DE2126625A1 - Korpuskularstrahlgerät, insbesondere Elektronenmikroskop - Google Patents

Korpuskularstrahlgerät, insbesondere Elektronenmikroskop

Info

Publication number
DE2126625A1
DE2126625A1 DE19712126625 DE2126625A DE2126625A1 DE 2126625 A1 DE2126625 A1 DE 2126625A1 DE 19712126625 DE19712126625 DE 19712126625 DE 2126625 A DE2126625 A DE 2126625A DE 2126625 A1 DE2126625 A1 DE 2126625A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
object table
corpuscular beam
beam device
displacement
bridge
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE19712126625
Other languages
English (en)
Inventor
Hans-Joachim; Anger Klaus Dipl.-Ing.; 1000 Berlin Kempin
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens AG
Original Assignee
Siemens AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens AG filed Critical Siemens AG
Priority to DE19712126625 priority Critical patent/DE2126625A1/de
Publication of DE2126625A1 publication Critical patent/DE2126625A1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/20Means for supporting or positioning the objects or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Sampling And Sample Adjustment (AREA)

Description

  • Korpuskularstrahlgerät. insbesondere Elektronenmikroskop Bei Korpuskularstrahlgeräten, beispielsweise Elektronenmikroskopen, ist es üblich, einen Präparatträger aufnehmenden Objekttisch vorzusehen, der für die Untersuchung der Präparate transversal verschiebbar ist. Am Objekttisch greift hierfür eine Verstellvorrichtung an, die die Verschiebung des Objekttisches bewirkt. Der Objekttisch nimmt in seinem vom Korpuskularstrahl durchsetzten Zentrum einen Präparatträger auf, der gemeinsam mit dem Objekttisch verstellbar ist, so daß der gesamte Präparatbereich abgetastet werden kann.
  • Fur verschiedene Untersuchungen der Präparate sind hohe oder tiefe Präparattemperaturen im Bereich von z. B. + 1000 0C bis 0 - 250 C erwünscht. Mit dem Präparatträger werden deshalb Heiz- und Kühlvorrichtungen verbunden, die eine Beheizung oder Kühlung des Präparates ermöglichen. Dabei ergeben sich wegen der mechanischen Kopplung zwischen dem Präparatträger, dem Objekttisch und den zugehörigen Teilen des Korpuskularstrahlgerätes Wärmeübergänge, die zu einer Objektdrift mit häufig unerwünscht langen Einlaufzeiten führen.
  • Die Erfindung bezieht sich auf ein Korpuskularstrahlgerät, insbesondere Elektronenmikroskop, mit einem Objekttisch, der in seinem vom Korpuskularstrahl durchsetzten Zentrum heiz-oder kühlbare Präparatträger aufnimmt und quer zur Achse des Korpuskularstrahls verschiebbar ist, und mit einer die Verschiebung des Objekttisches bewirkenden, am Objekttisch angreifenden Verstellvorrichtung. Um beim Auineizen bzw. Abkühlen des Präparatträgers die Objektdrift zu verringern, ist erfindungsgemäß der Angriffspunkt der Verstellvorrichtung am Objekttisch gegenüber dessen Zentrum in Verschiebungsrichtung versetzt angeordnet. Die Versetzung des Angriffspunktes ist nach der Erfindung so gewählt, daß sich durch Wärmedehnungen bedingte Längenänderungen der Verstellvorrichtung und des Objekttisches in der Verschiebungsrichtung, bezogen auf das Obj ekttischzentrum, kompensieren.
  • Der sich zwischen dem Objekttisch und der Verstellvorrichtung ausbildende Wärme fluß übt durch die mit der Erfindung erzielte Kompensatio-n nur noch einen geringen Drifteinfluß aus.
  • Bei einem ersten Ausführungsbeispiel nach der Erfindung ist mit dem Objekttisch eine längs der Verschiebungsrichtung angeordnete Brücke starr verbunden, deren eines freies Ende mit der Verstellvorrichtung gekoppelt ist, wobei der starre Verbindungspunkt der Brücke mit dem Objekttisch den Angriffspunkt bildet. Bei vorgegebener Exzentrizität des Angriffspunktes sind bevorzugt die Materialien der Brücke und des Objekttisches so gewählt, daß sich durch Wärmedehnungen bedingte Längenänderungen der Brücke und des Objekttisches kompensieren. Als Material ist bevorzugt für den Objekttisch Messing und für die Brücke Titan verwendet.
  • Bei einem zweiten Ausführungsbeispiel nach der Erfindung weist die Verstellvorrichtung ein mit dem Objekttisch in Kontakt stehendes Teil auf, das aus einem Material mit geringer thermischer Leitfähigkeit besteht. Dabei ist das mit dem Objekttisch in Kontakt stehende Teil beispielsweise ein Stößel.
  • Dieser Stößel kann vorteilhaft wenigstens teilweise aus Quarzglas bestehen. Damit ergibt sich vorteilhaft eine Möglichkeit, den Wärmefluß zwischen dem Objek-ttisch und der Verstellvorrichtung zu verringern. Die vom Präparat erwünschten Endtemperaturen werden daher mit weitaus geringeren Drifterscheinungen erreicht. Der unvermeidbare Re stwärme fluß durch das mit dem Objekttisch in Kontakt stehende Teil führt wegen der Längenkompensation zu nur geringen Positionsänderungen der Präparate in bezug auf den Korpuskularstrahl.
  • Sofern bei diesem Ausführungsbeispiel der Objekttisch aus Messing aufgebaut ist, kann das mit dem Objekttisch in Kontakt stehende Teil wenigstens teilweise aus Titan bestehen.
  • Anhand der Zeichnung sind zwei Ausführungsbeispiele nach der Erfindung beschrieben.
  • Die Fig. 1 zeigt in schematischer Darstellung den Querschnitt durch ein Elektronenmikroskop mit einer Draufsicht auf den Objekttisch.
  • In Fig. 2 ist in einer der Fig. 1 ähnlichen Darstellung ein zweites Ausführungsbeispiel der Erfindung schematisch gezeichnet.
  • Das in Fig. 1 dargestellte Elektronenmikroskop weist ein zylindrisches Gehäuse 1 auf, dessen Innenraum 2 an eine nicht weiter dargestellte Pumpe angeschlossen ist. Der Innenraum 2 nimmt einen Objekttisch 3 auf, der innerhalb des Gehäuses 1 in Pfeilrichtung 4, 5 verstellbar ist. Der Objekttisch 3 weist in seinem vom Korpuskularstrahl durchsetzten Zentrum eine konische Bohrung 6 auf, die zur Aufnahme von heiz- oder kühlbaren Präparatträgern bestimmt ist.
  • Mit dem Objekttisch 3 ist eine die Randkontur 7 des Objekttisches 3 übergreifende Brücke 8 starr verbunden, deren eines freies Ende 8a sich an einer gehäusefesten Gegenfederanordnung 9 abstützt und deren anderes freies Ende 8b mit einem Verstellantrieb 10 zusammenwirkt.
  • Bei einem Verstellen des Verstellantriebes 10 in Pfeilrichtung 11 wird der Objekttisch 3 von der Brücke 8 in Pfeilrichtung 4 bewegt. Die beiden freien Enden 8a, 8b der Brücke 8 sind in einem den Objekttisch 3 umgebenden Rahmenteil 12 verschiebbar geführt. Der Rahmenteil 12 weist Zapfen 13, 14 auf, die in gehäusefesten Rollen 15 verschiebbar laufen. Der Zapfen 13 wirkt mit einem Verstellantrieb 16 zusammen, während sich der Zapfen 14 an einer Gegenfederanordnung 17 abstützt.
  • Bei einer Bewegung des Verstellantriebes 16 in Pfeilrichtung 18 wird der Objekttisch 3 über den Rahmenteil 12 und die Brücke 8 in Pfeilrichtung 5 bewegt.
  • Die Brücke 8 ist im Punkt 19 mit dem Objekttisch 3 starr verbunden. Der Punkt 19, der den Angriffspunkt der Verstellvorrichtung 10 am Objekttisch 3 bildet, ist gegenüber dem Zentrum des Objekttisches 3 derart in Verschiebungsrichtung 4 versetzt angeordnet, daß sich durch Wärmedehnungen bedingte Längenänderungen der Verstellvorrichtung 8, 10 (L1) und des Objekttisches 3 (L2) in der Verschiebungsrichtung 4, bezogen auf das Objekttischzentrum, kompensieren. Der Objekttisch 3 besteht im dargestellten Ausführungsbeispiel aus Messing, während die Brücke 8 aus Titan gefertigt ist. Bei einer Erwärmung oder Abkühlung des in der Bohrung 6 angeordneten Präparatträgers werden die Wärmedehnungen des Objekttisches 3 und der Brücke 8 kompensiert, dadurch, daß sich die Längenänderungen der Längen L1 und L2 gegenseitig aufheben.
  • Im dargestellten Ausführungsbeispiel ist eine Kompensation der Längenänderungen zwischen Verstellvorrichtung und Objekttisch nur in Verschiebungsrichtung 4 vorgenommen. In Verschiebungsrichtung 5 ist eine Kompensation nicht erforderlich, weil der Angriffspunkt der Verstellvorrichtung 16 durch eine Linie durch das Objekttischzentrum führt.
  • Bei dem in Fig. 2 dargestellten Ausführungsbeispiel, bei dem gleiche Teile mit gleichen Bezugszeichen versehen sind, weist der Objekttisch 3 an seinem Umfang zwei Betätigungsflächen 20 auf, die mit Teilen 21, 22 der Verstellvorrichtungen 23, 24 in Kontakt stehen. Die mit dem Objekttisch 3 in Kontakt stehenden Teile 21, 22 sind als Stößel ausgebildet und bestehen auf ihrer dem Objekttisch 3 zugewandten Seite aus Titan sowie auf ihrer der Verstellvorrichtung 23 bzw. 24 zugewandten Seite aus Quarzglas. Es ist aber auch möglich, die Stößel 21, 22 aus keramischem Material aufzubauen. Außerdem sind Titan-Vanadium-Chrom-Legierungen oder auch Wolfram mit Vorteil verwendbar.
  • Der Objekttisch 3 ist im Lager 25 geführt und von einer Gegenfederanordnung 26 belastet. Um den Objekttisch 3 in Pfeilrichtung 30 auszulenken, muß der Verstellantrieb 24 in Pfeilrichtung 27 bewegt werden. Zu einer Verstellung des Objekttisches in Pfeilrichtung 29 wird der Verstellantrieb 23 in Pfeilrichtung 28 bewegt. Die mit dem Objekttisch 3 in Kontakt stehenden Teile 21, 22 sind über Zwischenglieder 31, 32 betätigt, die an Blattfedern 33, 34 befestigt sind. Die Blattfedern 33, 34 bilden reibungsfreie Winkelhebel und sind mit dem Gehäuse 1 starr verbunden.
  • Wie aus Fig. 2 entnehmbar, sind die Betätigungsflächen 20 des Objekttisches 3 als Angriffspunkte der Verstellvorrichtung gegenüber dem Objekttischzentrum derart in Verschiebungsrichtung (Achse der Stößel 21, 22) versetzt angeordnet, daß sich die durch Wärmedehnungen bedingten Längenänderungen L1 und L2 der Verstellvorrichtung 21, 22 und des Objekttisches 3 in der Verschiebungsrichtung, bezogen auf das Objekttischzentrum, kompensieren. Bei dem in Fig. 2 dargestellten Ausführungsbeispiel sind die sich bei Erwärmung bzw. Abkühlung des in der Bohrung 6 angeordneten Präparatträgers ergebenden Längenänderungen in beiden Verstellrichtungen 29, 30 kompensiert.
  • Die mit zwei Beispielen für Elektronenmikroskope beschriebene Erfindung ist mit Vorteil auch bei anderen Korpuskularstrahlgeräten, wie z. B. Beugungsgeräten, lonenmikroskopen od. dgl.
  • verwendbar.
  • 7 Ansprüche 2 Figuren

Claims (7)

  1. Patentansrüche u Korpuskularstrahlgerät, insbesondere Elektronenmikroskop, mit einem Objekttisch, der in seinem vom Korpuskularstrahl durchsetzten Zentrum heiz- oder kühlbare Präparatträger aufnimmt und quer zur Achse des Korpuskularstrahls verschiebbar ist, und mit einer die Verschiebung des Objekttisches bewirkenden, am Objekttisch angreifenden Verstellvorrichtung, dadurch gekennzeichnet, daß der Angriffspurdit der Verstellvorrichtung am Objekttisch gegenüber dessen Zentrum derart in Verschiebungsrichtung versetzt angeordnet ist, daß sich durch Wärmedehnungen bedingte Längenänderungen der Verstellvorrichtung und des Objekttisches in der Verschiebungsrichtung, bezogen auf das Objekttischzentrum, kompensieren.
  2. 2. Korpuskularstrahlgerät nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß mit dem Objekttisch eine längs der Verschiebungsrichtung angeordnete Brücke starr verbunden ist, deren eines freies Ende mit der Verstellvorrichtung gekoppelt ist, wobei der starre Verbindungspunkt der Brücke mit dem Objekttisch den Angriffspunkt bildet.
  3. 3. Korpuskularstrahlgerät nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß als Material für den Objekttisch Messing und für die Brücke Titan verwendet ist.
  4. 4. Korpuskularstrahlgerät nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Verstellvorrichtung ein mit dem Objekttisch in Kontakt stehendes Teil aus einem Material mit geringer thermischer Leitfähigkeit aufweist.
  5. 5 Korpuskularstrahlgerät nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß das mit dem Objekttisch in Kontakt stehende Teil ein Stößel ist.
  6. 6. Korpuskularstrahlgerät nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, daß das mit dem Objekttisch in Kontakt stehende Teil wenigstens teilweise aus Quarzglas besteht.
  7. 7. Korpuskularstrahlgerät nach einem der Ansprüche 4 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß das mit dem Objekttisch aus Messing in Kontakt stehende Teil wenigstens teilweise aus Titan besteht.
DE19712126625 1971-05-25 1971-05-25 Korpuskularstrahlgerät, insbesondere Elektronenmikroskop Pending DE2126625A1 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19712126625 DE2126625A1 (de) 1971-05-25 1971-05-25 Korpuskularstrahlgerät, insbesondere Elektronenmikroskop

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19712126625 DE2126625A1 (de) 1971-05-25 1971-05-25 Korpuskularstrahlgerät, insbesondere Elektronenmikroskop

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE2126625A1 true DE2126625A1 (de) 1972-12-07

Family

ID=5809234

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19712126625 Pending DE2126625A1 (de) 1971-05-25 1971-05-25 Korpuskularstrahlgerät, insbesondere Elektronenmikroskop

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE2126625A1 (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0538861A1 (de) * 1991-10-24 1993-04-28 Hitachi, Ltd. Probenhalter für Elektrodenmikroskop
NL1020936C2 (nl) * 2002-06-25 2003-12-30 Univ Delft Tech Preparaathouder voor een elektronenmicroscoop, samenstel van een preparaathouder en een elektronenmicroscoop en werkwijze voor het reduceren van thermische drift in een elektronenmicroscoop.

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0538861A1 (de) * 1991-10-24 1993-04-28 Hitachi, Ltd. Probenhalter für Elektrodenmikroskop
US5367171A (en) * 1991-10-24 1994-11-22 Hitachi, Ltd. Electron microscope specimen holder
NL1020936C2 (nl) * 2002-06-25 2003-12-30 Univ Delft Tech Preparaathouder voor een elektronenmicroscoop, samenstel van een preparaathouder en een elektronenmicroscoop en werkwijze voor het reduceren van thermische drift in een elektronenmicroscoop.
WO2004023514A1 (en) * 2002-06-25 2004-03-18 Technische Universiteit Delft Specimen holder for an electron microscope, and method for reducing thermal drift in a microscope

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2362249C3 (de) Probenhalterung mit Heizeinrichtung für ein Elektronenmikroskop
EP0213067B1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Zentrieren des Kerns einer Lichtleitfaser in einem Lichtleiterendstück
DE2739828C2 (de) Einrichtung zur Analyse von Proben
DE102007030579B4 (de) Lateral verstellbare Fassung für optische Elemente
DE2739587C2 (de) Einhand-Mischventil
DE4033151A1 (de) Zweiaeugiges fernglas mit zwei optischen fernrohrsystemen
DE2126625A1 (de) Korpuskularstrahlgerät, insbesondere Elektronenmikroskop
DE3234618C2 (de) Hebelgetriebe
EP1548483B1 (de) Mikroskopobjektiv mit axial verstellbaren Korrekturfassungen
DE1165700C2 (de) Verfahren zum Herstellen von Bauelementen oder Baugruppen
DE2232709A1 (de) Betaetigungs- oder kraftverstaerkungseinrichtung
EP1941559B1 (de) Piezoelektrische bewegungseinrichtung
DE3026257C2 (de) Millimeterwellen-Zirkulator
DE2124200A1 (de) Korpuskularstrahlgerät, insbesondere Elektronenmikroskop
DE1639346B2 (de) Vorrichtung zum Verstellen des Objektes quer zur Strahlennchtung in einem Korpuskularstrahlengerat
EP0377253A2 (de) Atomisiereinrichtung aus hochschmelzendem Metall
DE19840422C2 (de) Vorrichtung zur Einspannung von Proben für Zug-/Druckprüfungen
EP1395859B1 (de) Laserjustierbarer Aktor, optisches Bauelement und Justierverfahren
DE2302158A1 (de) Verfahren zur herstellung einer sekundaeremissionskanalplatte mit gebogenen kanaelen
DE102016103413B4 (de) Spaltsystem
DE102021118783B3 (de) Antriebsvorrichtung
DE60304842T2 (de) Thermisch kompensierter piezoelektrischer Aufbau
DE1226338B (de) Proben-Heizvorrichtung, insbesondere fuer Elektronenmikroskope
DE966493C (de) Feinbewegung fuer Elektronenmikroskope zur Verschiebung des Objekts
DE1447344C (de) Mechanismus zur Verstellung eines Ob jekttragers um geringe Strecken in einer vorgegebenen Verstellnchtung

Legal Events

Date Code Title Description
OHA Expiration of time for request for examination