DE2130904B2 - Homogene hchtvernetzbare Schich ten liefernde Gemische - Google Patents

Homogene hchtvernetzbare Schich ten liefernde Gemische

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DE2130904B2 DE2130904A DE2130904A DE2130904B2 DE 2130904 B2 DE2130904 B2 DE 2130904B2 DE 2130904 A DE2130904 A DE 2130904A DE 2130904 A DE2130904 A DE 2130904A DE 2130904 B2 DE2130904 B2 DE 2130904B2
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Description

gegenüber geeigneten Entwicklungslösungsmitteln bekannten Kombinationen von Allylesterharzen oder Epoxidharzpolycinnamaten mit Sensibilisatoren überlegen.
tin besonderer Vorteil der Erfindung liegt darin, daß die belichteten Bereiche der erfindungsgemäßen Gemische nach beendeter Belichtung in einer darauffolgenden Dunkelreaktion weiter vernetzt werden können. Hierdurch werden die für hinreichende Unlöslichkeit der Schichten erforderlichen Belichtungszeiten weiter verkürzt.
Die erfindungsgemäßen Gemische zeigen außerdem die vorteilhafte Eigenschaft, daß die belichteten Bereiche nach beendeter Belichtung durch Tempern bei 50cC weiter vernetzt werden können, wobei die unbelichteten Teile keine wesentliche Löslichkeitsänderung erfahren.
Geeignete nchtvernetzbate AUylestergruppen-haltige Harzkom.j menten sind z. B. Präpolymere und Präcopolymere, die nach bekannten Verfahren aus geeigneten Monomeren durch Polymerisation bis zu einem kurz vor der Gelierung liegenden Zeitpunkt und anschließende Trennung in lesliche Polymerfraktion und Monomerfraktion beispielsweise gemäß der USA.-Patentschrift 3 030 341 gewonnen werden können.
Als besonders geeignet haben sich Diallylphthalatpräpolymere als Allylestergruppen-haltige Komponente erwiesen. Diese Präpolymeren und die Präcopolymeren können durch partielle Polymerisation
a) von .\,/?-olefuiisch ungesättigten Carbonsäureallylestern, wie z.B. Allyla. rylat, \ll\lrr.elhacrylat. und
b) von Dicarbonsäurediallylesiern. wie z. B. Diallylorthophthalat oder Diallylisophti ilat erhalten werden.
Auch filmbildende Allylestergruppen-haltige Polyaddukte und -kondensate, die durch baseiikatalysierte Addition saurer aliphatischen aromatischer oder heterocyclischer Dicarbonsäureallylester, wie z. B. Bernsleinsäure-, Glutarsäure-, Hexahydrophthalsäuren Tetrahydrophthalsäuren Phthalsäuremonoallylester an hydroxylgruppenfreie aromalische oder aliphalische Bisglycidyläther, wie z. B. Bisphenol-A-bisglycidyläther, und anschließende Umsetzung der so erhaltenen Dihydroxydicarbonsäureester nach bekannten Verfahren bevorzugt mit Diisocyanaten zu allylesterhaltigen Polyurethanen oder auch mit geeigneten Dicarbonsäurederivaten, wie Dicarbonsäurehalogeniden. zu den entsprechenden Polyestern erhalten worden sind, sind als Allylestergruppen-haltige Harzkomponente gut geeignet.
Geeignete N-Maleinimide sind aliphatisch, aromatisch oder heterocyclisch aufgebaute Maleinimide, wie z. B. N-Cyclohexylmaleinimid, N-Phenylmaleinimid, am Benzolkern substituierte N-Phenylmaleinimide — als bevorzugte Substituenten gelten Alkylgruppen in o-Position — sowie Verbindungen mit zwei oder mehr N-Maleinimidgruppierungen, wie sie aus entsprechenden polyfunktionellen Aminen, so z. B. aus Hexamethylendiamin, p-Phenylendiamin, p,p'-Diaminodiphenol oder ρ,ρ'-Diaminodiphenylmethan in bekannter Weise durch Umsetzung mit Maleinsäureanhydrid zugänglich sind. Als besonders geeignet haben sich in o-Stellung alkylsubstituierte N-Aryl- und/ oder Ν,Ν'-Arylen-bis-maleinimide wie z. B. N-O-ToIyI-maleinimid, Ν,Ν'-o-Tolidin-bis-maleinimid erwiesen.
Die Sensibilisierung kann mit gebräuchlichen Photosensibilisatoren, wie z. B. mit Michlers Keton, 4,4'-Bis-(diäthylamino)-benzophenon, 2-tert.Butyl-9,10-anthrachinon, l,2-Benz-9,10-anthrachinon, 2-Keto-3-methyl-1,3-diazabenzanthron oder p-Nitrodiphenyl bei Verwendung einer Hg-Larnpe als Lichtquelle erfolgen.
Die erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Gemische können mit aktinischem Licht beliebiger Herkunft und Art bestrahlt werden. Die Lichtquelle sollte vorzugsweise, aber nicht unbedingt eine wirksame Menge ultravioletter Strahlen liefern.
Die cfindungsgemäßen lichtempfindlichen Gemische können durch Einwirkung von aktinischem Licht
ίο zu Überzügen vernetzt werden. Ferner können sie mit Vorteil zu photographischen Wiedergaben angewendet werden. Hierzu kann das Gemisch in einem indifferenten Lösungsmittel gelöst auf einen Schichtträger, z. B. eine Folie, aufgetragen und gegebenenfalls bildmäßig
*5 durch eine Kopiervorlage belichtet werden, wobei gemäß weiterer Erfindung die nach Belichtung zu weiterer Vernetzung führende Dunkelreaktion, die durch Tempern beschleunigt werden kann, zur Kürzung der erforderlichen Belichtungszeil ausgenutzt wird. Die
ao konturenscharf freilegbaren vernetzten Photonegativkopien weisen gute Isolierstoff eigenschaften, d. h. hohe Alterungsstabilität, hohen elektrischen Oberflächen- und Durchgangswiderstand, geringe Wasseraufnahme und Quellung auf.
Die isoüerstoffschichten können aus gut zugänglichen und konengünstig herstellbaren Komponenten aif e nfachem Wete gewonnen werden. Sie können in bekannter Weise mit Keimschichten für die Erzeugung festhaftender galvanischer Überzüge versehen werden.
Es sind die Voraussetzungen für eine breite und technisch vorteilhafte Anwendung der lichlvernetzbaren Isolierstoffe gegeben. So können z. B. die erfindungsgemäßen lichtvernetzbaren Gemische mit Vorteil fur photographische Wiedergaben, wie z. B. für die Herstellung miniaturisierter Schichtschallungen, gedruckter Schaltungen mit galvanisch erzeugten Leiterbahnen, miniaturisierter Isolierschichten auf elektrisch leitenden und/oder halbleitenden und/jder isolierenden Basismaterialien, sowie zur Herstellung optisch abfragbarer Bildspeicher verwendet werden. Weiter sind die erfindungsgemäßen Gemische auch vorteilhaft für andere bereits bekannte Verwendungszwecke einsetzbar, wie sie 7. B. in der deutschen Auslegeschrift 1 295 192 in Spalte 3 angegeben sind, so zur Herstellung qualitativ hochwertiger Druckformen.
Die Erfindung wird durch die folgenden Beispiele näher erläutert.
Beispiel 1
00
I. 50 Gewichtsteile eines handelsüblichen Diallylphthalatpräpolymeren, 0,5 Gewichtsteile Maleinanil und 0,5 Gewichtsteile Michlers Keton wurden in Chloroform gelöst. Die Lösung wurde filtriert und auf AIuminiumfolien zu gleichmäßigen Filmen geschleudert, die nach Verdampfen des Lösungsmittels 15 μ stark waren.
Die Filme wurden mit einer im Abstand von 20 cm aufgestellten 200 -W - Quecksilber - H öchstdrucklampe bestrahlt. Zur vergleichenden Beurteilung des Löslichkeitsverhaltens der Filme in Abhängigkeit von der Belichtungszeit wurden sie in ein geeignetes Lösungsmittel getaucht, d. h. ein Lösungsmittel, das in < 1 Minute den unbelichteten Film vollständig löst.
Es wurde die Zeit festgehalten, die der Film unverändert im Lösungsmittelbad überstand.
II. Zu Vergleichszwecken wurde ein durch Polyaddition von Bisphenol A mit einem Bisphenol-A-bis-
glycidyläther erhaltenes Polyhydroxypräpolymeres mit Zimtsäurechlorid vollständig verestert. 50 Gewichtsteile 0717-Polycinnaniat und 1,25 Gewichtsteile Michlers Keton wurden in Chloroform gelöst und, wie beschrieben, zu 15 μ starken Filmen verarbeitet.
III. Ferner wurden entsprechend der USA.-Patentschrift 3 462 267 bzw. der südafrikanischen Patentschrift 05 209 50 Gewichtsteile eines handelsüblichen Diallyiphthalatpräpolymeren, 1,7 Gewichtsteile Xanthon, 0,4 Gewichtsteile Benzol und 0,4 Gewichtsteile Michlers Keton in Chloroform gelöst und ebenso zu 15 μ starken Filmen verarbeitet.
Löslichkeitsverhalten (Messung erfolgte 5 Minutennach beendeter Belichtung)
Stabilität nach Belichtungszeil I. II. III.
5 Minuten 4,5 Minuten
9,0 Minuten
Benzol
30 Sekunden
2,5 Minuten
Xylol
1 Minute
2,5 Minuten
Benzol
10 Minuten
Lösungsmittel
Beispiel 2
50 Gewichtsteile eines handelsüblichen Diallylphthalatpräpolymeren (im Handel erhältlich unter dem Namen Dapon 35), 3,75 Gewichtsteile Maleinanil und 0,54 Gewichtsteile Michlers Keton wurden in Chloroform gelöst und, wie beschrieben, zu 15 μ starken Filmen verarbeitet.
Löslichkeitsverhalten
(Messung erfolgte 5 Minuten nach beendeter Belichtung)
Lösungsmittel: Benzol.
Stabilität nach Belichtungszeit:
5 Minuten 4 Minuten,
10 Minuten 12 Minuten.
Das Löslichkeitsverhalten des obigen Systems änderte sich nach beendeter Belichtung infolge anschließend ablaufender Dunkelreaktion:
Lagerzeit 5 Belichtungszeit 10 Minuten
nach Belichtung 4 Minuten 12 Minuten
5 Minuten Minuten stabil
9 stabil 34 Minuten
20 Stunden Minuten stabil
16 stabil 35 Minuten
44 Stunden Minuten stabil
stabil
imid und 0,5 Gewichtsteile Michlers Keton wurden in Chloroform gelöst und — wie beschrieben — zu 15 μ ao starken Filmen verarbeitet.
Löslichkei Lsverhalten
(Messung erfolgte 5 Minuten nach beendeter Belichtung)
Lösungsmittel: Benzol.
Stabilität nach Belichtungszeit:
a) 5 Minuten 6 Minuten,
b) 10 Minuten 11 Minuten.
Zusätzliche Temperung: 1 Stunde, 50°C.
a) 9 Minuten,
b) 17 Minuten.
Beispiel 4
50 Gewichtsteile eines Diallyiphthalatpräpolymeren, 3,75 Gewichtsteile N-o-Tolylmaleinimid und 0,5 Gewichtsteile Michlers Keton wurden in Chloroform gelöst und — wie beschrieben — zu 15 μ starken Filmen verarbeitet.
Auch einstündige Temperung der belichteten Filme bei 50°C änderte ihr Löslichkeitsverhalten, wobei unbelichtete Filmteile unverändert löslich blieben.
Stabilität nach Belichtungszeit:
a) 5 Minuten 4 Minuten,
b) 10 Minuten 12 Minuten.
Zusätzliche Temperung: 1 Stunde, 5O0C
a) 6 Minuten,
b) 26 Minuten.
Der elektrische Durchgangswiderstand der vernetzten, sehr harten Filme beträgt nach DIN 53 482 2 · 10 Ω · cm, der Oberflächenwiderstand (gemessen an 40 μ dicken Filmen auf Polyäthylenunterlage) ist > 5 · ΙΟ16 Ω, die DK liegt nach DIN 53 483 (gemessen bei IG3 Hz) bei 2,9.
Beispiel 3
50 Gewichtsteile eines handelsüblichen Diallyiphthalatpräpolymeren, 0,5 Gewichtsteile N-o-Tolylmalein-
Löslichkeitsverhalten
(Messung erfolgte 5 Minutennach beendeter Belichtung)
Lösungsmittel: Benzol.
Stabilität nach Belichtungszeit:
5 Minuten 12 Minuten,
10 Minuten 24 Minuten.
Beispiel 5
50 Gewichtsteile eines handelsüblichen Diallyiphthalatpräpolymeren (im Handel erhältlich unter dem Namen Dapon 35) und 3,75 Gewichtsteile N-o-Tolylmaleinimid wurden in Chloroform gelöst und, wie beschrieben zu 12 μ starken Filmen verarbeitet.
Löslichkeitsverhalten
(Messung erfolgte 5 Minuten nach beendeter Belichtung)
Lösungsmittel: Benzol.
Stabilität nach Belichtungszeit:
20 Minuten 2,5 Minuten.
Beispiel 6
50 Gewichtsteile eines Diallyiphthalatpräpolymeren, 0,5 Gewichtsteile Ν,Ν'-ρ,ρ'-Diphenylmethan-bis-maleinimid und 0,5 Gewichtsteile Michlers Keton wurden in Chloroform gelöst und — wie beschrieben — zu 15 μ starken Filmen verarbeitet.
7 8
Löslichkeitsverhalten 50 Gewichtsteile des Allylesterharzes, 0,5 Gewichtsmessung erfolgte 5 Minuten nach beendeter Belichtung) teile Maleinanil und 0,5 Gewichtsteile Michlers Keton
wurden in Chloroform gelöst und, wie beschrieben, zu
Lösungsmittel: Benzol. 15 μ starken Filmen verarbeitet.
Stabilität nach Belichtungszeit: 5
5 Minuten 5 Minuten, Löslichkeitsverhalten
10 Minuten 9 Minuten. (Messung erfolgte 5 Minuten nach beendeter Belichtung)
Beispiel 7 Lösungsmittel: Xylol.
50 Gewichtsteile eines handelsüblichen Diallylphtha- 10 Stabilität nach Belichtungszeit:
latpräpolymeren, 3,75 Gewichtsteile N-Cyclohexylma- 5 Minuten 4 Minuten,
leinimid und 0,5 Gewichtsteile Michlers Keton wurden 10 Minuten 20 Minuten.
in Chloroform gelöst und — wie beschrieben — zu 15 μ , , ,
starken Filmen verarbeitet. Beispiel Il
15 50 Gewichtsteile Allylesterharz, dargestellt gemäß
Löslichkeitsverhalten Beispiel 10, 3,75 Gewichtsteile Maleinanil und 0,54 Ge-
(Messungerfolgte5MinutennachbeendeterBelichtung) wichtsteile Michlers Keton wurden in Chloroform gelöst und, wie beschrieben, zu 15 μ starken Filmen verLösungsmittel: Benzol. arbeitet.
Stabilität nach Belichtungszeit: 30
< Λ/fj^..f»^ ο ς \/f;niiton Löslichkeitsverhalten
5 Minuten i-, j Minuten, ... » 1 **·»*· \-\- j η ·· 1 \
10 Minuten 8,5 Minuten. (Messung erfolgte 5 Minuten nach beendeter Belichtung)
Beispiel 8 Lösungsmittel: Xylol.
_. „ ,. . . . „ . Stabilität nach Belichtungszeit:
50 Gewichtsteile Diallyhsophthalatprapolymeres, as °
3,75 Gewichtsteile N-o-Tolylmaleinimid und 0,5 Ge- .J ™nu en 3,5 Minuten,
wichtsteile 2-tert.-Butyl-9,10-anthrachinon wurden in 10 Minuten >20 Minuten.
Toiuoi gelöst, und — wie beschrieben — zu 11 μ Die Bruttosauerstoffaufnahme der vernetzten Filme
starken Filmen verarbeitet. bei 1000C in reinem O2 war während 1000 Stunden
30 gleich Null; die Filme sind also außerordentlich oxy-
Löslichkeitsverhalten dationsstabil. Verglichen mit den in den Beispielen 1
(Messung erfolgte 5Minutennach beendeter Belichtung) bis 7 angeführten Systemen auf der Basis von Diallyl-
phthalatpräpolymeren sind sie ebenfalls kratzfest, je-
Lösungsmittel: Xylol. doch wesentlich elastischer. Der elektrische DurchStabilität nach Belichtungszeit: 35 gangswiderstand beträgt nach DIN 53 482 3 · 1014Q-
5 Minuten >45 Minuten, cm, der Oberflächenwiderstand (gemessen an 60 μ
10 Minuten >45 Minuten. dicken Filmen auf Polyäthylenunterlage) ist > 1014O,
_ . . . „ die DK liegt nach DIN 53 483 (gemessen bei 103 Hz)
Be1Sp.el 9 ^30
50 Gewichtsteile Allylmethacrylatpräpolymeres, 40 B e i s ρ i e 1 12
3,75 Gewichtsteile N-o-Tolylmaleinimid und 0,5 Gewichtsteile Michlers Keton wurden in Chloroform Gemäß Beispiel 10 wurde Hexahydrophthalsäuregelöst und — wie beschrieben — zu 15 μ starken FiI- monoallylester mit Bisphenol-A-bisglycidyläther ummen verarbeitet. gesetzt, mit dem gleichen Volumen absol. Toluol ver-Löslichkeitsverhalten 45 dunnt und mit 90°/<i der dem Säureverbrauch entspre-(MessungerfolgteSMinutennachbeendeterBelichtung) chenden^Menge Diphenylmethan-4 4'-dnsocyanat ver-Vi!«» β & 01 setzt, 100 Minuten auf 115 C erhitzt und entsprechend Lösungsmittel: Cyclohexan. dem Isocyanatrestgehalt die Reaktion mit Dibutyl-Stabiütät nach Belichtungszeit: amjn abgestoppt, das Polymethanharz in Methanol aus-
5 Minuten 5 Minuten, so gefällt und umgefällt 50 Gewichtsteile Allylester-
10 Minuten 16 Minuten. gruppen-haltiges Polyurethanharz, 3,75 Gewichtsteik
. ·Ιιη N-o-Tolylmaleinimid und 0,5 Gewichtsteile Michlen
Beispiel IU Keton wurden in Chloroform gelöst und, wie beschrie Hexahydrophtbalsäuremonoallylester und ein drei- ben, zu 15 μ starken Filmen verarbeitet
prozentiger Überschuß Bisphenol-A-bisglycidyläther 55 τ RciirMr«·*™«-!,«.!»«.
wurden in Gegenwart von 1,25% p,p'-Bis(dimethyl- ,__ rf ,.^ ! f ϊί , ,«,·,,,
S)-diphenylmethan 4Tage bei 12O0C und an- (MessungerfolgteSMinutennachbeendeterBehchtung
schließend 1 Tag bei 2000C umgesetzt. Der Säurever- Lösungsmittel: Toluol,
brauch war ein Maß für die Anzahl gebildeter Hydro- Stabilität nach Belichtungszeit:
xylfunktionen. 70% der diersm Verbrauch äquivalen- 60 5 Minuten 5 Minuten,
ten Menge Terephthalsäuredichlorid vairde in Form 10 Minuten 25 Minuten.
einer gesättigten ToluoUösung zu einer ToluoUösung
des Diol-Additionsprodukts (4:1) getropft, die einen Die vernetzten Filme sind kratzfest und—vergliche;
5%igen Überschuß Pyridin (bezogen auf das Säure- mit den in den Beispielen 10 und 11 angeführte:
chlorid) enthielt. Die Lösung wurde über Nacht bei 65 Systemen — noch elastischer. Der elektrische Durcl·
RT, dann 1 Stunde bei 700C umgesetzt, abfiltriert und gangswiderstand beträgt nach DIN 53482 4 · 10 Ω
das Harz in einer Mischung Methanol/Wasser (85:15) cm, der Obernächeüwidersianu (gemessen an 40
ausgefällt und in reinem Methanol umgefüllt dicken Filmen auf Polyäthylenunterlage) ist > S
ΙΟ15 Ω, die DK liegt nach DIN 53 483 (gemessen bei 103 Hz) bei 3,3.
Die vorstehenden Beispiele zeigen, daß N-Maleinimid-haltige Verbindungen durch photoinitierte Copolymerisation mit Allylestergruppen-haltigen Prä-
polymeren schnell vernetzende Isolierstoffschichtei liefern, die sich durch Oxydationsstabilität und gute Isoliervermögen auszeichnen.
Auf dieser Basis erhaltene Photonegativkopien sim rasch kantenscha.f durch Lösungsmittel ätzbar.

Claims (4)

1 2 3 376138 und der südafrikanischen Patentschrift Patentansprüche: 05 209. Den beschriebenen photovernetzbaren Harzen ist
1. Homogene lichtvernetzbare Schichten liefernde der Nachteil gemeinsam, daß höchstens etwa 1 bis 5 μ Gerrp-:he, enthaltend eine Allylestergruppen-hal- 5 dicke Schichten ausreichende Lichtempfindlichkeit auftige, bei Raumtemperatur feste Harzkomponente weisen, in wesentlich größerer Schichtdicke die Licht- und gegebenenfalls Photosensibilisatoren, d a- empfindlichkeit ader zu wünschen übrigläßt. Überdies durch gekennzeichnet, daß die Ge- erfordern die Epoxidharzpolycinnamate besonders mische N-Maleinimide mit einer oder mehreren sorgfältige Lagerung und den Zusatz von Polymeri-N-Maleinimidgruppen enthalten, wobei das Ver- io sationsinhibitoren, wenn konstanteVerarbeitungseigenhältnis der Allyldoppelbindungsäquivalente zu den schäften über einen längeren Zeitraum gewährleistet Maleinimiddoppelbindungsäquivalenten S: 1, vor- sein sollen, die Allylesterharze meist einen hohen Senzugsweise 1,5 bis 30, ist. sibilisatoranteil.
2. Lichtvernetzbare Schichten liefernde Ge- Es sind auch photosensibilisierbare Massen auf der mische nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, 15 Grundlage inerter organischer Trägerpolymerer und daß sie ein Diallylphthalatpräpolymeres als Allyl- monomerer Acrylsäure- bzw. Methacrylsäurederivate ester-haltige Komponente enthalten. bekannt, beis .'lsweise aus der deutschen Auslege-
3. Lichtvernetzbare Schichten liefernde Ge- schrift 1 295 1 2, die auch in dickeren Schichten ausmische nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, reichende Lichtempfindlichkeit besitzen. Sie erfordern daß sie als N-Maleinimide in o-Stellung alkylsub- 20 ebenfalls den Zusatz von Polymerisationsinhibitoren, stituierte N-Aryl- und/oder Ν,Ν'-Aryleii-bis-ma- Außerdem ist von den meist klebrigen photopolymerileinimide wie z. B. N-o-Tolylmaleinimid, N,N'- sierbaren Schichten Sauerstoff mittels Spezialeinricho-Tolidin-bis-maleinimid enthalten. tung oder durch Zusätze, wie z. B. Zinnsalze, fern-
4. Anwendung des lichtempfindlichen Gemisches zuhalten, damit die ursprüngliche L lichtempfindlichkeit nach Anspruch 1 zu photographischen Wieder- 25 erhalten bleibt. Ihre praktische Verwendung beschränkt gaben, bei der das Gemisch in einem indifferenten sich vielfach infolge Versprödung der vernetzten organischen Lösungsmittel gelöst auf einen Schicht- Schichten beim Altern auf die obenerwähnte interträger, z. B. eine Folie, aufgetragen und gegebenen- mediäre Schutzfunktion.
falls bildmäßig durch eine Kopiervorlage belichtet Aufgabe der Erfindung ist, bei Verwendung allyl-
v/ird, dadurch gekennzeichnet, daß die nach Be- 30 estergruppenhaltiger, bei Raumtemperatur fester Harzlichtung zu weiterer Vernetzung führende Dunkel- komponenten die angeführten Mangel /u vermeiden reaktion, die durch Tempern beschleunigt werden und auf einfachem Wege photoempfindliche Isolierkan'i, zur Kürzung der erforderlichen Belichtungs- schichten hoher Sensibilität zu erstellen, deren verzeit ausgenutzt wird. netzte Teile gute Isoliereigenschaften aufweisen.
35 Gegenstand der Erfindung bind homogene lichtvemetzbare Schichten liefernde Gemische, enthaltend
eine Allylestergruppen-haltige, bei Raumtemperatur
feste Harzkomponente und gegebenenfalls Photosensibilisatoren, die dadurch gekennzeichnet sind, daß sie 40 N-Maleinimide mit einer oder mehreren N-Maiein-
Die Erfindung betrifft homogene lichtvernetzbare imidgruppen enthalten, wobei das Verhältnis der AlIyI-Schichten liefernde Gemische, die eine Allylestergrup- doppelbindungsäquivalente zu den Maleinimiddoppelpen-haltige, bei Raumtemperatur feste Harzkompo- bindungsäquivalenten S 1, vorzugsweise 1,5 bis 30, ist. nente und gegebenenfalls Photosensibilisatoren ent- Von den Photosensibilisatoren wird vorzugsweise ein halten sowie deren Anwendung zu photographischen 45 Zusatz ;£ 1 Gewichtsprozent, bezogen auf das Ce-Wiedergaben. misch, verwendet. Die erfindungsgemäßen Gemische
Es sind bereits Photonegativlacke, d.h. photover- zeigen auch in Schichten > 10 μ eine hohe Vernetzungsnetzende Lacke auf Basis von Polycinnamaten des geschwindigkeit, ihre Komponenten besitzen eine hohe Polyvinylalkohol bekannt. Ihre Anwendung ist auf Lagerstabilität. Die erfindungsgemäß verwendeten Verfahren beschränkt, bei denen die vernetzte Schicht 50 N-Maleinimide wirken gleichzeitig als copolymerisanur eine intermediäre Schutzfunktion erfüllt und an- tionsfähige Komponente und als Photoinitiator,
schließend wieder vollständig entfernt wird. Durch die Verwendung einer erfindungsgemäßen
Es sind auch bereits lichtempfindliche Massen auf Mischung, die gleichzeitig Komponenten mit Allylder Basis von Harzen mit Allylestergruppen bekannt. ester- und Maleinimidgruppen enthält, wird bei Be-Gemäß der deutschen Auslegeschrift 1 814 572 können 55 lichtung eine sehr rasche Copolymerisation und damit mit Hilfe von Photoinitiatoren und Photosensibilisa- eine rasche Vernetzung erreicht. Allylester- und Matoren vernetzbare Allylesterharze zur Herstellung litho- leinimidgruppen reagieren dagegen für sich allein bei graphischer Druckplatten verwendet werden. Weiter- vergleichbaren Bedingungen nur langsam unter Verhin ist aus der deutschen Auslegeschrift 1 963 731 be- netzung.
kannt, daß gewisse Bismaleinimide photocyclomeri- 60 Die durch Einwirkung von aktinischem Licht erhal· siert werden können. tenen photovernetzten Überzüge oder durch Lösungs·
Besonderen Anforderungen wie z. B. Alterungs- mittelätzung konturenscharf freilegbaren vernetzter beständigkeit, erhöhte chemischeWiderstandsfähigkeit, Photonegativkopien zeichnen sich insbesondere durcr geringe Schrumpfung genügen die photovernetzten gute Isoliereigenschaften aus.
Lackschichten von Epoxidharzpolycinnamaten gemäß 65 Gemäß der Erfindung durch Verwendung von Ge der deutschen Patentschrift 1 104 339 und der deut- mischen mit N-Maleinimiden hergestellte 15 μ starki sehen Auslegeschrift 1 108 078 sowie von Allylester- Filme waren nach 5- oder lOminutigen Belichtungs harzen gemäß den USA.-Patentschriften 3 462 267 und zeiten in bezug auf vernetzungsbedingte Beständigkei
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2939989A1 (de) * 1978-10-02 1980-04-03 Asahi Chemical Ind Lichtempfindliches gemisch

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3905820A (en) * 1972-01-27 1975-09-16 Hoechst Ag Light sensitive copolymers, a process for their manufacture and copying compositions containing them
JPS5337902B2 (de) * 1973-09-04 1978-10-12
DE2457882B2 (de) * 1974-12-06 1977-06-02 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Waermebestaendige, lichtvernetzbare massen
US4035321A (en) * 1975-03-24 1977-07-12 Celanese Corporation Preparation of ultraviolet curable acrylated polymers
GB1575653A (en) * 1977-06-01 1980-09-24 Ciba Geigy Ag Reinforced composites
US4615968A (en) * 1982-11-04 1986-10-07 Ciba-Geigy Corporation Compositions of matter which crosslink under the action of light in the presence of sensitizers

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2939989A1 (de) * 1978-10-02 1980-04-03 Asahi Chemical Ind Lichtempfindliches gemisch

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