DE2147841B1 - Vorrichtung zum ein- und auskoppeln von licht bei dielektrischen optischen wellenleitern und verfahren zu dessen herstellung - Google Patents
Vorrichtung zum ein- und auskoppeln von licht bei dielektrischen optischen wellenleitern und verfahren zu dessen herstellungInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Ein- und Auskoppeln von Licht bei dielektrischen optischen
Wellenleitern unter Verwendung einer Schicht mit einer Brechungsindex- oder einer Oberflächenreliefstruktur
als Koppelelement, welche insbesondere eine optimale Modenanpassung bewirkt und unter Verwendung
eines optischen Bauelementes, welches eine Lichtwelle in einer vorgegebenen Lichtverteilung
weiterleitet, sowie ein Verfahren zur Herstellung dieser Vorrichtung.
Bei optischen Nachrichtenübertragungssystemen mittels Lichtleitfasern werden vorwiegend Lichtimpulse
mit unterschiedlichen Impulsbreiten und Impulsabständen von einer Sende- zu einer Empfangsstation
geleitet. Als Impulssender werden dabei in der Regel Laseroszillatoren verwendet, deren aus-
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gesandtes Licht in die Lichtleitfasern mit Durch- Vorrichtung zur Erzeugung einer vorgegebenen
messern von wenigen μΐη eingekoppelt werden muß. Wellenfront. Ein auf ein Kinoform einfallender Lichtin
den Empfangsstationen werden die Lichtimpulse strahl wird wegen der Ausbildung einer gitterartigen
von den Lichtleitfasern auf Photodetektoren einge- Oberflächenstruktur in eine einzige Beugungsordnung
koppelt. Weitere Koppelanordnungen werden in den 5 abgebeugt. Die Transmissionsrichtungen der einzel-Lichtverstärkern
auf Zwischenstationen benötigt. Alle nen Strahlanteile sowie die zu transmittierenden
diese Koppelanordnungen sollen das Licht von einem Modentypen können durch eine ortsabhängige Ober-Material
in das darauffolgende optimal überführen. flächenstruktur vorgegeben werden (s. Fig. 2).
Bildet man das aus dem einen Material frei aus- Damit die Lichtwelle im Wellenleiter nach dessen
tretende Licht über optische Linsen auf das darauf- io Ummantelung mit der Schicht nicht gedämpft wird,
folgende Material ab, so treten Fehlanpassungen auf, wählt man für die Schicht insbesondere ein Material,
die durch charakteristische Feldverteilungen der das einen niedrigeren Brechungsindex als das Material
Moden im Wellenleiter bedingt und meist mit hohen des Wellenleiters hat. Man kann aber auch ein Mate-Leistungsverlusten
verbunden sind. rial verwenden, das den gleichen oder einen höheren
Eine verbesserte optische Koppelanordnung brin- 15 Brechungsindex als das Material des Wellenleiters
gen Hologramme zwischen Ausgangs- und Weiterlei- hat. Dann ordnet man aber vorteilhafterweise zwischen
tungselementen, da Hologramme so ausgebildet wer- der Schicht und dem Wellenleiter eine oder mehrere
den können, daß eine Modenanpassung hervorgeru- transparente Zwischenschichten mit Wandstärken in
fen wird. der Größenordnung der Wellenlänge des zu leitenden
Bekannt ist eine Anordnung, bei der vor der End- 20 Lichtes und mit einem Brechungsindex an, der kleiner
fläche der Lichtleitfaser ein Hologramm als Koppel- ist als der Brechungsindex des Materials des Wellenvorrichtung
angeordnet ist, welches sowohl eine leiters.
Querschnittsanpassung als auch eine Modenanpassung Als Schicht verwendet man insbesondere eine
an das darauffolgende Element bewirkt (deutsche Photolackschicht oder eine Dichromat-Gelatine-Auslegeschrift
1 947 719). 25 Schicht.
Da die Endflächen von Lichtleitfasern, in die das Zur Herstellung dieser Vorrichtung bringt man
Licht auf diese Art eingekoppelt werden soll, sehr zunächst auf das Ende der Mantelfläche des Wellenklein sind, erfordert die Herstellung der Hologramm- leiters die Schicht auf und erzeugt danach in der
struktur und die Positionierung des Hologramms an Schicht eine Brechungsindex- oder Oberflächenreliefdas
Ende der Lichtleitfaser sehr aufwendige Justier- 30 struktur durch Einwirkung einer amplitudenmoduvorkehrungen.
Außerdem ist der Wirkungsgrad einer lierten Strahlung und anschließender Entwicklung
solchen Anordnung relativ gering, da die abgeschnit- und Fixierung der Schicht. Danach braucht man nur
tene Endfläche des Wellenleiters für die einzukop- noch in einem von der Strahlumlenkungsrichtung des
pelnden Moden des Lichtes Reflexionen aufweist. optischen Bauelementes abhängigen Abstand hinter
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zu- 35 dem mit dem Schichtmaterial ummantelten Wellengrunde,
eine sehr wirkungsvolle Koppelanordnung leiter das optische Bauelement und dahinter den
anzugeben, welche mit einfachen Justiervorrichtungen Sender, den Detektor oder einen weiterführenden
aufgebaut werden kann. Wellenleiter axialsymmetrisch anordnen.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch ge- Die Struktur in der Schicht wird durch Belichtung
löst, daß die mit einer Brechungsindex- oder einer 4° unter Verwendung einer Maske und einer Optik
Oberflächenstruktur behaftete als Koppelelement erzeugt. Dabei kann als Maske ein Dia verwendet
dienende Schicht mantelförmig um die Oberfläche werden, das durch inkohärentes Licht auf der Schicht
des Endteiles des Wellenleiters angeordnet ist und abgebildet wird. Wird als Maske ein Hologramm oder
daß vor dem Endteil des Wellenleiters das optische ein Kinoform verwendet, so wird mittels einer
Bauelement angeordnet ist, welches die zu koppelnde 45 kohärenten Strahlung eine dreidimensionale Abbil-Lichtwelle
beim Einkoppeln gleichmäßig auf der dung erzeugt, die der Oberfläche der zu belichtenden
Oberfläche der Schicht bzw. beim Auskoppeln auf Schicht angepaßt werden kann.
der Eintrittsfläche eines nachfolgenden optischen Ein anderes vorteilhaftes Verfahren zur Herstellung
Bauelementes verteilt. der Struktur besteht darin, daß man einen intensitäts-
Durch eine solche Vorrichtung wird erreicht, daß 50 modulierten Elektronenstrahl verwendet, der durch
die in dem Wellenleiter einzukoppelnde Lichtwelle eine Spule über die Schicht abgelenkt wird. In diesem
in einer Schicht mit einer relativ großen Oberfläche Fall ist an Stelle der Vorlage eine Speichervorrichtung
zur Modenanpassung an den Wellenleiter und zur zur Steuerung der Intensität des Elektronenstrahls in
Richtungsverteilung der einfallenden Lichtwelle vor- den einzelnen Richtungen zu verwenden,
teilhaft beeinflußt wird. 55 Bei Benutzung der Maske muß der Transmissions-
teilhaft beeinflußt wird. 55 Bei Benutzung der Maske muß der Transmissions-
Ais optisches Bauelement wird vorteilhafterweise verlauf der Maske derart bestimmt werden, daß nach
ein Axikon, ein Kinoform, ein Phasen- oder Volumen- Herstellung des Oberflächenreliefs die im Wellenhologramm
gewählt. Falls das optische Bauelement leiter weiterzuführenden Lichtimpulse die vorgegebeein
Kinoform, ein Phasen- oder Volumenhologramm nen Modentypen und die vorgegebene Richtung erist,
hat es die Aufgabe, neben der räumlichen Vertei- 60 halten.
lung der Lichtwelle den Lichtimpuls in vorgegebenen Zur Herstellung der Struktur in der Schicht wird
Modentypen weiterzuleiten. man am einfachsten während des Belichtungsvor-
Das optische Bauelement ist vorteilhafterweise ganges eine Rotationsbewegung der zu belichtenden
rotationssymmetrisch zur Achse des Wellenleiters an- Schicht oder des Projektionsstrahlenganges um die
geordnet. 65 Achse des mit der Schicht bedeckten Wellenleiters
Die um den Wellenleiter mantelförmig angeordnete durchführen. Diese Rotationsbewegung kann konti-Schicht
ist vorteilhafterweise ein Kinoform. Unter nuierlich oder in Stufen erfolgen,
einem Kinoform versteht man eine schichtförmige An Stelle der Rotationsbewegung kann die Abbil-
einem Kinoform versteht man eine schichtförmige An Stelle der Rotationsbewegung kann die Abbil-
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dung auch so erfolgen, daß der amplitudenmodulierte die Wirkung eines Beugungsgitters besitzt. Von oben
Strahl in eine Reihe von Strahlen aufgeteilt wird, die einfallende Lichtstrahlen 12 werden daher entspredie
Schicht aus verschiedenen Richtungen bestrahlen. chend der »Gitterkonstanten« in verschiedene Beu-
Ausführungsbeispiele der Erfindung werden an gungsrichtungen abgelenkt. Infolge der beim DurchHand
der folgenden Figurenbeschreibung erläutert. 5 laufen der Lichtstrahlen entstehenden Phasendiff eren-
F i g. 1 zeigt eine komplette Koppelvorrichtung zen wird ein bestimmter Modentyp in einen anderen
zum Ein- und Auskoppeln von Licht, bestimmten Modentyp transformiert. Bei Berücksich-
F i g. 2 einen Teil eines Kinoforms, tigung einer bestimmten Dicke des Schichtmaterials
F i g. 3 den Wellenleiter mit einer Zwischenschicht 10, einer bestimmten Höhe und Breite der Stufen
und der Strukturschicht, io und bestimmter Wellenlängen des einfallenden Lich-
Fig. 4 und 5 je ein Ausführungsbeispiel zur Her- tes gelangt man zu bestimmten Ausbreitungsrichtunstellung
der Schichtenstruktur mittels Lichtstrahlen gen des durchgelassenen Lichtes im Sinne dieser
und Transformation.
Fig. 6 ein Ausführungsbeispiel zur Herstellung Aus einem Kinoform besteht die äußere Schicht5
der Schichtenstruktur mittels Elektronenstrahlen. 15 der Fig. 3. Sie zeigt einen Querschnitt des Wellen-
An Hand der Fig. 1 kann sowohl der Einkoppel- leiters 6, dessen Brechungsindex kleiner oder gleich
Vorgang einer Lichtwelle in einen Wellenleiter als dem Material der Schicht 5 ist. In diesem Falle ist
auch der Auskoppelvorgang einer Lichtwelle aus dem es notwendig, eine Zwischenschicht 13 anzuordnen,
Wellenleiter beschrieben werden. Im ersteren Falle welche einen niedrigeren Brechungsindex als das Mabedeutet
1 den Endteil eines Lasers, dessen impuls- 20 terial des Wellenleiters 6 besitzt. Ist nämlich das
förmige Strahlung 2 auf ein axialsymmetrisch zum Material des Wellenleiters von einem Material mit
Laser angeordnetes Axikon 3 fällt. Dieses Axikon, einem niedrigeren Brechungsindex umgeben, so leitet
das aus einem transparenten Material besteht und die dieser Wellenleiter Lichtwellen, die ja nicht nur im
Form eines Rotationsprismas besitzt, leitet die Strah- Inneren des Wellenleiters, sondern bei denen auch
lung gemäß der äußeren Pfeile 4 mit einer konstanten 25 Oberflächenwellen bestehen, mit einer geringeren
Strahlungsdichte des Strahlungsquerschnittes auf die Dämpfung durch Strahlungsverluste. Die Zwischenschicht
5 weiter, die auf der Oberfläche dieser schicht 13 sollte eine Dicke von einigen Wellenlängen
Schicht eine gleichmäßige Verteilung ergibt. Die oder weniger der zu leitenden Lichtwellen aufweisen.
Schicht 5 ist mantelförmig um den Wellenleiter 6 an- Eine radial von außen unter einem spitzen Winkel
geordnet und bewirkt als Kinoform durch die in ihr 30 zur optischen Achse 7 auf die Schicht 5 einfallende
enthaltene Brechungsindex- bzw. Oberflächenrelief- Lichtwelle wird in den Wellenleiter 6 eingekoppelt
struktur eine Weiterleitung der Teilstrahlen mit einer und in Richtung der optischen Achse 7 weitergeleitet,
geringen Modenzahl, vorzugsweise einem Modus in In genau der gleichen Weise wird eine entlang der
Richtung der optischen Achse 7. Die wirkungsvolle optischen Achse 7 ankommende Lichtwelle, wenn sie
Einkopplung eines oder weniger Moden unter Ver- 35 in den Bereich des mit der Schicht versehenen WeI-nachlässigung
höherer Moden ist deshalb von beson- lenleiters eintritt, durch die Schicht hindurch nach
derem Vorteil, weil in Wellenleitern Lichtwellen, die außen geführt.
nur niedere Moden enthalten, weniger gedämpft wer- Für den Fall, daß man für die Schicht 5 ein Mate-
den und die übertragenen Impulse nur wenig verzerrt rial -wählt, dessen Brechungsindex kleiner ist als das
werden. Zur Erhöhung der Modenanpassung an den 40 Material des Wellenleiters 6, kann auf die Zwischen-Wellenleiter
trägt das optische Bauelement 3 bei, schicht 13 verzichtet werden.
wenn an Stelle des Axikons ein Hologramm oder Die F i g. 4 zeigt eine Anordnung zur Herstellung
ebenfalls ein Kinoform gewählt wird. der Struktur der Schicht 5. Ein paralleles Lichtstrah-
Die als Kinoform gewählte Schicht 5 bewirkt ne- lenbündel 14 fällt senkrecht auf eine Maske 15, die
ben der Einkoppelung des Lichtes von links nach 45 hier als Dia realisiert ist. Dieses Dia enthält das Bild
rechts in gleicher Weise eine Auskopplung, wenn das der Struktur, das auf die Schicht 5 projiziert werden
Licht durch den Wellenleiter von rechts herangeführt soll. Das Lichtstrahlenbündel 14 läuft weiter auf eine
wird. Zylinderlinse 16 und von hier auf eine weitere Zy-
In diesem Falle wird eine Lichtwelle, welche nach linderlinse 17, die im Brennpunkt der Zylinderlinse
links auf die Endfläche 8 des Wellenleiters zuläuft, so 16 angeordnet ist und deren Achse senkrecht zur
in der gleichen Richtung wie bei der Einkopplung Achse der Zylinderlinse 16 angeordnet ist. Durch
aus dem Wellenleiter ausgekoppelt und entsprechend Verwendung dieser Zylinderlinsen wird das Lichtden
Pfeilen 9 auf das optische Bauelement 3 hinge- strahlenbündel 14 immer nur in bestimmten paralleführt.
Von dort gelangt die Strahlung nach links auf len Ebenen fokussiert. Im weiteren Verlauf fällt das
die Anordnung 1, die in diesem Fall einen Photo- 55 Lichtstrahlenbündel auf einen Spiegel 18, der um
detektor darstellt. Das Ausgangssignal dieses Detek- eine Achse 19 drehbar gelagert ist, welche mit der
tors wird erhöht, wenn die auftreffende Strahlung optischen Achse 7 zusammenfällt. Dieser Spiegel
wieder vollständig auf die Detektorfläche konzen- lenkt das Lichtstrahlenbündel über zwei weitere Spietriert
ist. gel 20 und 21 auf ein Mikroskopobjektiv 22, von dem
Fig. 2 zeigt den Querschnitt eines Teiles eines 60 aus das Lichtstrahlenbündel auf die Schicht 5 auf-Kinoforms,
das als Strukturschicht 5 verwendet wird trifft. Das Bild der Maske 15 wird auf der Schicht 5
und als optisches Bauelement 3 eingesetzt werden durch diese Anordnung streifenförmig, 23, abgebilkann.
Es besteht aus einer dünnen Schicht eines det. Um das Bild auf die gesamte Oberfläche der
transparenten Materials 10, bei dem eine Ober- Schicht 5 abzubilden, müssen die Spiegel 18, 20 und
flächenreliefstruktur 11 eingezeichnet ist und eine 65 21 und das Mikroskopobjektiv 22 um die optische
Brechungsindexstruktur ebenfalls vorhanden sein Achse 7 gedreht werden. An Stelle der Drehung diekann.
Die Oberflächenstruktur ist sägezahnförmig ser Spiegel und des Mikroskopobjektives können
mit scharfen Kanten ausgebildet, welche zum einen diese auch fest angeordnet sein und der Wellen-
leiter 6 mit der Schicht 5 um die optische Achse 7 gedreht werden. Dabei erfolgt diese Drehbewegung
entweder kontinuierlich oder stufenweise. Da die Schicht 5 aus einem lichtempfindlichen Material besteht,
ist durch die Abbildung des Dias auf der Schicht diese belichtet worden. Sie muß noch entwickelt
und fixiert werden. Bei der Herstellung dieser Struktur besteht die Möglichkeit, für die spätere
Anwendung der Schicht Korrekturen eventueller Aberrationen der einfallenden Wellenfront und
Nichtlinearitäten des Schichtmaterials durchzuführen. Eine solche korrigierende Wirkung der Schicht kann
erzeugt werden, wenn man in der Vorlage das Bild geeignet vorgibt.
Die F i g. 5 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel zur Herstellung der Struktur der Schicht 5 um den
Wellenleiter 6. Hier wird das auf die Vorlage 15 auftreffende Lichtstrahlenbündel 14 durch eine Strahlaufteilungsvorrichtung
24 in zwei Teilstrahlen gleicher Intensität zerlegt und diese Teilstrahlen über teildurchlässige Spiegel 25 unter verschiedenen Richtungen
auf die Schicht 5 gelenkt. Die Teildurchlässigkeit der Spiegel 25 ist dabei so bemessen, daß die
Strahlungsintensität der Teilstrahlen 26 konstant isi Auf diese Weise läßt sich die Struktur ohne Bewe
gung der Vorrichtung herstellen. Wenn sich benach barte Teilstrahlen 26 auf der Oberfläche der Schich
gerade berühren, wird die Schicht vollständig belich tet. Danach wird die Schicht entwickelt und fixiert
Die F i g. 6 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispie zur Herstellung der Struktur auf der Schicht 5. Die:
geschieht hier durch einen Elektronenstrahl 27, dei intensitätsmoduliert wird. In einem evakuierten Gehäuse
28 befindet sich ein System 29 nach Art einei Triode, welche Elektronenstrahlen aussendet, du
von einer Ablenkspule 30 senkrecht zur Zeichenebene abgelenkt werden können. Die Strukturform
wird durch Intensitätsmodulation des Elektronenstrahls bewirkt, welche in einem Intensitätsmodulatoi
31 gespeichert ist und welche als Funktion der Ablenkrichtung durch die Ablenkspulen 30 gesteuert
wird. Zur Belichtung der gesamten Oberfläche der Schicht 5 wird der Wellenleiter 6 mit der Schicht
um seine Achse 32 schrittweise weitergedreht. Im Anschluß an diese Belichtung wird die Schicht wieder
entwickelt und fixiert.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
copy 309 513/344
Claims (18)
1. Vorrichtung zum Ein- und Auskoppeln von Licht bei dielektrischen optischen Wellenleitern
unter Verwendung einer Schicht mit einer Brechungsindex- oder einer Oberflächenreliefstruktur
als Koppelelement, welche insbesondere eine optimale Modenanpassung bewirkt und unter Verwendung eines optischen Bauelementes,
welches eine Lichtwelle in einer vorgegebenen Lichtverteilung weiterleitet, dadurch gekennzeichnet,
daß die Schicht mantelförmig um die Oberfläche des Endteiles des Wellenleiters
angeordnet ist und daß vor dem Endteil des Wellenleiters das optische Bauelement angeordnet ist,
welches die zu koppelnde Lichtwelle gleichmäßig auf der Oberfläche der Schicht bzw. auf der Eintrittsfläche
des nachfolgenden optischen Elementes verteilt.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das optische Bauelement ein
Axikon, ein Kinoform, ein Phasen- oder ein Volumenhologramm ist.
3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Struktur des optischen
Bauelementes so beschaffen ist, daß ein vorgegebener Modentyp derart weitergeleitet wird, daß
die Lichtintensität auf dem nachfolgenden Element weitgehend gleichmäßig verteilt ist.
4. Vorrichtung nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das optische Bauelement
rotationssymmetrisch zur Achse des Wellenleiters angeordnet ist.
5. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
daß die Schicht ein Kinoform ist.
6. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht aus einem Material
besteht, das einen niedrigeren Brechungsindex als das Material des Wellenleiters hat.
7. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht aus einem Material
besteht, das den gleichen oder einen höheren Brechungsindex als das Material des Wellenleiters
hat und daß zwischen der Schicht und dem Wellenleiter eine oder mehrere transparente
Zwischenschichten mit einer Wandstärke von der Größenordnung der Wellenlänge des zu leitenden
Lichtes oder darunter und mit einem Brechungsindex angeordnet ist, der kleiner als der
Brechungsindex des Materials des Wellenleiters ist.
8. Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
daß die Schicht eine Photolackschicht oder eine Dichromat-Gelatine-Schicht ist.
9. Verfahren zur Herstellung der Vorrichtung nach einem oder mehreren der vorhergehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß zunächst auf das Ende der Mantelfläche des Wellenleiters
die Schicht aufgetragen wird, danach in der Schicht eine Brechungsindex- oder Oberflächenrelief
struktur durch Einwirkung einer amplitudenmodulierten Strahlung und anschließenden Entwicklung
und Fixierung der Schicht erzeugt wird und daß anschließend in einem von der Strahlungsumlenkungsrichtung
des optischen Bauelementes abhängigen Abstand hinter dem mit
der Schicht versehenen Wellenleiter das optische Bauelement und dahinter der Sender, der Detektor
oder ein weiterführender Wellenleiter axialsymmetrisch angeordnet wird.
10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Struktur durch Belichtung
unter Verwendung einer Maske und einer Optik erzeugt wird.
11. Verfahren nach den Ansprüchen 9 und 10, dadurch gekennzeichnet, daß als Maske ein Dia
verwendet wird, das durch eine inkohärente Strahlung auf die Schicht abgebildet wird.
12. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß als Maske ein Hologramm oder
ein Kinoform verwendet wird, von dem mittels kohärenter Strahlung ein dreidimensionales der
Gestalt der Schicht angepaßtes Bild in der Schicht erzeugt wird.
13. Verfahren nach den Ansprüchen 11 und 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Transmissionsverlauf der Maske derart bestimmt wird, daß nach
Herstellung des Oberflächenreliefs die im Wellenleiter weiterführenden Lichtimpulse die vorgegebenen
Modentypen und die vorgegebene Richtung erhalten.
14. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Struktur durch einen Elektronenstrahl
erzeugt wird, der intensitätsmoduliert ist.
15. Verfahren nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
daß während des Belichtungsvorganges eine Rotationsbewegung der zu belichtenden Schicht oder des Projektionsstrahlenganges um
die Achse des mit der Schicht bedeckten Wellenleiters durchgeführt wird.
16. Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß die Rotationsbewegung kontinuierlich
erfolgt.
17. Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß die Rotationsbewegung in
Stufen erfolgt.
18. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 9 bis 14, dadurch gekennzeichnet, daß
der amplitudenmodulierte Strahl in eine Reihe von Strahlen aufgeteilt wird, die die Schicht aus
verschiedenen Richtungen bestrahlen.
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