Gew.-% l,l,2,2-TetrachIor-l,2-difluoräthan und etwa 9 Gew.-% Nitroäthan enthält.
4. Lösungsmittelgemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es etwa 98,7 Gew.-% !,l^^-Tetrachlor-l.i-difluoräthan, und etwa 1,3 Gew.-% 1-Nitropropan enthält.
5. Lösungsmittelgemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es etwa 96 Gew.-% l,l,2,2,-Tetrachlor-l,2,-fluoräthan und etwa 4 Gew.-% 2-Nitropropan enthält.
6. Verwendung des Lösungsmittelgemischs nach Ansprüchen 1 bis 5 zum Reinigen von Gegenständen, insbesondere von gedruckten Schalttafeln, die mit einem Lötmittel verunreinigt sind.
folgenden Tabelle zusammengestellten Siedepunkte und Schmelzpunkte.
DE19712149694 1970-10-05 1971-10-05 Lösungsmittelgemisch Granted DE2149694B2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB4714670 1970-10-05

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE2149694A1 DE2149694A1 (de) 1972-05-25
DE2149694B2 DE2149694B2 (de) 1979-10-18
DE2149694C3 true DE2149694C3 (de) 1980-06-26

Family

ID=10443899

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19712149694 Granted DE2149694B2 (de) 1970-10-05 1971-10-05 Lösungsmittelgemisch

Country Status (2)

Country Link
DE (1) DE2149694B2 (de)
GB (1) GB1308357A (de)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1442393A (en) * 1973-02-02 1976-07-14 Ici Ltd Solvent compositions for cleaning
GB2076009B (en) * 1980-04-14 1983-10-26 Daikin Ind Ltd Azeotropic solvent composition
DE3702399A1 (de) * 1987-01-28 1988-08-11 Kali Chemie Ag Neue gemische mit difluortetrachloraethan

Also Published As

Publication number Publication date
DE2149694B2 (de) 1979-10-18
GB1308357A (en) 1973-02-21
DE2149694A1 (de) 1972-05-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69308292T2 (de) Binäre azeotrope zusammensetzungen
DE2345037C2 (de) Verfahren zum Reinigen von Gegenständen
DE68914171T2 (de) Azeotrope Mischungen von 1,1-Dichlor-1-fluorethan und Methanol/Ethanol.
DE2210429A1 (de) Lösungsmittel-Stoffzusammensetzungen
DE4326470C2 (de) Mischung auf Basis von 1,1,1,3,3-Pentafluorbutan, Methylenchlorid und Methanol, zum Reinigen und/oder Trocknen von Feststoffoberflächen
DE3609426A1 (de) Loesungsmittelgemische
DE69310170T2 (de) Azeotropartige zusammensetzungen mit 1,1,2,3,3-pentafluoropropan
DE3115015C2 (de) Azeotropes Lösungsmittelgemisch
DE4326469A1 (de) Mischung auf Basis von 1,1,1,3,3-Pentafluorbutan und Methylenchlorid, zum Reinigen und/oder Trocknen von Feststoffoberflächen
DE1468828C3 (de) 1,1,1-Trichloräthan mit verbesserten Verdampfungseigens chaftea
DE2149694C3 (de)
DE68912325T2 (de) Azeotropähnliche zusammensetzungen von 1,1-dichloro-1-fluoroethan, methanol und nitromethan.
EP0427069A2 (de) Reinigungszusammensetzungen aus wasserstoffhaltigen Fluorchlorkohlenwasserstoffen und partiell fluorierten Alkanolen
EP0378140B1 (de) Reinigungszusammensetzungen
DE1546079A1 (de) Verfahren zum Entfernen von Harz-Flussmitteln von elektrischen Schaltbrettern
DE2403428A1 (de) Reinigungsloesungsmittelzusammensetzung
DE4022927A1 (de) Zusammensetzungen aus dichlorpentafluorpropanen und aceton
DE60005881T2 (de) Reinigungs- oder Trocknungszusammensetzungen auf Basis von Pentafluorbutan, Methylenchlorid, Methanol und Decafluorpentan
EP0583719A1 (de) Zusammensetzungen aus 1-Chlor-2,2,2-trifluorethyldifluormethylether und partiell fluorierten Alkanolen
DE69104038T2 (de) Zusammensetzung auf der Basis von N-Perfluorbutylethylen zum Reinigen von festen Oberflächen.
JPH03503541A (ja) ジクロロトリフルオロエタン、メタノールおよびニトロメタンの共沸混合物様組成物
DE1617175C2 (de) Bei Raumtemperatur flüssiges Lösungsmittelgemisch
DE2149695C3 (de) Lösungsmittel-Stoffzusammensetzungen
DE1546079C (de) Azeotropes Losungsmittelgemisch, ms besondere zur Entfernung eines Harzfluß mittels von gedruckten Schaltungen
DE4027445A1 (de) Reinigungszusammensetzungen mit wasserstoffhaltigen fluorchlorkohlenwasserstoffen

Legal Events

Date Code Title Description
OD Request for examination
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)
8339 Ceased/non-payment of the annual fee