DE2113553C3 - Verfahren zur Herstellung eine Leiterbildes - Google Patents
Verfahren zur Herstellung eine LeiterbildesInfo
- Publication number
- DE2113553C3 DE2113553C3 DE19712113553 DE2113553A DE2113553C3 DE 2113553 C3 DE2113553 C3 DE 2113553C3 DE 19712113553 DE19712113553 DE 19712113553 DE 2113553 A DE2113553 A DE 2113553A DE 2113553 C3 DE2113553 C3 DE 2113553C3
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- film
- image
- conductor
- program
- grid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0002—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits for manufacturing artworks for printed circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/09—Shape and layout
- H05K2201/09818—Shape or layout details not covered by a single group of H05K2201/09009 - H05K2201/09809
- H05K2201/09936—Marks, inscriptions, etc. for information
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/05—Patterning and lithography; Masks; Details of resist
- H05K2203/0548—Masks
- H05K2203/056—Using an artwork, i.e. a photomask for exposing photosensitive layers
Description
Im Hauptpytent L li36 775 ist ein Verfahren zur
Herstellung eines Leiterbildes v'orgeschlagen, bei welchem als Arbeitsunterlage für die Herstellung des
Leiterbildes ein Film verwendet wird, wobei eine Zeichnung für das Leiterbild hergestellt und diese
Zeichnung in ein numerisches Datenprogramm umgesetzt wird, welches eine für die Erstellung des
Leiterbildes vorgesehene Licwizeieheneinrichtung
steuert und zur Erstellung eines Einbettungsbildes für das Leiterbild das gleiche Da.enprogramm zur
Herstellung des Filmes tür das Leiterbild verwendet wird, und mit der durch dieses Programm gesteuerten
Lichtzeicheneinrichtung das Einbettungsbild hergestellt wird.
Nach dem vorstehend genannten Verfahren mittels eines Arbeitsfilmes hergestellte gedruckte Schaltungen
ergeben ein Einbeltungsbild mit metallisches. Flächen, die die Leiterzüge umgeben.
Die Erfindung hat sich zur Aufgabe gestellt, diese metallischen Flächen des Einbettungsbilries rasterförmig
auszubilden.
Diese Aufgabe wird erlindungsgemäß dadurch gelöst,
daß auf einen Zvvischenfilm oder den Arbeitsfilm ein Raster aufbelichtet wird.
Die Erfindung wird an Hand eines in der Zeichnung schematisch dargestellten Ausführungsbeispieles
näher erläutert.
Der als Arbeitsunterlage dienende Film wird in folgender Weise hergestellt.
Wie im Hauptpatent stellt die F i g. 1 einen ersten erstellten Film (positiv) mit dem gewünschten Leiterbild
dar. Dieses Leiterbild zeigt Leiterbahnen 1 bestimmter Breite, Lötaugen bzw. Bohrungen 2 mit
verschiedenen Durchmessern, Anschlüsse 3 und Begrenzungen 4. Das für die Herstellung des Filmes
nach der Fig. 1 verwendete Programm wird auch für die Flerstellung eines zweiten Filmes (positiv) nach
der F i g. 2 verwendet. Ebenfalls wie im Hauptpatent ist die Breite der Bahnen 1' der Durchmesser der Lötaugen
bzw. Bohrungen 2' und der Anschlüsse 3' größer gegenüber den Bahnen, Lötaugen bzw. Bohrungen
und Anschlüssen des Filmes nach der Fig. 1 gewählt. Die veränderte Breite auf dem Film nach
der Fig. 2 ist am Lichtzeichenkopf der verwendeten Lichtzeicheneinrichtung eingestellt.
Auf dem Film nach der F i g. 2 wird nunmehr cm
FiIm nach der Fig. 3 aufgelegt, welcher en; Raster
20 aulweist.
Win den zusammengefaßten Filmen nach der
i-ι g. 2 und .i wird ein Negativfilm nach der F i g. 4
aiiüelertigt. der /ur Herstellung der Einbettung der
Leiterbahnen. Lötaugen bzw. Bohrungen und Anschlüsse in die nunmehr gerasterten Mei-illtlachen
heranüe/i'gen wird.
ίο .Aus dem Leiierbildfilm nach der Fig. 1 und dem
N'cgatniilm nach der F i g. 4 wird der eigentliche
Arbeitslilm nach der F i g. 5 erstellt. Dies erfolgt so. daß die Filme nach den F i g. i und 4 ausgerichtet
"beieinander und au! einen dritten unbelichteten Film gelegt werden, welcher bei Belichtung und Entwicklung
das Bild nach der F" i g. 5 mit den gerasterten Einbetiunusflächcn ergibt.
Auf dem Arbeitsfilm nach der F i g. 5 sind die Leiterbahnen I" die Lötaugen bzw. Bohrungen 2"
und die Anschlüsse 3 nunmehr lichtdurchlässig und von dunklen Zügen 5 umrahmt, die den Abstand
Leiterbahn — Metallflüche ergeben. Alle lichtdurchlässigen, außerhalb der umrahmten Bahnen 1", Lötaugen 2" und Anschlüsse 3" liegenden Linien des
Wie im Flauptpalent kann der Arbeitsfilm nach
der F i g. 5 beispielsweise auf eine kupferkaschierte
Isolierstoffplatte mit etwa den Begrenzungen 4 aufgelegt werden, wobei auf die Kupferfolie ein liehtemp-
findlicher Lack (positiv arbeitender Fotoresist) aufgebracht ist. Bei Belichtung härtet der Lack auf den
Bahnen 1", den Lötaugen bzw. Bohrungen 2", den Anschlüssen 3" und den lichtdurchlässigen Linien
des Rasters 20 aus, während der durch die lichtun
durchlässigen Züge 5 und Karos 21 abgedeckte Lack
ungehärtet bleibt.
Die derart belichtete Leiterplatte wird in ein Entvvicklungsbad gegeben, durch das der nichtausgehärlete Lack entfernt wird, so daß entlang den Zügen 5
'uid an den Karos 21 das Kupfer freigelegt ist. Danach erfolgt eine Behandlung der Leiterplatte in
einem Ätzbad, wobei die allein frei liegenden Kupferzüge 5 und die Karos 21 weggeätzt werden.
gerasterten Metallflächen umgebenen Leiterbahnen, Lötaugen und Anschlüssen der Leiterplatte. Die
schwarzen Bahnen und die senkrecht aufeinanderstellenden, miteinander verbundenen Linien stellen das
stehengebliebene Metall dar, während die weißen
Die Form des Rasterfilmes 3 kann beliebig gewählt werden. So kann der Abstand der Rasterlinien zweckentsprechend gewählt werden, gegebenenfalls wird
man den Film nach der F i g. 2 auch nur teilweise mit dem Rasterfilm nach der Fig. 3 abdecken. Es können so beliebige Teile der gedruckten Schaltung mit
einem Metallrastcr versehen werden.
Fin weiterer Vorteil besteht darin, daß in einfacher Weise mit dem abschirmenden Metallnetz 20
verbundene Leiterzüge hergestellt werden können. Sind derartige Leiterzüge erwünscht, so sind diese
nur auf dem Film nach der Fig. 1 vorzusehen, jedoch nicht auf dem Film nach der F i g. 2.
Die Erstellung des Arbeitsfihnes nach der Fig. 5
braucht nicht unbedingt unter Hersteilung mehrerer Vorfilme zu erfolgen.
Als Filmmaterial ist beispielsweise ein solches verwendbar,
welches bei Belichtung mit gelbem Licht
bei der Faltwicklung blank und bei Belichtung mit
weißen Licht geschwärzt wird und das ohne Belichtung bei Entwicklung ebenfalls geschwärzt wird
(Autopositive Material).
Auf den unbelichteten Film wird ein Film mit einem Raster (entsprechend F i g. 3) aufgelegt, und es
erfolgt eine belichtung mit Gelblicht.
Der derart vorbelichtete Film wird danach /ur Herstellung des Einbettungsbildes für das Leiterbild
entsprechend dem vorliegenden Programm vom dieses Programm abfahrenden Lichtzeichenkopl der
Lichtzeieheneinrichtung mit Weißlicht belichtet. Danach fährt der Lichtzeichenkopf mit GulbHcht entsprechend
dem vorliegenden Programm das Leiterbild ab. so daß bei der danach erfolgenden Entwicklung
des Filmes dieses Leiterbild entsprechend der F i g. 5 als blanke Leiterzüge 1". Lotaugen b/.w. Bohrungen
2". Anschlüsse 3" innerhalb der schwarzen /iige 5 liegen, an die sich die die gerasterte Metall-
- lache ergebenden --chwarzen Karos 21 anschließen.
Hierzu 2 Blatt Zeichnunpen
Claims (1)
- Patentanspruch:Verfahren /ur Herstellung circs l.eitcrhiktcs. hei welchem ;iK Arheitsuntcrlage für die Herstellung des l.eilerbildcs ein Film verwendet wird, wobei eine Zeichnung l'iir das L.eiicrbild hergesielll und diese Zeichnung in ein numerisches Djtenproiiramm umgesetzt wird, wolches eine lür die lirsielluniz des I .eiterbildes ungesehene Lichtzeicheneinrichtimg steuert und /ur Erstellung eines Einbetiungshildcs tür das Leiterbild das gleiche Datenprogramm /ur Herstellung des Filmes für das Leiurbild verwendet wird und mit der durch dieses Programm gesteuerten Lichtzeichencinrichtung das Einbettungsbild hergestellt wird nach Patent 1 '.'3Ci 775. dadurch gekennzeichnet, daß auf einen Zwischenfilm oder den Atontslilm ein Raster aufbelichtet wird.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19712113553 DE2113553C3 (de) | 1971-03-20 | 1971-03-20 | Verfahren zur Herstellung eine Leiterbildes |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19712113553 DE2113553C3 (de) | 1971-03-20 | 1971-03-20 | Verfahren zur Herstellung eine Leiterbildes |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2113553A1 DE2113553A1 (de) | 1972-11-30 |
DE2113553B2 DE2113553B2 (de) | 1973-03-29 |
DE2113553C3 true DE2113553C3 (de) | 1973-10-18 |
Family
ID=5802224
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19712113553 Expired DE2113553C3 (de) | 1971-03-20 | 1971-03-20 | Verfahren zur Herstellung eine Leiterbildes |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE2113553C3 (de) |
-
1971
- 1971-03-20 DE DE19712113553 patent/DE2113553C3/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2113553A1 (de) | 1972-11-30 |
DE2113553B2 (de) | 1973-03-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0114565A1 (de) | Verfahren zum Herstellen eines Dekors an einem Glas, Gehäuse oder Zifferblatt eines Messinstrumentes | |
DE2727013A1 (de) | Stanzstempel und verfahren zur herstellung desselben | |
DE2215906A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von leitenden Präzisionsmaschengittern | |
DE3337300A1 (de) | Verfahren zum herstellen integrierter halbleiterschaltkreise | |
DE2113553C3 (de) | Verfahren zur Herstellung eine Leiterbildes | |
DE19628264A1 (de) | Verfahren zum Bilden eines Leitermusters und Verfahren zum Herstellen einer Leiterplatte | |
DE4447264B4 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Halbton-Phasenverschiebungsmaske | |
DE1194939C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Matrizen fuer elektronische Schaltungseinheiten | |
DE1572868A1 (de) | Einrichtung zur Erzeugung mehrerer Abbildungen | |
DE1123723B (de) | Verfahren zum Herstellen gedruckter Schaltungen | |
DE3320183A1 (de) | Verfahren zum herstellen gedruckter schaltungen | |
DE2122617C3 (de) | ||
DE102007020033B4 (de) | Verfahren zur Qualitätsbestimmung einer Lichtquelle | |
DE2005151A1 (de) | Lochmaske und Verfahren zum Vergrößern der Locher durch Atzen | |
DE2231614B2 (de) | Verfahren zur Herstellung gedruckter Schaltungen unter Verwendung eines Photopolymers als Maske sowie einer leitfähigen viskosen Dispersion oder Paste als Stromleiter und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens | |
DE1936775B2 (de) | Verfahren zur herstellung eines leiterbildes mit von geerdeten oder auf masse liegenden metallflaechen umgebenen leiterbahnen | |
EP1221072A1 (de) | Kontaktlochherstellung mit hilfe sich kreuzender phasensprungkanten einer einzigen phasenmaske | |
DE2546504A1 (de) | Verfahren zur herstellung eines teils eines lagemessumformers | |
DE1936775C (de) | Verfahren zur Herstellung eines Leiterbildes mit von geerdeten oder auf Masse liegenden Metallflächen umgebenen Leiter bahnen | |
DE472167C (de) | Verfahren zur Herstellung mehrerer voneinander deutlich unterschiedenen Rastertoene fuer Druckformen mittels Kopierens bei flaechenweiser Abdeckung | |
DE934864C (de) | Verfahren zur Herstellung von Druckformen fuer den Rakeltiefdruck | |
DE2204522A1 (de) | Schalt-tastaturkonsole | |
DE10231451A1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Kontaktlochbelichtung | |
DE2125091C3 (de) | Verfahren zum Herstellen von zusammenpassenden Photokopierschablonen | |
DE1916739B2 (de) | Verfahren zur Herstellung mehrlagiger gedruckter und/oder integrierter elektrischer Schaltungen sowie Vorrichtungen zur Durchführung des Verfahrens |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
E771 | Valid patent as to the heymanns-index 1977, willingness to grant licences | ||
8340 | Patent of addition ceased/non-payment of fee of main patent |